ホーム > 特許ランキング > ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド > 2011年 > 特許一覧
ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド
※ ログインすれば出願人(ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第315位 126件
（
2010年：第220位 232件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第469位 69件
（
2010年：第598位 45件）
（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4700196 | 端正な断面を有する大面積低質量のＩＲピクセル | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4700073 | 鉛蓄電池の容量劣化の方法および装置 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4703745 | フォトリソグラフィ用のスピンオングラス反射防止コーティング | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4695264 | 硫酸塩化された鉛蓄電池の自動再生装置および方法 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4698839 | 金属／セラミックコンポジットモールディング材料 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4690412 | 受動型複動式真空作動ベントバルブ | 2011年 6月 1日 | |
| 特許 4694097 | 対地接近警報装置用デルタ高さバイアス及び地表生成装置 | 2011年 6月 1日 | |
| 特許 4684419 | 光学ファイバジャイロスコープ用の耐環境に優れた偏光解消素子 | 2011年 5月18日 | |
| 特許 4683918 | フィルタ中心決定のための方法および装置 | 2011年 5月18日 | |
| 特許 4673842 | ＲＴＭ系におけるピッチ／熱可塑性／熱硬化性樹脂の改良された放出 | 2011年 4月20日 | |
| 特許 4667377 | 動的な遠隔バイオメトリック照合のためのシステムおよび方法 | 2011年 4月13日 | |
| 特許 4664971 | 多チャンネル赤外線センサを使用した薄膜厚さの測定 | 2011年 4月 6日 | |
| 特許 4662718 | 集積回路用途用の低金属多孔質シリカ誘電体 | 2011年 3月30日 | |
| 特許 4646973 | 照明器具 | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4642778 | 高速挿入の手段および方法 | 2011年 3月 2日 |
69 件中 46-60 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
4700196 4700073 4703745 4695264 4698839 4690412 4694097 4684419 4683918 4673842 4667377 4664971 4662718 4646973 4642778
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドの知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月29日(金) - 東京 港区
12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる！株式会社リコーによるシーズ発表会 ～リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか？～
12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
【特別講演】第8回 前コミュ 生成AIでビジネスチャンスをつかむ前に、生成AI導入に待ち構える法的ハードルを越える方法 ～ つながりを育む出会いの場（知財ネットワーク交流会）～
12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる！株式会社リコーによるシーズ発表会 ～リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか？～
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
千葉県船橋市本町6-2-10 ダイアパレスステーションプラザ315 特許・実用新案 商標 外国商標 コンサルティング
〒248-0006 神奈川県鎌倉市小町2-11-14 山中MRビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都新宿区西新宿8-1-9 シンコービル 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
