特開2018-83985(P2018-83985A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2015.5.11 β版

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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】特開2018-83985(P2018-83985A)
(43)【公開日】2018年5月31日
(54)【発明の名称】蒸着用マスク、その製造方法、及び表示装置の製造方法
(51)【国際特許分類】
   C23C 14/04 20060101AFI20180427BHJP
   H05B 33/10 20060101ALI20180427BHJP
   H01L 51/50 20060101ALI20180427BHJP
【FI】
   C23C14/04 A
   H05B33/10
   H05B33/14 A
【審査請求】未請求
【請求項の数】42
【出願形態】OL
【全頁数】26
(21)【出願番号】特願2017-223507(P2017-223507)
(22)【出願日】2017年11月21日
(31)【優先権主張番号】10-2016-0158055
(32)【優先日】2016年11月25日
(33)【優先権主張国】KR
(71)【出願人】
【識別番号】512187343
【氏名又は名称】三星ディスプレイ株式會社
【氏名又は名称原語表記】Samsung Display Co.,Ltd.
【住所又は居所】大韓民国京畿道龍仁市器興区三星路1
(74)【代理人】
【識別番号】110000408
【氏名又は名称】特許業務法人高橋・林アンドパートナーズ
(72)【発明者】
【氏名】金 ▲悌▼國
【住所又は居所】大韓民国 京畿道 龍仁市 器興區 三星路1 三星ディスプレイ株式會社内
(72)【発明者】
【氏名】文 敏浩
【住所又は居所】大韓民国 京畿道 龍仁市 器興區 三星路1 三星ディスプレイ株式會社内
(72)【発明者】
【氏名】文 英▲感▼
【住所又は居所】大韓民国 京畿道 龍仁市 器興區 三星路1 三星ディスプレイ株式會社内
【テーマコード(参考)】
3K107
4K029
【Fターム(参考)】
3K107AA01
3K107BB01
3K107CC45
3K107FF15
3K107GG12
3K107GG14
3K107GG28
3K107GG33
4K029AA24
4K029BA62
4K029BB03
4K029CA01
4K029DB06
4K029DB18
4K029HA03
4K029HA04
(57)【要約】
【課題】蒸着用マスク、その製造方法、及び表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】第1厚みを有する第1リブ部と、第1リブ部に囲まれたパターン部を有する蒸着用マスクが提供される。パターン部は、蒸着物質を通過させる複数のパターンホールと、複数のパターンホールのうち一部を連結し、第1厚みより小さい第2厚みを有するエッチング部を有する。蒸着用マスクは、両端部に、第1方向に沿って引っ張り力が加えられた状態で、フレームに結合されてもよい。
【選択図】図2
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第1厚みを有する第1リブ部と、
前記第1リブ部に囲まれたパターン部を有し、
前記パターン部は、
蒸着物質を通過させる複数のパターンホールと、
前記複数のパターンホールのうち一部を連結し、前記第1厚みより小さい第2厚みを有するエッチング部を有する蒸着用マスク。
【請求項2】
前記パターン部は、前記第2厚みより小さい第3厚みを有するパターン溝をさらに含む、請求項1に記載の蒸着用マスク。
【請求項3】
前記パターン溝は、前記パターン部に複数備えられ、
前記複数のパターン溝は、菱形形状の頂点に配置される、請求項2に記載の蒸着用マスク。
【請求項4】
前記パターン溝は、前記パターン部に複数備えられ、
前記複数のパターンホールの各々は、隣接する前記パターン溝間に配置される、請求項2に記載の蒸着用マスク。
【請求項5】
前記複数のパターンホールのうち一部は、菱形形状の頂点に配置される、請求項1に記載の蒸着用マスク。
