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東京エレクトロン株式会社

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  2013年 出願公開件数ランキング    第60位 712件 下降2012年:第53位 714件)

  2013年 特許取得件数ランキング    第45位 796件 下降2012年:第37位 902件)

(ランキング更新日:2020年7月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2013-258383 成膜方法 2013年12月26日
特開 2013-258268 基板載置台及び基板処理装置 2013年12月26日
特開 2013-258270 基板載置台及び基板処理装置 2013年12月26日
特開 2013-258409 誘導結合プラズマ処理装置 2013年12月26日
特表 2013-546182 マイクロ波プラズマを用いる誘電膜堆積方法 2013年12月26日 共同出願
特開 2013-258389 クーリング機構及び処理システム 2013年12月26日
特開 2013-258307 プラズマ処理装置、プラズマ生成装置、アンテナ構造体、及びプラズマ生成方法 2013年12月26日
特開 2013-257189 温度測定装置及び処理装置 2013年12月26日
特開 2013-258244 エッチング方法及びプラズマ処理装置 2013年12月26日
特開 2013-257977 プラズマ処理装置及びプローブ装置 2013年12月26日
特開 2013-258098 プラズマ処理装置、プラズマ生成装置、アンテナ構造体、及びプラズマ生成方法 2013年12月26日
特開 2013-258260 基板搬送方法及び基板搬送装置 2013年12月26日
特開 2013-254778 縦型熱処理装置及び縦型熱処理装置の運転方法 2013年12月19日
特開 2013-254959 液処理装置および液処理方法 2013年12月19日
特開 2013-254812 ウエハ検査用インターフェース及びウエハ検査装置 2013年12月19日

712 件中 1-15 件を表示

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2013-258383 2013-258268 2013-258270 2013-258409 2013-546182 2013-258389 2013-258307 2013-257189 2013-258244 2013-257977 2013-258098 2013-258260 2013-254778 2013-254959 2013-254812

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