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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2014-133923 | 保持装置、成膜装置及び搬送方法 | 2014年 7月24日 | |
| 再表 2012-127982 | 成膜装置、成膜方法、有機発光素子の製造方法、及び有機発光素子 | 2014年 7月24日 | |
| 特開 2014-135511 | 基板処理システム、基板搬送方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2014年 7月24日 | |
| 特開 2014-135512 | プラズマエッチング方法 | 2014年 7月24日 | |
| 特開 2014-135501 | 液処理装置 | 2014年 7月24日 | |
| 特開 2014-135362 | 半導体製造装置及び半導体製造装置の制御装置 | 2014年 7月24日 | |
| 特開 2014-132674 | 支持体構造及び処理装置 | 2014年 7月17日 | |
| 特開 2014-132101 | 成膜装置及び成膜方法 | 2014年 7月17日 | |
| 特開 2014-132672 | 基板処理装置、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2014年 7月17日 | |
| 特開 2014-132667 | 基板搬送装置、基板搬送方法及びその基板搬送方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 | 2014年 7月17日 | |
| 特開 2014-130924 | プラズマ処理容器及びプラズマ処理装置 | 2014年 7月10日 | |
| 特開 2014-130954 | 液処理装置および薬液回収方法 | 2014年 7月10日 | |
| 特開 2014-130945 | 基板処理装置 | 2014年 7月10日 | |
| 特開 2014-130940 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2014年 7月10日 | |
| 特開 2014-130935 | 基板処理装置を洗浄するための洗浄治具および洗浄方法、および基板処理システム | 2014年 7月10日 |
685 件中 271-285 件を表示
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2014-133923 2012-127982 2014-135511 2014-135512 2014-135501 2014-135362 2014-132674 2014-132101 2014-132672 2014-132667 2014-130924 2014-130954 2014-130945 2014-130940 2014-130935
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