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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第80位 531件 (2011年:第54位 677件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第78位 484件 (2011年:第39位 754件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5066626 | 携帯機器用カバーガラスのガラス基材及び携帯機器用カバーガラス | 2012年11月 7日 | |
特許 5069649 | フツリン酸ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子ブランクおよび光学素子とそれら製造方法 | 2012年11月 7日 | |
特許 5066410 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | 2012年11月 7日 | 共同出願 |
特許 5066617 | 携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材およびその製造方法 | 2012年11月 7日 | |
特許 5070259 | イオン交換処理ガラス製造方法、化学強化ガラス製造方法およびイオン交換処理装置 | 2012年11月 7日 | |
特許 5068258 | 情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体とそれらの製造方法 | 2012年11月 7日 | |
特許 5066625 | 携帯機器用カバーガラスのガラス基材及び携帯機器用カバーガラス | 2012年11月 7日 | |
特許 5063537 | フツリン酸ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子ブランクおよび光学素子とそれら製造方法 | 2012年10月31日 | |
特許 5064271 | レンズ鏡筒 | 2012年10月31日 | |
特許 5060039 | ポリチオールオリゴマーの製造方法 | 2012年10月31日 | |
特許 5060036 | ポリチオールオリゴマーの製造方法 | 2012年10月31日 | |
特許 5064116 | フォトマスクの検査方法、フォトマスクの製造方法及び電子部品の製造方法 | 2012年10月31日 | |
特許 5058207 | 精密プレス成形用の光学ガラス | 2012年10月24日 | |
特許 5054766 | フォトマスクブランク及びフォトマスク | 2012年10月24日 | |
特許 5057863 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、および磁気ディスク | 2012年10月24日 | 共同出願 |
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5066626 5069649 5066410 5066617 5070259 5068258 5066625 5063537 5064271 5060039 5060036 5064116 5058207 5054766 5057863
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11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月29日(金) - 東京 港区
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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