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キヤノンアネルバ株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第724位 46件
（
2012年：第347位 119件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第654位 50件
（
2012年：第926位 32件）
（ランキング更新日：2025年2月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5295994 | 基板処理装置及び基板処理装置におけるアーキング発生監視方法 | 2013年 9月18日 | |
| 特許 5289035 | スパッタリング装置 | 2013年 9月11日 | |
| 特許 5280459 | スパッタリング装置 | 2013年 9月 4日 | |
| 特許 5280522 | 識別情報設定装置、および識別情報設定方法 | 2013年 9月 4日 | |
| 特許 5276121 | 真空処理装置及び光学部品の製造方法 | 2013年 8月28日 | |
| 特許 5270751 | プラズマ処理装置および磁気記録媒体の製造方法 | 2013年 8月21日 | |
| 特許 5260225 | 磁気抵抗効果素子の製造方法 | 2013年 8月14日 | |
| 特許 5259626 | スパッタ装置、スパッタ成膜方法 | 2013年 8月 7日 | |
| 特許 5253513 | 多層膜スパッタリング装置及び多層膜形成方法 | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5249351 | ラック・アンド・ピニオン機構、真空処理装置、ラック・アンド・ピニオン機構の駆動制御方法、駆動制御プログラム及び記録媒体 | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5249328 | 薄膜の成膜方法 | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5253517 | 真空処理装置のデータ収集システム | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5247619 | 誘電体膜、誘電体膜を用いた半導体装置の製造方法及び半導体製造装置 | 2013年 7月24日 | |
| 特許 5247847 | 成膜装置及び成膜装置用ストックチャンバー | 2013年 7月24日 | |
| 特許 5238823 | 半導体記憶素子の製造方法、及びスパッタ装置 | 2013年 7月17日 |
50 件中 16-30 件を表示
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5295994 5289035 5280459 5280522 5276121 5270751 5260225 5259626 5253513 5249351 5249328 5253517 5247619 5247847 5238823
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