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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第60位 712件
(2012年:第53位 714件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第45位 796件
(2012年:第37位 902件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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再表 2011-40328 | 表面波プラズマ発生用アンテナ、マイクロ波導入機構、および表面波プラズマ処理装置 | 2013年 2月28日 | |
特開 2013-42145 | プラズマ処理装置 | 2013年 2月28日 | |
特開 2013-42144 | 載置台構造及び熱処理装置 | 2013年 2月28日 | |
特開 2013-42012 | 半導体製造装置及び処理方法 | 2013年 2月28日 | |
特開 2013-41896 | 半導体装置の製造方法及び半導体装置 | 2013年 2月28日 | |
特開 2013-41879 | 成膜方法、これを含む半導体装置の製造方法、成膜装置、及び半導体装置 | 2013年 2月28日 | |
特開 2013-41872 | プラズマ処理装置 | 2013年 2月28日 | |
特表 2013-506986 | 半導体デバイス、半導体デバイスの製造方法および半導体デバイスの製造装置 | 2013年 2月28日 | |
特表 2013-506313 | 基板上のシリコン含有反射防止コーティング層の再加工方法 | 2013年 2月21日 | 共同出願 |
特開 2013-38126 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | 2013年 2月21日 | |
特開 2013-38128 | 熱処理装置 | 2013年 2月21日 | |
特開 2013-37627 | 温度制御方法、その温度制御方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体、温度制御システム及び熱処理装置 | 2013年 2月21日 | |
特開 2013-38423 | パターン欠陥を低減するための複数回化学的処理プロセス | 2013年 2月21日 | |
特開 2013-38261 | パーティクルモニタ方法、パーティクルモニタ装置 | 2013年 2月21日 | |
特開 2013-38194 | 有機トランジスタ及びその製造方法 | 2013年 2月21日 |
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2011-40328 2013-42145 2013-42144 2013-42012 2013-41896 2013-41879 2013-41872 2013-506986 2013-506313 2013-38126 2013-38128 2013-37627 2013-38423 2013-38261 2013-38194
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【特許のはなし・生成系AIのリスクのはなし】~特許の使い方・使える特許の作り方と、生成系AIを業務で使う場合のリスクと対応策について~
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