【請求項6】
前記エッチング部は、前記パターン部に複数備えられ、
前記複数のエッチング部は、第1方向において互いに離隔されるように配置される、請求項1に記載の蒸着用マスク。
【請求項7】
前記エッチング部は、前記パターン部に複数備えられ、
前記複数のエッチング部は、第1方向と交差する第2方向において互いに離隔されるように配置される、請求項1に記載の蒸着用マスク。
【請求項8】
前記エッチング部は、
第1方向と平行な方向に延伸する第1エッチング部と、
前記第1方向と交差する第2方向と平行な方向に延伸する第2エッチング部とを含む、請求項1に記載の蒸着用マスク。
【請求項9】
前記第1エッチング部と前記第2エッチング部は、互いに交差する、請求項8に記載の蒸着用マスク。
【請求項10】
前記エッチング部は、前記パターン部に複数備えられ、
前記複数のエッチング部と前記複数のパターンホールは互いに交互し、かつ、前記複数のエッチング部と前記複数のパターンホールを連結することで、第1方向、及び前記第1方向と交差する第2方向のうち少なくとも1つの方向に蛇行した形態が得られるように配置される、請求項1に記載の蒸着用マスク。
【請求項11】
前記複数のパターンホールは、前記蛇行した形態の屈曲点に形成される、請求項10に記載の蒸着用マスク。
【請求項12】
前記パターン部の厚みは、前記第1厚みと同一、あるいは前記第1厚みより小さい、請求項10に記載の蒸着用マスク。
【請求項13】
前記パターン部は、
前記パターンホール及び前記エッチング部を除いた残りの領域の第2リブ部を含み、
前記第2リブ部は、前記エッチング部の前記第2厚みより厚い、請求項1に記載の蒸着用マスク。
【請求項14】
第1リブ部に囲まれたパターン部の一部に、第1レーザビームを照射し、前記第1レーザビームによってエッチングすることでエッチング部を形成する段階と、
前記エッチング部の一部に、第2レーザビームを照射して蒸着物質を通過させる複数のパターンホールを形成する段階とを含む、蒸着用マスクの製造方法。
【請求項15】
前記第1リブ部は、第1厚みを有し、前記エッチング部は、前記第1厚みより小さい第2厚みを有する、請求項14に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項16】
前記第1レーザビームは、第1方向、または前記第1方向と交差する第2方向に沿って蛇行する経路に沿って照射される、請求項14に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項17】
前記エッチング部は、前記パターン部に複数形成され、
前記複数のエッチング部は、第1方向において互いに離隔されるように形成される、請求項14に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項18】
前記エッチング部は、前記パターン部に複数形成され、
前記複数のエッチング部は、第1方向と交差する第2方向において互いに離隔されるように形成される、請求項14に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項19】
前記第1レーザビームは、前記蛇行する経路に沿って、連続的に照射される、請求項16に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項20】
前記第2レーザビームは、前記蛇行する経路の屈曲点に照射される、請求項19に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項21】
前記第1レーザビームは、前記蛇行する経路に沿って、複数回照射される、請求項16に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項22】
前記エッチング部は、
前記第1レーザビームが1回照射される第1グルーブと、
前記第1レーザビームが2回重畳されて照射される第2グルーブとを含み、
前記第2グルーブの厚みは、前記第1グルーブの厚みより小さい、請求項21に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項23】
前記第2レーザビームは、前記第2グルーブに照射され、
