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東京エレクトロン株式会社

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  2011年 出願公開件数ランキング    第62位 621件 下降2010年:第57位 692件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第41位 739件 下降2010年:第39位 580件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 4758846 乾燥装置、乾燥方法、及び乾燥プログラム、並びに、これらを有する基板処理装置、基板処理方法、及び基板処理プログラム 2011年 8月31日
特許 4761774 温度/厚さ測定装置,温度/厚さ測定方法,温度/厚さ測定システム,制御システム,制御方法 2011年 8月31日
特許 4761740 マイクロレンズの形成方法 2011年 8月31日
特許 4763763 レジスト塗布現像処理システム 2011年 8月31日
特許 4763235 プラズマ処理のための装置並びに方法 2011年 8月31日
特許 4762998 処理方法及び記録媒体 2011年 8月31日
特許 4762835 基板処理方法、基板処理装置、プログラムおよびプログラム記録媒体 2011年 8月31日
特許 4762743 熱処理装置 2011年 8月31日
特許 4761381 薄膜除去装置及び薄膜除去方法 2011年 8月31日
特許 4760919 塗布、現像装置 2011年 8月31日
特許 4759916 処理装置 2011年 8月31日
特許 4757403 固体原料気化装置 2011年 8月24日 共同出願
特許 4756540 プラズマ処理装置と方法 2011年 8月24日 共同出願
特許 4756076 基板処理システム 2011年 8月24日
特許 4754757 基板のプラズマ処理を調節するための方法、プラズマ処理システム、及び、電極組体 2011年 8月24日

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4758846 4761774 4761740 4763763 4763235 4762998 4762835 4762743 4761381 4760919 4759916 4757403 4756540 4756076 4754757

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