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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2024年12月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4847496 | 蒸着源ユニット、蒸着方法、蒸着源ユニットの制御装置および成膜装置 | 2011年12月28日 | |
| 特許 4845668 | 複合配管及び複合配管を備える塗布・現像処理装置 | 2011年12月28日 | |
| 特許 4845204 | 塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法 | 2011年12月28日 | |
| 特許 4849004 | 加熱装置、加熱方法及び塗布、現像装置並びに記憶媒体 | 2011年12月28日 | |
| 特許 4846190 | プラズマ処理装置およびその制御方法 | 2011年12月28日 | |
| 特許 4845385 | 成膜装置 | 2011年12月28日 | |
| 特許 4846943 | ウエハ搬送具及びウエハ搬送システム | 2011年12月28日 | |
| 特許 4845782 | 成膜原料 | 2011年12月28日 | |
| 特許 4847046 | 熱処理装置 | 2011年12月28日 | |
| 特許 4847909 | プラズマ処理方法及び装置 | 2011年12月28日 | |
| 特許 4847332 | 誘電体膜を処理するための方法とシステム | 2011年12月28日 | |
| 特許 4848376 | 高圧処理システム用超臨界流体均質化方法及びシステム | 2011年12月28日 | 共同出願 |
| 特許 4844261 | 成膜方法及び成膜装置並びに記憶媒体 | 2011年12月28日 | |
| 特許 4844167 | 冷却ブロック及びプラズマ処理装置 | 2011年12月28日 | |
| 特許 4846008 | 現像処理装置及び現像処理方法 | 2011年12月28日 |
739 件中 1-15 件を表示
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4847496 4845668 4845204 4849004 4846190 4845385 4846943 4845782 4847046 4847909 4847332 4848376 4844261 4844167 4846008
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12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
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12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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12月10日(火) - 東京 港区
12月10日(火) -
12月10日(火) - 東京 港区
12月11日(水) - 東京 港区
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12月11日(水) -
12月11日(水) -
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12月12日(木) - 東京 港区
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ビジネスの実務で役立つ技術契約の基礎知識と実例 ～秘密保持契約、共同研究開発、共同出願契約、製造委託契約、特許ライセンス契約～
12月12日(木) - 東京 千代田
12月12日(木) -
12月12日(木) -
12月13日(金) - 東京 23区
12月13日(金) - 東京 品川
12月13日(金) -
12月13日(金) -
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