前記複数のパターンホールは、前記第2グルーブに形成される、請求項22に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項24】
前記第1レーザビームは、第1方向、及び前記第1方向と交差する第2方向に沿って照射される、請求項14に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項25】
前記エッチング部は、
前記第1方向と平行な方向に形成される第1エッチング部と、
前記第1方向と交差する第2方向と平行な方向に形成される第2エッチング部とを含む、請求項24に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項26】
前記第1エッチング部と前記第2エッチング部は、互いに交差する、請求項25に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項27】
前記エッチング部は、
前記第1レーザビームが1回照射される連結グルーブと、
前記第1レーザビームが2回重畳されて照射されるパターン溝とを含み、
前記パターン溝の厚みは、前記連結グルーブの厚みより小さい、請求項24に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項28】
前記パターン溝は、前記パターン部に複数形成され、
前記複数のパターン溝のうち少なくとも一部に、前記第2レーザビームが照射することで前記パターンホールを形成する、請求項27に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項29】
前記複数のパターンホールと、前記複数のパターン溝は、前記第1方向及び前記第2方向に沿って、交互に配置するように形成される、請求項28に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項30】
表示基板及び蒸着用マスクを、チャンバ内部に装入する段階と、
蒸着源から噴射され、前記蒸着用マスクを通過した蒸着物質を前記表示基板に蒸着させる段階と、を含み、
前記蒸着用マスクは、
第1厚みを有する第1リブ部と、
蒸着物質を通過させる複数のパターンホールが形成され、前記複数のパターンホールのうち一部を連結する形態に形成され、前記第1厚みより薄い第2厚みを有するエッチング部を具備するパターン部とを含み、両端部に、第1方向に沿って引っ張り力が加えられた状態でフレームに結合される、表示装置の製造方法。
【請求項31】
前記パターン部は、前記第2厚みより薄い第3厚みを有するパターン溝をさらに含む、請求項30に記載の表示装置の製造方法。
【請求項32】
前記パターン溝は複数具備され、
前記複数のパターン溝は、菱形形状の頂点に配置される、請求項31に記載の表示装置の製造方法。
【請求項33】
前記パターン溝は複数具備され、
前記各パターンホールは、隣接する前記パターン溝間に配置される、請求項31に記載の表示装置の製造方法。
【請求項34】
前記複数のパターンホールのうち一部は、菱形形状の頂点に配置される、請求項30に記載の表示装置の製造方法。
【請求項35】
前記エッチング部は複数具備され、
前記複数のエッチング部は、前記第1方向を基準に、互いに離隔されるように配置される、請求項30に記載の表示装置の製造方法。
【請求項36】
前記エッチング部は複数具備され、
前記複数のエッチング部は、前記第1方向と交差する第2方向を基準に、互いに離隔されるように配置される、請求項30に記載の表示装置の製造方法。
【請求項37】
前記エッチング部は、
前記第1方向と平行な方向に形成される第1エッチング部と、
前記第1方向と交差する第2方向と平行な方向に形成される第2エッチング部とを含む、請求項30に記載の表示装置の製造方法。
【請求項38】
前記第1エッチング部と前記第2エッチング部は、互いに交差する、請求項37に記載の表示装置の製造方法。
【請求項39】
前記エッチング部は、前記第1方向、及び前記第1方向と交差する第2方向のうち少なくとも一方向に蛇行した形態で形成される、請求項30に記載の表示装置の製造方法。
【請求項40】
前記複数のパターンホールは、前記エッチング部の変曲点に形成される、請求項39に記載の表示装置の製造方法。
【請求項41】
