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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第514位 67件 (2013年:第573位 66件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第831位 35件 (2013年:第874位 34件)
(ランキング更新日:2024年9月30日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2014-67029 | 酸発生剤化合物およびそれを含むフォトレジスト | 2014年 4月17日 | |
特開 2014-62253 | ハードマスク | 2014年 4月10日 | |
特開 2014-63160 | 酸発生剤化合物およびそれを含むフォトレジスト | 2014年 4月10日 | 共同出願 |
特開 2014-60394 | 入射光の反射率を低減させるための単結晶半導体基体のテクスチャー化 | 2014年 4月 3日 | |
特開 2014-55291 | 基体上にパターンを調製するための組成物および方法 | 2014年 3月27日 | 共同出願 |
特開 2014-55354 | 銀ミニワイヤ膜を製造する方法 | 2014年 3月27日 | |
特開 2014-53291 | 高アスペクト比銀ナノワイヤを製造する方法 | 2014年 3月20日 | |
特開 2014-41375 | 新規なポリマーおよびフォトレジスト組成物 | 2014年 3月 6日 | |
特開 2014-37342 | 熱アニーリング方法 | 2014年 2月27日 | 共同出願 |
特開 2014-37634 | 基体上に金属層を堆積させるためのメッキ浴および方法 | 2014年 2月27日 | |
特開 2014-32407 | フォトレジスト組成物およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 | 2014年 2月20日 | |
特開 2014-30015 | 蒸気送達装置、その製造方法およびその使用方法 | 2014年 2月13日 | |
特開 2014-19871 | 高温熱アニーリング方法 | 2014年 2月 3日 | 共同出願 |
特開 2014-19872 | 蛍光体およびこれを含む発光素子 | 2014年 2月 3日 | |
特開 2014-16643 | 液浸リソグラフィーのための組成物および方法 | 2014年 1月30日 |
67 件中 46-60 件を表示
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2014-67029 2014-62253 2014-63160 2014-60394 2014-55291 2014-55354 2014-53291 2014-41375 2014-37342 2014-37634 2014-32407 2014-30015 2014-19871 2014-19872 2014-16643
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