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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第167位 266件 (2010年:第171位 294件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第133位 277件 (2010年:第152位 210件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4732716 | 搬送装置及びその制御方法並びに真空処理装置 | 2011年 7月27日 | |
特許 4733930 | 複合酸化物焼結体の製造方法及びその焼結体からなるスパッタリングターゲット | 2011年 7月27日 | |
特許 4732729 | スルホン酸化ポリイミド樹脂の成膜方法 | 2011年 7月27日 | |
特許 4734020 | 成膜装置 | 2011年 7月27日 | |
特許 4730558 | 蒸着源、蒸着装置 | 2011年 7月20日 | 共同出願 |
特許 4731363 | ヒータユニット | 2011年 7月20日 | |
特許 4731354 | 表面処理装置 | 2011年 7月20日 | |
特許 4730572 | プラズマ成膜装置及びそのクリーニング方法 | 2011年 7月20日 | |
特許 4727102 | 光学薄膜の成膜方法及び成膜装置 | 2011年 7月20日 | |
特許 4726704 | スパッタ装置およびスパッタ方法 | 2011年 7月20日 | |
特許 4727555 | SiON膜の積層方法 | 2011年 7月20日 | |
特許 4726699 | プラズマディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネルの製造装置 | 2011年 7月20日 | |
特許 4724358 | 基板搬送装置 | 2011年 7月13日 | |
特許 4724330 | 錫−アンチモン酸化物焼結体ターゲット及びその製造方法 | 2011年 7月13日 | |
特許 4724576 | 多元薄膜形成装置 | 2011年 7月13日 |
277 件中 136-150 件を表示
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4732716 4733930 4732729 4734020 4730558 4731363 4731354 4730572 4727102 4726704 4727555 4726699 4724358 4724330 4724576
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11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
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12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月29日(金) - 東京 港区
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12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
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12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
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12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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