前記パターン部の厚みは、前記第1厚みと同一、あるいは前記第1厚みより小さい、請求項30に記載の表示装置の製造方法。
【請求項42】
前記パターン部は、前記パターンホール及び前記エッチング部を除いた残り領域の第2リブ部を含み、
前記第2リブ部の厚みは、前記エッチング部の前記第2厚みより大きい、請求項30に記載の表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、蒸着用マスク、その製造方法、及び表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
移動しながら使用することを前提とする電子機器が幅広く使用されている。近年、移動型電子機器として、モバイルフォンのような小型電子機器以外にも、タブレットPC(personal computer)が広く使用されている。
【0003】
このような移動型電子機器は、多様な機能を支援するために、映像という視覚情報をユーザに提供する表示装置を含む。最近、表示装置を駆動するための部品やその他の部品が小型化されるにつれ、表示装置が電子機器で占める割合が徐々に増大している。また、表示装置を平らな状態から、所定の角度を有するように曲げることができる構造も開発されている。
【0004】
高解像度の表示装置が要求されるにつれ、表示基板に蒸着物質を蒸着させるために使用される蒸着用マスクの厚みが日増しに小さくなっている。このため、蒸着用マスクの剛性(rigidity)が低下し、蒸着用マスクの両端に引っ張り力を加える場合、パターンホールの配列が変形し、その結果、表示基板に蒸着される蒸着物質のパターンが変形するという問題が生じうる。
【0005】
前述の背景技術は、発明者らが本発明の実施形態導出のために保有していた、あるいは導出過程において認識した技術情報であり、必ずしも本願の出願前に、一般公衆に公開された公知技術と言うことはできない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明が解決しようとする課題は、剛性の高い蒸着用マスク、その製造方法、及び表示装置の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明の一実施形態は、蒸着用マスクである。この蒸着用マスクは、第1厚みを有する第1リブ部と、第1リブ部に囲まれたパターン部を有する。パターン部は、蒸着物質を通過させる複数のパターンホールと、複数のパターンホールのうち一部を連結し、第1厚みより小さい第2厚みを有するエッチング部を有する。蒸着用マスクは、両端部に、第1方向に沿って引っ張り力が加えられた状態で、フレームに結合されてもよい。
【0008】
本実施形態において、該パターン部は、第2厚みより小さい第3厚みを有するパターン溝をさらに含んでもよい。
【0009】
本実施形態において、該パターン溝はパターン部に複数備えられ、複数のパターン溝は、菱形形状の頂点に配置されてもよい。
【0010】
本実施形態において、該パターン溝はパターン部に複数備えられ、複数のパターンホールの各々は、隣接するパターン溝間に配置されてもよい。
【0011】
本実施形態において、複数のパターンホールのうち一部は、菱形形状の頂点に配置されてもよい。
【0012】
本実施形態において、該エッチング部はパターン部に複数備えられ、複数のエッチング部は、第1方向において互いに離隔されるように配置されてもよい。
【0013】
本実施形態において、該エッチング部は該パターン部に複数備えられ、複数のエッチング部は、第1方向と交差する第2方向において互いに離隔されるように配置されてもよい。
【0014】
本実施形態において、該エッチング部は、第1方向と平行な方向に延伸する第1エッチング部と、第1方向と交差する第2方向と平行な方向に延伸する第2エッチング部とを含んでもよい。
【0015】
本実施形態において、第1エッチング部と第2エッチング部は、互いに交差することができる。
【0016】
本実施形態において、エッチング部はパターン部に複数備えられ、該複数のエッチング部と複数のパターンホールは互いに交互し、かつ、複数のエッチング部と複数のパターンホールを連結することで、第1方向、及び第1方向と交差する第2方向のうち少なくとも1つの方向に蛇行した形態が得られるように配置されてもよい。
【0017】
本実施形態において、複数のパターンホールは、蛇行した形態の屈曲点に形成されてもよい。
