特開2016-125113(P2016-125113A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特開2016-125113Ｃｕ−Ｇａ合金円筒型スパッタリングターゲット、Ｃｕ−Ｇａ合金円筒型鋳塊、Ｃｕ−Ｇａ合金円筒型スパッタリングターゲットの製造方法及びＣｕ−Ｇａ合金円筒型鋳塊の製造方法
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