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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2014-140030 | 液処理装置、液処理方法及び液処理用記憶媒体 | 2014年 7月31日 | |
| 特開 2014-140029 | 液処理装置、液処理方法及び液処理用記憶媒体 | 2014年 7月31日 | |
| 特開 2014-140011 | 液処理装置、液処理方法及び液処理用記憶媒体 | 2014年 7月31日 | |
| 特開 2014-140010 | 液処理装置、液処理方法及び液処理用記憶媒体 | 2014年 7月31日 | |
| 特開 2014-140001 | 液処理装置、液処理方法及び液処理用記憶媒体 | 2014年 7月31日 | |
| 特開 2014-139989 | 接着方法、載置台及び基板処理装置 | 2014年 7月31日 | |
| 特開 2014-140018 | 成膜方法 | 2014年 7月31日 | |
| 特開 2014-139550 | 基板検査装置 | 2014年 7月31日 | |
| 特開 2014-140085 | 基板洗浄システム、基板洗浄方法および記憶媒体 | 2014年 7月31日 | |
| 特開 2014-140013 | 薄膜形成方法および薄膜形成装置 | 2014年 7月31日 | |
| 特開 2014-140003 | 基板熱処理装置、基板熱処理方法及び基板熱処理用記録媒体 | 2014年 7月31日 | |
| 特開 2014-137275 | 圧力測定器及びその圧力測定器を備える基板処理装置 | 2014年 7月28日 | |
| 再表 2012-141203 | 検査装置、検査システム及び検査方法 | 2014年 7月28日 | |
| 特開 2014-138118 | 貫通ヴィアの形成方法および電子製品の製造方法 | 2014年 7月28日 | |
| 特開 2014-137911 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の運転方法 | 2014年 7月28日 |
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2014-140030 2014-140029 2014-140011 2014-140010 2014-140001 2014-139989 2014-140018 2014-139550 2014-140085 2014-140013 2014-140003 2014-137275 2012-141203 2014-138118 2014-137911
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