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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第113位 412件 (2013年:第95位 489件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第66位 549件 (2013年:第86位 460件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5618888 | ペリクル及びペリクル膜の製造方法 | 2014年11月 5日 | |
特許 5617852 | 金属表面処理剤、金属表面処理鋼材及びその処理方法、並びに塗装鋼材及びその製造方法 | 2014年11月 5日 | |
特許 5614392 | シリコーン微粒子の製造方法 | 2014年10月29日 | |
特許 5615860 | 酸発生剤、化学増幅型レジスト材料、及びパターン形成方法 | 2014年10月29日 | |
特許 5614221 | 付加硬化性シリコーンゴム組成物及びその硬化物 | 2014年10月29日 | |
特許 5614372 | タイヤ用ゴム組成物 | 2014年10月29日 | |
特許 5614443 | 光パターン照射方法、フォトマスク及びフォトマスクブランク | 2014年10月29日 | 共同出願 |
特許 5611915 | 弾性表面波デバイス用圧電基板の製造方法 | 2014年10月22日 | |
特許 5609815 | ポジ型化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 | 2014年10月22日 | |
特許 5609775 | 酸化物蛍光粒子の製造方法及び発光デバイス | 2014年10月22日 | |
特許 5611907 | ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2014年10月22日 | |
特許 5611168 | 光ファイバの曲率の測定方法 | 2014年10月22日 | |
特許 5611652 | ネガ型レジスト材料、パターン形成方法及びフォトマスクブランク | 2014年10月22日 | |
特許 5609846 | 付加硬化型シリコーン接着剤組成物 | 2014年10月22日 | |
特許 5609816 | 多孔体表面に親水性被膜を保持させることができる透水防止被膜形成剤、これを用いた透水防止被膜及び被膜積層体、並びに該被膜または該積層体を備えた部材 | 2014年10月22日 |
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5618888 5617852 5614392 5615860 5614221 5614372 5614443 5611915 5609815 5609775 5611907 5611168 5611652 5609846 5609816
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11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月29日(金) - 東京 港区
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
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12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
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12月2日(月) - 滋賀 草津市
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