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東京エレクトロン株式会社

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  2019年 出願公開件数ランキング    第58位 660件 上昇2018年:第67位 588件)

  2019年 特許取得件数ランキング    第58位 415件 下降2018年:第50位 503件)

(ランキング更新日:2020年2月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6623511 プラズマ処理装置 2019年12月25日
特許 6623943 半導体装置の製造方法、熱処理装置及び記憶媒体。 2019年12月25日
特許 6624833 マイクロ波プラズマ源およびプラズマ処理装置 2019年12月25日
特許 6624998 ボロンドープシリコンゲルマニウム膜の形成方法および形成装置 2019年12月25日
特許 6625005 温度測定方法 2019年12月25日
特許 6625122 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 2019年12月25日
特許 6625200 半導体装置の製造方法 2019年12月25日
特許 6625423 ウエハ検査装置及びそのメンテナンス方法 2019年12月25日
特許 6625597 搬送チャンバ 2019年12月25日
特許 6625714 基板処理装置 2019年12月25日
特許 6626734 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 2019年12月25日
特許 6626753 被加工物の処理装置 2019年12月25日
特許 6626800 プラズマ処理装置のシャワープレートを検査する方法 2019年12月25日
特許 6621882 エッチング装置 2019年12月18日
特許 6617649 被処理基板の載置位置の設定方法及び成膜システム 2019年12月11日

418 件中 1-15 件を表示

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  2. 6623511 6623943 6624833 6624998 6625005 6625122 6625200 6625423 6625597 6625714 6626734 6626753 6626800 6621882 6617649

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