【0018】
本実施形態において、該パターン部の厚みは、第1厚みと同一、あるいは第1厚みよりも小さい。
【0019】
本実施形態において、該パターン部は、パターンホール及びエッチング部を除いた残りの領域の第2リブ部を含み、第2リブ部は、エッチング部の第2厚みより厚くともよい。
【0020】
本発明の他の実施形態は、第1リブ部に囲まれたパターン部の一部に、第1レーザビームを照射し、第1レーザビームによってエッチングされるエッチング部を形成する段階と、エッチング部の一部に、第2レーザビームを照射して蒸着物質を通過させる複数のパターンホールを形成する段階とを含む蒸着用マスクの製造方法である。この蒸着用マスクは、両端部に、第1方向に沿って引っ張り力が加えられた状態で、フレームに結合することができる。
【0021】
本実施形態において、第1リブ部は、第1厚みを有し、エッチング部は、第1厚みより小さい第2厚みを有することができる。
【0022】
本実施形態において、第1レーザビームは、第1方向、または第1方向と交差する第2方向に沿って蛇行する経路に沿って照射されてもよい。
【0023】
本実施形態において、該エッチング部はパターン部に複数形成され、複数のエッチング部は、第1方向において互いに離隔されるように形成されてもよい。
【0024】
本実施形態において、該エッチング部はパターン部に複数形成され、複数のエッチング部は、第1方向と交差する第2方向において互いに離隔されるように形成されてもよい。
【0025】
本実施形態において、第1レーザビームは、蛇行する経路に沿って連続的に照射されてもよい。
【0026】
本実施形態において、第2レーザビームは、蛇行するの屈曲点に照射されてもよい。
【0027】
本実施形態において、第1レーザビームは、蛇行する経路に沿って複数回照射されてもよい。
【0028】
本実施形態において、該エッチング部は、第1レーザビームが1回照射される第1グルーブと、第1レーザビームが2回重畳されて照射される第2グルーブとを含み、第2グルーブの厚みは、第1グルーブの厚みよりも小さい。
【0029】
本実施形態において、第2レーザビームは、第2グルーブに照射され、複数のパターンホールは、第2グルーブに形成されてもよい。
【0030】
本実施形態において、第1レーザビームは、第1方向、及び第1方向と交差する第2方向に沿って照射されてもよい。
【0031】
本実施形態において、該エッチング部は、第1方向と平行な方向に形成される第1エッチング部と、第1方向と交差する第2方向と平行な方向に形成される第2エッチング部とを含んでもよい。
【0032】
本実施形態において、第1エッチング部と第2エッチング部は、互いに交差することができる。
【0033】
本実施形態において、該エッチング部は、第1レーザビームが1回照射される連結グルーブと、第1レーザビームが2回重畳されて照射されるパターン溝とを含み、該パターン溝の厚みは、連結グルーブの厚みよりも小さい。
【0034】
本実施形態において、該パターン溝はパターン部に複数形成され、複数のパターン溝のうち少なくとも一部に、第2レーザビームを照射することでパターンホールを形成することができる。
【0035】
本実施形態において、複数のパターンホールと、複数のパターン溝は、第1方向及び第2方向に沿って交互に形成されてもよい。
【0036】
本発明の他の実施形態は、表示装置の製造方法である。この製造方法は、表示基板及び蒸着用マスクを、チャンバ内部に装入する段階と、蒸着源から噴射され、蒸着用マスクを通過した蒸着物質を表示基板に蒸着させる段階と、を含む。蒸着用マスクは、第1厚みを有する第1リブ部と、蒸着物質を通過させる複数のパターンホールが形成され、複数のパターンホールのうち一部を連結する形態に形成され、第1厚みより薄い第2厚みを有するエッチング部を具備するパターン部とを含み、両端部に、第1方向に沿って引っ張り力が加えられた状態でフレームに結合される。
【0037】
パターン部は、第2厚みより薄い第3厚みを有するパターン溝をさらに含んでもよい。
【0038】
パターン溝は複数具備されてもよく、複数のパターン溝は、菱形形状の頂点に配置されてもよい。また、各パターンホールは、隣接するパターン溝間に配置されてもよい。
【0039】
複数のパターンホールのうち一部は、菱形形状の頂点に配置されてもよい。
