特許ランキング - 出願人詳細情報 - English version here

ホーム > 特許ランキング > 株式会社アルバック > 2011年 > 出願公開一覧

株式会社アルバック

※ ログインすれば出願人(株式会社アルバック)をリストに登録できます。ログインについて

  2011年 出願公開件数ランキング    第167位 266件 上昇2010年:第171位 294件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第133位 277件 上昇2010年:第152位 210件)

(ランキング更新日:2022年9月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年  2013年  2014年  2015年  2016年  2017年  2018年  2019年  2020年  2021年  2022年 

公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2011-199277 表面処理方法及び太陽電池セルの製造方法 2011年10月 6日
特開 2011-196783 電子線照射装置、電子線照射領域検出方法、電子線照射方法 2011年10月 6日
再表 2009-142133 ステージ 2011年 9月29日
特開 2011-189422 関節装置及び基板搬送装置 2011年 9月29日
特開 2011-184802 基板への蒸着被膜の形成方法および搬送トレイ 2011年 9月22日
再表 2009-139389 薄膜太陽電池モジュールの製造方法及び薄膜太陽電池モジュール 2011年 9月22日
再表 2009-139418 水晶振動子及びこれを使用した測定方法 2011年 9月22日
特開 2011-185224 気密容器、真空ポンプ 2011年 9月22日
再表 2009-139390 薄膜太陽電池モジュール及びその製造方法 2011年 9月22日
特開 2011-179073 薄膜形成装置 2011年 9月15日
特開 2011-181940 吸着装置の製造方法 2011年 9月15日
特開 2011-181398 プラズマディスプレイパネルとその製造方法 2011年 9月15日 共同出願
特開 2011-179068 金属薄膜の形成方法 2011年 9月15日
特開 2011-175761 プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 2011年 9月 8日
特開 2011-174185 基板へのスパッタ薄膜の形成方法および搬送キャリア 2011年 9月 8日

266 件中 46-60 件を表示

をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-199277 2011-196783 2009-142133 2011-189422 2011-184802 2009-139389 2009-139418 2011-185224 2009-139390 2011-179073 2011-181940 2011-181398 2011-179068 2011-175761 2011-174185

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社アルバックの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

  • このサイトをYahoo!ブックマークに登録
  • はてなブックマークに追加

特許ランキング

2022年 特許出願件数2022年 特許取得件数
2021年 特許出願件数2021年 特許取得件数
2020年 特許出願件数2020年 特許取得件数
2019年 特許出願件数2019年 特許取得件数
2018年 特許出願件数2018年 特許取得件数
2017年 特許出願件数2017年 特許取得件数
2016年 特許出願件数2016年 特許取得件数
2015年 特許出願件数2015年 特許取得件数
2014年 特許出願件数2014年 特許取得件数
2013年 特許出願件数2013年 特許取得件数
2012年 特許出願件数2012年 特許取得件数
出願人を検索

今週の知財セミナー (9月26日~10月2日)

来週の知財セミナー (10月3日~10月9日)

特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介

特許業務法人 広江アソシエイツ特許事務所

〒500-8368 岐阜県 岐阜市 宇佐3丁目4番3号 4-3,Usa 3-Chome, Gifu-City, 500-8368 JAPAN 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング 

イージスエイド特許事務所

東京都新宿区四谷2-12-5 四谷ISYビル3階 PDI特許商標事務所内 特許・実用新案 訴訟 鑑定 コンサルティング 

日本知財サービス 特許出願・商標登録事務所

〒106-6111 東京都港区六本木6丁目10番1号 六本木ヒルズ森タワー 11階 横浜駅前オフィス:  〒220-0004  神奈川県横浜市西区北幸1丁目11ー1 水信ビル 7階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング