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東京エレクトロン株式会社

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  2012年 出願公開件数ランキング    第53位 714件 上昇2011年:第62位 621件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第37位 902件 上昇2011年:第41位 739件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2012-216614 基板処理装置 2012年11月 8日
特開 2012-216852 基板処理装置の制御装置 2012年11月 8日
特開 2012-216639 プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び記憶媒体 2012年11月 8日
特開 2012-216823 ガス吐出機能付電極およびプラズマ処理装置 2012年11月 8日
特開 2012-216633 プラズマ窒化処理方法、プラズマ窒化処理装置および半導体装置の製造方法 2012年11月 8日
特開 2012-216634 基板受け渡し装置、基板受け渡し方法及び基板処理装置 2012年11月 8日
特開 2012-216525 プラズマ処理装置及びプラズマ発生用アンテナ 2012年11月 8日
特開 2012-216607 天井電極板及び基板処理載置 2012年11月 8日
特開 2012-216636 基板洗浄装置及び真空処理システム 2012年11月 8日 共同出願
特開 2012-216630 コンディショニング方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体及び基板処理装置 2012年11月 8日
特開 2012-216765 Cu配線の形成方法および成膜システム 2012年11月 8日
特開 2012-216752 ロードロックモジュール、ウエハ加工処理システム及びウエハの加工処理方法 2012年11月 8日
特開 2012-212887 レジストの光学特性を変化させる方法及び装置 2012年11月 1日
特開 2012-212709 基板除去方法及び記憶媒体 2012年11月 1日
特開 2012-212873 電極製造装置、電極製造方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2012年11月 1日 共同出願

714 件中 91-105 件を表示

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2012-216614 2012-216852 2012-216639 2012-216823 2012-216633 2012-216634 2012-216525 2012-216607 2012-216636 2012-216630 2012-216765 2012-216752 2012-212887 2012-212709 2012-212873

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