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東京エレクトロン株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第60位 712件
（
2012年：第53位 714件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第45位 796件
（2012年：第37位 902件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5324026 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置の制御方法 | 2013年10月23日 | |
| 特許 5324029 | 半導体加工装置用セラミック被覆部材 | 2013年10月23日 | 共同出願 |
| 特許 5324137 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2013年10月23日 | 共同出願 |
| 特許 5323303 | プラズマ処理装置 | 2013年10月23日 | 共同出願 |
| 特許 5324138 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2013年10月23日 | 共同出願 |
| 特許 5323867 | 基板反転装置、基板反転方法、剥離システム、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2013年10月23日 | |
| 特許 5323724 | 基板処理システム | 2013年10月23日 | |
| 特許 5323661 | 枚葉式の基板液処理装置における循環ラインの液交換方法 | 2013年10月23日 | |
| 特許 5323306 | プラズマエッチング方法およびコンピュータ読取可能な記憶媒体 | 2013年10月23日 | |
| 特許 5325907 | 局所露光装置 | 2013年10月23日 | |
| 特許 5323628 | プラズマ処理装置 | 2013年10月23日 | |
| 特許 5322847 | 加熱処理装置及び熱処理装置 | 2013年10月23日 | |
| 特許 5323775 | 基板処理装置 | 2013年10月23日 | |
| 特許 5320171 | 基板処理装置 | 2013年10月23日 | |
| 特許 5320383 | 基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2013年10月23日 |
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5324026 5324029 5324137 5323303 5324138 5323867 5323724 5323661 5323306 5325907 5323628 5322847 5323775 5320171 5320383
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