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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件 (2010年:第57位 692件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 4736564 | 載置台装置の取付構造及び処理装置 | 2011年 7月27日 | |
特許 4735095 | リモートプラズマ発生ユニットの電界分布測定装置、リモートプラズマ発生ユニット、処理装置及びリモートプラズマ発生ユニットの特性調整方法 | 2011年 7月27日 | |
特許 4732787 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2011年 7月27日 | |
特許 4732469 | 表面処理方法及びその装置 | 2011年 7月27日 | |
特許 4732351 | 処理装置及びヒーターユニット | 2011年 7月27日 | |
特許 4731760 | 真空処理装置および真空処理方法 | 2011年 7月27日 | |
特許 4731580 | 成膜方法および成膜装置 | 2011年 7月27日 | |
特許 4736938 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2011年 7月27日 | |
特許 4734063 | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法。 | 2011年 7月27日 | |
特許 4733214 | マスクパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法 | 2011年 7月27日 | |
特許 4732475 | 表面処理方法及びその装置 | 2011年 7月27日 | |
特許 4731755 | 移載装置の制御方法および熱処理方法並びに熱処理装置 | 2011年 7月27日 | |
特許 4731694 | 半導体装置の製造方法および基板処理装置 | 2011年 7月27日 | |
特許 4731650 | 半導体製造機器の換気方法及び換気設備 | 2011年 7月27日 | |
特許 4727810 | 被処理体の真空保持装置 | 2011年 7月20日 |
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4736564 4735095 4732787 4732469 4732351 4731760 4731580 4736938 4734063 4733214 4732475 4731755 4731694 4731650 4727810
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12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月29日(金) - 東京 港区
12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる!株式会社リコーによるシーズ発表会 ~リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか?~
12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
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12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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