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ＪＸ日鉱日石金属株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第215位 199件
（
2010年：第1800位 14件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第185位 194件
（2010年：第841位 28件）
（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ＪＸ日鉱日石金属株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4830035 | 電子材料用Ｃｕ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金及びその製造方法 | 2011年12月 7日 | |
| 特許 4827033 | 表面欠陥の少ないスパッタリングターゲット及びその表面加工方法 | 2011年11月30日 | |
| 特許 4828529 | スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2011年11月30日 | |
| 特許 4823386 | 透明導電膜製造用の酸化物焼結体 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4822720 | アノード鋳造方法及びアノード鋳造装置 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4823175 | 焼却灰処理システム | 2011年11月24日 | |
| 特許 4823486 | 耐ペスト性に優れたＭｏＳｉ２を主成分とするヒーター及びその製造方法 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4822519 | 半導体ウェハーの前処理剤及び前処理方法 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4820228 | Ｓｎめっきの耐熱剥離性に優れるＣｕ−Ｚｎ−Ｓｎ系合金条及びそのＳｎめっき条 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4819199 | パーティクル発生の少ない強磁性材スパッタリングターゲット | 2011年11月24日 | |
| 特許 4817137 | スパッタリングターゲット及び光記録媒体 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4817005 | 銅転炉ダストの処理方法 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4813182 | ＩＴＯスパッタリングターゲット | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4813814 | Ｃｕ−Ｎｉ−Ｓｉ系銅合金及びその製造方法 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4809382 | 無電解Ｎｉめっき廃液からのＮｉの回収方法 | 2011年11月 9日 |
194 件中 16-30 件を表示
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4830035 4827033 4828529 4823386 4822720 4823175 4823486 4822519 4820228 4819199 4817137 4817005 4813182 4813814 4809382
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