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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2024年12月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2014-241382 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 | 2014年12月25日 | |
| 特開 2014-241319 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2014年12月25日 | |
| 特開 2014-237557 | カーボンナノチューブ成長方法 | 2014年12月18日 | |
| 特開 2014-237866 | マグネトロンスパッタ装置 | 2014年12月18日 | |
| 特開 2014-239195 | 基板処理方法、基板処理装置及び記憶媒体 | 2014年12月18日 | |
| 特表 2014-534641 | スパイクアニールプロセスを制御する方法及びシステム | 2014年12月18日 | |
| 特開 2014-239182 | 微細構造形成方法、半導体デバイスの製造方法、及びＣＭＯＳの形成方法 | 2014年12月18日 | 共同出願 |
| 特開 2014-238194 | 乾燥装置及び乾燥処理方法 | 2014年12月18日 | 共同出願 |
| 特開 2014-238341 | 測定対象物の厚さ計測方法 | 2014年12月18日 | |
| 特開 2014-236081 | 液処理装置 | 2014年12月15日 | |
| 特開 2014-236055 | エッチング方法 | 2014年12月15日 | 共同出願 |
| 特開 2014-236148 | 有機分子膜の形成装置および形成方法 | 2014年12月15日 | |
| 特開 2014-236111 | 有機半導体膜、その製造方法及びトランジスタ構造 | 2014年12月15日 | |
| 特開 2014-236060 | 冷却システム、冷却方法、および基板処理装置 | 2014年12月15日 | 共同出願 |
| 特開 2014-236069 | 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 | 2014年12月15日 |
685 件中 1-15 件を表示
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2014-241382 2014-241319 2014-237557 2014-237866 2014-239195 2014-534641 2014-239182 2014-238194 2014-238341 2014-236081 2014-236055 2014-236148 2014-236111 2014-236060 2014-236069
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12月10日(火) - 東京 港区
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12月11日(水) - 東京 港区
12月11日(水) -
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12月11日(水) -
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12月12日(木) -
12月12日(木) - 東京 港区
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ビジネスの実務で役立つ技術契約の基礎知識と実例 ～秘密保持契約、共同研究開発、共同出願契約、製造委託契約、特許ライセンス契約～
12月12日(木) - 東京 千代田
12月12日(木) -
12月12日(木) -
12月13日(金) - 東京 23区
12月13日(金) - 東京 品川
12月13日(金) -
12月13日(金) -
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12月10日(火) - 東京 港区
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