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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第514位 67件 (2013年:第573位 66件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第831位 35件 (2013年:第874位 34件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2014-122319 | メタルハードマスクの除去のための方法および組成物 | 2014年 7月 3日 | |
特開 2014-123155 | 液浸リソグラフィーのための組成物および方法 | 2014年 7月 3日 | |
特開 2014-111763 | 自己組織化構造、その製造方法およびそれを含む物品 | 2014年 6月19日 | 共同出願 |
特開 2014-102504 | 自己組織化構造、その製造方法およびそれを含む物品 | 2014年 6月 5日 | 共同出願 |
特開 2014-102503 | 自己組織化構造、その製造方法およびそれを含む物品 | 2014年 6月 5日 | 共同出願 |
特開 2014-101512 | 自己組織化構造、その製造方法およびそれを含む物品 | 2014年 6月 5日 | 共同出願 |
特開 2014-98897 | フォトレジストに使用するための熱酸発生剤 | 2014年 5月29日 | |
特開 2014-99590 | インクジェット印刷可能なエッチングレジスト | 2014年 5月29日 | |
特開 2014-97969 | オニウム化合物およびその合成方法 | 2014年 5月29日 | |
特開 2014-95149 | 薄いスズのスズめっき | 2014年 5月22日 | |
特開 2014-88618 | 無電解めっきのための方法およびそのために使用される溶液 | 2014年 5月15日 | |
特開 2014-81659 | ノボラック樹脂ブレンドを含むフォトレジスト | 2014年 5月 8日 | |
特開 2014-74934 | 液浸リソグラフィーのための組成物および方法 | 2014年 4月24日 | |
特開 2014-70278 | 無電解金属化のための方法 | 2014年 4月21日 | |
特開 2014-67029 | 酸発生剤化合物およびそれを含むフォトレジスト | 2014年 4月17日 |
67 件中 31-45 件を表示
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2014-122319 2014-123155 2014-111763 2014-102504 2014-102503 2014-101512 2014-98897 2014-99590 2014-97969 2014-95149 2014-88618 2014-81659 2014-74934 2014-70278 2014-67029
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