※ ログインすれば出願人(株式会社リコー)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第7位 4213件 (2010年:第8位 4539件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第7位 3311件 (2010年:第11位 2728件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-257467 | 光走査装置及び画像形成装置 | 2011年12月22日 | |
特開 2011-257478 | 光走査装置および画像形成装置 | 2011年12月22日 | |
特開 2011-257572 | 光走査装置及び画像形成装置 | 2011年12月22日 | |
特開 2011-257574 | 光偏向器、光走査装置及び画像形成装置 | 2011年12月22日 | |
特開 2011-257639 | 走査光学系光量測定方法、走査光学系検査方法及び光学系検査装置 | 2011年12月22日 | |
特開 2011-257669 | 画像形成装置、画像形成制御方法、画像形成制御プログラム及び記録媒体 | 2011年12月22日 | |
特開 2011-257688 | 光走査装置、光走査方法及び画像形成装置 | 2011年12月22日 | |
特開 2011-257696 | 光走査装置及び画像形成装置 | 2011年12月22日 | |
特開 2011-257698 | 光源装置、光走査装置および画像形成装置 | 2011年12月22日 | |
特開 2011-257787 | 情報処理装置、印刷制御プログラム、および記憶媒体 | 2011年12月22日 | |
特開 2011-257876 | 画像形成装置、ソフトウェア更新方法及びソフトウェア更新プログラム | 2011年12月22日 | |
特開 2011-258009 | 画像処理装置、分散印刷システム、分散印刷方法、およびプログラム | 2011年12月22日 | |
特開 2011-258796 | レーザ駆動装置、光走査装置並びに画像形成装置 | 2011年12月22日 | |
特開 2011-259021 | 画像形成装置、情報生成方法、プログラム、機器システム | 2011年12月22日 | |
特開 2011-259023 | 情報処理装置、情報処理方法及び情報処理プログラム | 2011年12月22日 |
4213 件中 61-75 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2011-257467 2011-257478 2011-257572 2011-257574 2011-257639 2011-257669 2011-257688 2011-257696 2011-257698 2011-257787 2011-257876 2011-258009 2011-258796 2011-259021 2011-259023
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社リコーの知財の動向チェックに便利です。
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
東京都港区北青山2丁目7番20号 第二猪瀬ビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒243-0021 神奈川県厚木市岡田3050 厚木アクストメインタワー3階B-1 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
大阪府大阪市中央区南本町二丁目2番9号 辰野南本町ビル8階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング