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ルネサスエレクトロニクス株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第29位 1347件
（
2011年：第22位 1823件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第28位 1067件
（2011年：第26位 1109件）
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ルネサスエレクトロニクス株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5106513 | 薄膜磁性体記憶装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107959 | 基板 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5106747 | パターン形成方法、半導体装置の製造方法及び露光用マスクセット | 2012年12月26日 | |
| 特許 5106942 | メモリリード制御回路 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107541 | 絶縁膜形成方法および半導体装置の製造方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5110783 | 半導体装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107627 | 半導体ウェーハ、および、それを用いた半導体装置の製造方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5111191 | データ処理装置、画像符号化復号装置、データ処理システム及び画像処理装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107839 | 半導体装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107128 | 半導体装置の製造方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5111057 | 制御装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5108690 | ＤＭＡ装置及びＤＭＡ転送方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107532 | シミュレーション方法およびシミュレーションシステム、ならびにマスクパターンの修正方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5108408 | 半導体装置及びその製造方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107080 | 半導体装置 | 2012年12月26日 |
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5106513 5107959 5106747 5106942 5107541 5110783 5107627 5111191 5107839 5107128 5111057 5108690 5107532 5108408 5107080
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12月10日(火) - 東京 港区
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ビジネスの実務で役立つ技術契約の基礎知識と実例 ～秘密保持契約、共同研究開発、共同出願契約、製造委託契約、特許ライセンス契約～
12月12日(木) - 東京 千代田
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12月12日(木) -
12月13日(金) - 東京 23区
12月13日(金) - 東京 品川
12月13日(金) -
12月13日(金) -
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12月10日(火) - 東京 港区
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