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信越化学工業株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第113位 412件
（
2013年：第95位 489件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第66位 549件
（
2013年：第86位 460件）
（ランキング更新日：2025年2月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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信越化学工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5585508 | 環状オレフィン付加重合体及びその製造方法 | 2014年 9月10日 | |
| 特許 5586316 | ＵＶオゾン洗浄装置 | 2014年 9月10日 | 共同出願 |
| 特許 5586560 | ペリクル収容容器 | 2014年 9月10日 | |
| 特許 5586559 | ペリクル収容容器 | 2014年 9月10日 | |
| 特許 5585627 | イオン伝導性高分子物質及びその製造方法並びにイオン伝導性高分子誘導体 | 2014年 9月10日 | |
| 特許 5585529 | 末端アルコキシ変性オルガノポリシロキサン及びその製造方法 | 2014年 9月10日 | |
| 特許 5581764 | シリコーンゴム組成物及び帯電防止性シリコーンゴム硬化物の耐圧縮永久歪性を向上する方法 | 2014年 9月 3日 | |
| 特許 5583710 | 新規オルガノポリシロキサン、これを含む化粧料及びオルガノポリシロキサンの製造方法 | 2014年 9月 3日 | |
| 特許 5583703 | 光半導体装置の製造方法 | 2014年 9月 3日 | |
| 特許 5582583 | ガラス母材の延伸方法及び延伸装置 | 2014年 9月 3日 | |
| 特許 5581662 | 化粧料 | 2014年 9月 3日 | |
| 特許 5584573 | ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2014年 9月 3日 | |
| 特許 5578044 | ポジ型リフトオフレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2014年 8月27日 | |
| 特許 5579553 | レジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、パターン形成方法 | 2014年 8月27日 | |
| 特許 5578131 | 熱硬化性フルオロポリエーテル系接着剤組成物及びその接着方法 | 2014年 8月27日 |
549 件中 121-135 件を表示
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5585508 5586316 5586560 5586559 5585627 5585529 5581764 5583710 5583703 5582583 5581662 5584573 5578044 5579553 5578131
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