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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第547位 66件 (2010年:第406位 107件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第532位 60件 (2010年:第555位 49件)
(ランキング更新日:2024年9月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-181503 | 飛行時間型質量分析方法及び装置 | 2011年 9月15日 | |
特開 2011-170207 | 微細構造物の製造方法 | 2011年 9月 1日 | 共同出願 |
特開 2011-171218 | エネルギーフィルタを備えた走査透過電子顕微鏡 | 2011年 9月 1日 | |
特開 2011-163999 | 走査型プローブ顕微鏡用高周波磁場発生装置 | 2011年 8月25日 | |
特開 2011-165735 | 電子ビーム描画装置の描画方法及び電子ビーム描画装置 | 2011年 8月25日 | |
特開 2011-164006 | 走査型プローブ顕微鏡 | 2011年 8月25日 | |
特開 2011-164055 | NMR装置用自動試料交換装置 | 2011年 8月25日 | |
特開 2011-159563 | 透過電子顕微鏡の制御装置、透過電子顕微鏡システム、透過電子顕微鏡の制御方法、およびプログラム | 2011年 8月18日 | |
特開 2011-153846 | X線検出装置 | 2011年 8月11日 | |
特開 2011-146287 | 飛行時間型質量分析装置 | 2011年 7月28日 | |
特開 2011-141298 | NMRデータの処理装置及び方法 | 2011年 7月21日 | 共同出願 |
特開 2011-141162 | 固体NMRスペクトルの測定方法 | 2011年 7月21日 | |
特開 2011-134931 | 半導体検査装置のレシピ設定支援方法及び装置 | 2011年 7月 7日 | |
特開 2011-128478 | マスクパターン描画方法及び装置 | 2011年 6月30日 | |
特開 2011-129343 | 荷電粒子線装置の試料ホルダ | 2011年 6月30日 |
66 件中 16-30 件を表示
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2011-181503 2011-170207 2011-171218 2011-163999 2011-165735 2011-164006 2011-164055 2011-159563 2011-153846 2011-146287 2011-141298 2011-141162 2011-134931 2011-128478 2011-129343
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