【0040】
エッチング部は複数具備されてもよく、複数のエッチング部は、第1方向を基準に、互いに離隔されるように配置されてもよい。また、複数のエッチング部は、第1方向と交差する第2方向を基準に、互いに離隔されるように配置されてもよい。
【0041】
エッチング部は、第1方向と平行な方向に形成される第1エッチング部と、第1方向と交差する第2方向と平行な方向に形成される第2エッチング部とを含んでもよい。第1エッチング部と第2エッチング部は、互いに交差してもよい。
【0042】
エッチング部は、第1方向、及び第1方向と交差する第2方向のうち少なくとも一方向に蛇行した形態で形成されてもよい。
【0043】
複数のパターンホールは、エッチング部の変曲点に形成されてもよい。
【0044】
パターン部の厚みは、第1厚みと同一、あるいは第1厚みより小さくてもよい。
【0045】
パターン部は、パターンホール及びエッチング部を除いた残り領域の第2リブ部を含んでもよく、第2リブ部の厚みは、エッチング部の第2厚みより大きくてもよい。
【発明の効果】
【0046】
本発明の蒸着用マスクは剛性が高く、その製造方法によれば、剛性が増大した蒸着用マスクを作製することができる。また、本発明によれば、蒸着用マスクの両端に引っ張り力が加えられた状態で、蒸着用マスクをフレームに結合する際、パターンホールの配列変形を防止することができる。また、本発明の表示装置の製造方法によれば、表示基板の全体領域にわたり、蒸着物質を同一または類似のパターンに蒸着することができる。また、本発明によれば、均一なパターンで蒸着物質を表示基板に蒸着させることにより、高解像度の表示装置を製造することができる。ただし、このような効果によって、本発明の範囲が限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【0047】
図1】本発明の一実施形態に係わる蒸着用マスクを概略的に図示する平面図である。
図2図1のA部分の拡大平面図である。
図3図2のI−I´線に沿った断面図である。
図4図2に示されたパターン部の変形例を示す拡大平面図である。
図5図4のII−II´線に沿った断面図である。
図6図2に示されたパターン部の他の変形例を示す拡大平面図である。
図7図6のIII−III´線に沿った断面図である。
図8図6のIV−IV´線に沿った断面図である。
図9図2に示されたエッチング部を形成するために、パターン部の一部に連続的に照射される第1レーザビームの照射経路を示す拡大平面図である。
図10図2に示されたエッチング部を形成するために、パターン部の一部に複数回照射される第1レーザビームの照射経路を示す拡大平面図である。
図11図4に示されたエッチング部を形成するために、パターン部の一部に連続的に照射される第1レーザビームの照射経路を示す拡大平面図である。
図12図4に示されたエッチング部を形成するために、パターン部の一部に複数回照射される第1レーザビームの照射経路を示す拡大平面図である。
図13図6に示されたエッチング部を形成するために、パターン部の一部に照射される第1レーザビームの照射経路を示す拡大平面図である。
図14図1の蒸着用マスクを含む、表示装置の製造装置を示す断面図である。
図15図14に図示された表示装置の製造装置を利用して製造された表示装置を示す平面図である。
図16図15のV−V´線に沿った断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0048】
本発明は、多様な変更を加えることができ、さまざまな実施形態を有することができるが、特定の実施形態を図面に例示し、詳細に説明する。本発明の効果、特徴、及びそれらを達成する方法は、図面と共に詳細に説明する実施形態を参照すれば、明確になるであろう。しかし、本発明は、以下で開示される実施形態に限定されるものではなく、多様な形態で実施されてもよい。
【0049】
以下の実施形態において、第1、第2のような用語は、限定的な意味を与えるものではなく、1つの構成要素を他の構成要素と区別する目的に使用される。また、単数の表現は、文脈上明白でない限り、複数の表現を含む。また、「含む」または「有する」というような用語は、明細書に記載された特徴または構成要素が存在することを意味するものであり、1以上の他の特徴または構成要素が付加される可能性を排除するものではない。
