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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第113位 412件
(2013年:第95位 489件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第66位 549件
(2013年:第86位 460件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5502540 | リン酸エステル基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 | 2014年 5月28日 | |
特許 5502268 | システムインパッケージ型半導体装置用の樹脂組成物セット | 2014年 5月28日 | |
特許 5507888 | 単結晶ダイヤモンド層成長用基板及び単結晶ダイヤモンド基板の製造方法 | 2014年 5月28日 | |
特許 5507934 | ファラデー回転子とその製造方法 | 2014年 5月28日 | |
特許 5500101 | 塗布膜形成方法及び装置並びに太陽電池及びその製造方法 | 2014年 5月21日 | |
特許 5499963 | ピペラジニル基含有シラノール化合物水溶液及びその製造方法 | 2014年 5月21日 | |
特許 5499889 | スピロ環構造を有する酸脱離性エステル型単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 | 2014年 5月21日 | |
特許 5501092 | 光ラジカル硬化性樹脂組成物及び該組成物の製造方法 | 2014年 5月21日 | |
特許 5500037 | 難燃性オルガノポリシロキサン組成物 | 2014年 5月21日 | |
特許 5499774 | 光半導体封止用組成物及びそれを用いた光半導体装置 | 2014年 5月21日 | |
特許 5499312 | アルコール性水酸基を有する新規のポリイミドシリコーンおよびその製造方法 | 2014年 5月21日 | |
特許 5496468 | 溶解性と熱可逆ゲル化性が改善されたヒドロキシアルキルメチルセルロースの製造方法 | 2014年 5月21日 | |
特許 5500047 | 非水電解質二次電池用負極材及びその製造方法、ならびにリチウムイオン二次電池及び電気化学キャパシタ | 2014年 5月21日 | |
特許 5496608 | SOI基板の作製方法 | 2014年 5月21日 | |
特許 5496598 | シリコン薄膜転写絶縁性ウェーハの製造方法 | 2014年 5月21日 |
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5502540 5502268 5507888 5507934 5500101 5499963 5499889 5501092 5500037 5499774 5499312 5496468 5500047 5496608 5496598
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