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東京エレクトロン株式会社

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  2011年 出願公開件数ランキング    第62位 621件 下降2010年:第57位 692件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第41位 739件 下降2010年:第39位 580件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 4736564 載置台装置の取付構造及び処理装置 2011年 7月27日
特許 4735095 リモートプラズマ発生ユニットの電界分布測定装置、リモートプラズマ発生ユニット、処理装置及びリモートプラズマ発生ユニットの特性調整方法 2011年 7月27日
特許 4732787 プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 2011年 7月27日
特許 4732469 表面処理方法及びその装置 2011年 7月27日
特許 4732351 処理装置及びヒーターユニット 2011年 7月27日
特許 4731760 真空処理装置および真空処理方法 2011年 7月27日
特許 4731580 成膜方法および成膜装置 2011年 7月27日
特許 4736938 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 2011年 7月27日
特許 4734063 基板洗浄装置及び基板洗浄方法。 2011年 7月27日
特許 4733214 マスクパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法 2011年 7月27日
特許 4732475 表面処理方法及びその装置 2011年 7月27日
特許 4731755 移載装置の制御方法および熱処理方法並びに熱処理装置 2011年 7月27日
特許 4731694 半導体装置の製造方法および基板処理装置 2011年 7月27日
特許 4731650 半導体製造機器の換気方法及び換気設備 2011年 7月27日
特許 4727810 被処理体の真空保持装置 2011年 7月20日

739 件中 376-390 件を表示

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4736564 4735095 4732787 4732469 4732351 4731760 4731580 4736938 4734063 4733214 4732475 4731755 4731694 4731650 4727810

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