【0050】
以下の実施形態において、膜、領域、構成要素などの部材上に他の構成があるというとき、他の構成がこれらの部材の真上にある場合だけではなく、その中間に、他の膜、領域、構成要素などの別の部材が介在されている場合も含まれる。
【0051】
また、図面では、説明の便宜のために、構成要素の大きさが誇張または縮小されている。例えば、図面に示された各構成の大きさ及び厚みは、説明の便宜のために任意に示されており、本発明は、必ずしも図示されている態様に限定されるものではない。
【0052】
また、工程に関する実施形態が異なる態様で実施可能な場合、その工程は、説明される順序と異なる順序で遂行されることもある。例えば、連続して説明される2つの工程が実質的に同時に遂行されることも可能であり、説明される順序と反対の順序で遂行することも可能である。
【0053】
以下、添付された図面を参照し、本発明の実施形態について詳細に説明するが、同一、あるいは対応する構成要素には同一図面符号を付し、それについての重複説明は省略する。
【0054】
本発明の実施形態において、表示装置は多様な装置を含んでもよい。例えば、表示装置は、液晶表示装置または有機発光表示装置を含んでもよい。ただし、以下では、説明の便宜のために、表示装置が有機発光表示装置である場合を中心に詳細に説明する。
【0055】
図1は、本発明の一実施形態に係わる蒸着用マスクを概略的に示す平面図であり、図2は、図1のA部分の拡大平面図であり、図3は、図2のI−I´線に沿った断面図である。
【0056】
図1ないし図3を参照すれば、蒸着用マスク110は、第1リブ部111とパターン部112とを含む。
【0057】
第1リブ部111は、蒸着用マスク110の本体をなす構成要素であり、第1厚みt1を有するように形成されてもよい。一般的に、高解像度ディスプレイを製造するためには、表示基板に蒸着される蒸着物質のパターンが微細に形成されなければならないが、そのためには、蒸着用マスク110の厚みを小さくする必要がある。すなわち、高解像度ディスプレイの製造のためには、第1リブ部111の第1厚みt1を小さくしなければならず、現在の技術では、第1厚みt1は、10μmないし50μmであることが望ましいが、本発明の実施形態は、それに限定されるものではない。すなわち、前述のように、第1リブ部111の第1厚みt1は、表示装置の解像度によって、適宜設定すればよく、10μmより小さくてもよい。
【0058】
パターン部112は、蒸着用マスク110において、第1リブ部111を除いた残りの領域と定義することができ、蒸着物質が通過する領域である。パターン部112は、蒸着物質を通過させる複数のパターンホール112hと、複数のパターンホール112hのうち一部を連結し、第1リブ部111の第1厚みt1より小さい第2厚みt2を有するエッチング部112eとを含む。より詳細には、パターン部112は、パターン部112の本体をなす第2リブ部112rを含む。このとき、パターン部112の本体をなす第2リブ部112rと、蒸着用マスク110の本体をなす第1リブ部111は、互いに異なる構成要素であるように描写されているが、実際には、第2リブ部112rは第1リブ部111と共に蒸着用マスク110の本体をなし、蒸着用マスク110に剛性(rigidity)を付与する構成要素である。
【0059】
後述する本発明の多様な実施形態の特徴のうち一つは、第1リブ部111と第2リブ部112rとが互いに同一厚みを有するように形成されてもよいという点である。すなわち、第1リブ部111の第1厚みt1と、第2リブ部112rの厚みtは同一でも良い。以下では、第2リブ部112rの厚みtは、「パターン部112の厚み」を意味する。
【0060】
従来、第2リブ部112rの厚みtは、エッチング部112eの第2厚みt2と同一になるように形成されるが、この場合、蒸着用マスク110に加えられる外力によって、パターン部112に形成されたパターンホール112hの配列構造が容易に変形するという問題点がある。このような問題点を解決するためには、第2リブ部112rの厚みtを、第1リブ部111の第1厚みt1と同程度の厚みで形成することにより、パターン部112の剛性を確保する必要がある。すなわち、第2リブ部112rの厚みtを、第1リブ部111の第1厚みt1と同程度の厚みで形成すれば、蒸着用マスク110に加えられる外力によって、パターンホール112hの配列構造変形を防止することができる。
【0061】
、本発明の実施形態は、第2リブ部112rの厚みtが、第1リブ部111の第1厚みt1と完全に同一に形成される場合だけではなく、第2リブ部112rの厚みtが、第1リブ部111の第1厚みt1より小さい場合も含む。ただし、前述のように、第2リブ部112rの厚みtは、少なくともエッチング部112eの第2厚みt2よりも大きいことが望ましい。
【0062】
一方、パターン部112の剛性増大のためには、第2リブ部112rの厚みtだけでなく、第2リブ部112rの配列構造も重要な要素であり、第2リブ部112rの配列構造は、エッチング部112eの形状によって決まる。これについて、以下、図2ないし図8を参照して詳細に説明する。
【0063】
図2を参照すれば、エッチング部112eはパターン部112に複数設けられ、第1方向に沿って、互いに離隔するように配置される。また、複数のエッチング部112eは、第2方向に沿って複数のパターンホール112hと交互するように配置され、これらを連結することで蛇行した(serpentine)形態が形成される。そして、この蛇行形状の複数の屈曲点のそれぞれには、パターンホール112hが形成される。一方、図3を参照すれば、前述のように、第2リブ部112rの厚みtは、第1リブ部111の第1厚みt1と同一、あるいは実質的に同一であることを確認することができる。すなわち、第2リブ部112rの厚みtがエッチング部112eの第2厚みt2より大きくなるよう、第2リブ部112rが形成されてもよい。
【0064】
前述のようなエッチング部112eとパターンホール112hとの構造により、第2リブ部112rは、第2方向に沿って延伸した構造を有する。前述のように、第2リブ部112rは、パターン部112の本体をなす構成要素であり、第2リブ部112rが第2方向に沿って延伸した構造に形成されることにより、蒸着用マスク110に加えられる第2方向の外力に対して、大きな抵抗力を有することができる。すなわち、第2リブ部112rが第2方向に沿って延伸した構造を有することで、蒸着用マスク110の第2方向における剛性を増大させる効果を得ることができる。
【0065】
この効果についてさらに詳細に説明する。蒸着用マスク110は、第1方向に沿って引っ張り力が加えられた状態で、額縁状のフレームF(図14)に結合することができる。このとき、蒸着用マスク110は、第1方向に引っ張られるが、それによって、第2方向に収縮される。しかしながら、上述したように、蒸着用マスク110は第2方向の外力に対して大きな抵抗力を有するため、第2方向への変形がほとんど生じない。従って、図2及び図3に示されたパターン部112を有する蒸着用マスク110を第1方向に沿って引っ張っても、第2方向における収縮を効果的に防止することができる。
【0066】
次に、図4及び図5を参照し、本発明の他の実施形態について説明する。
【0067】
図4は、図2に示されたパターン部112の他の変形例を示す拡大平面図であり、図5は、図4のII−II´線に沿った断面図である。
【0068】
図4を参照すれば、エッチング部212eは、第1方向と交差する第2方向に沿って、互いに離隔されるように複数配置される。また、エッチング部212eは、第1方向に沿って、複数のパターンホール212hと交互するように配置され、これらを連結することで蛇行した形態が形成される。そして、この蛇行形状の複数の屈曲点のそれぞれには、パターンホール212hが形成される。一方、図5を参照すれば、前述のように、第2リブ部212rの厚みtは、第1リブ部211の第1厚みt1と同一、あるいは実質的に同一であることを確認することができる。すなわち、第2リブ部212rの厚みtがエッチング部212eの第2厚みt2より大きくなるよう、第2リブ部212rが形成されてもよい。
【0069】
前述のようなエッチング部212eとパターンホール212hとの構造により、第2リブ部212rは、第1方向に沿って延伸した構造を有する。前述のように、第2リブ部212rは、パターン部212の本体をなす構成要素であり、第2リブ部212rが第1方向に沿って延伸した構造で形成されることにより、第1方向に、蒸着用マスク210に加えられる外力に対して、大きな抵抗力を有することができる。すなわち、第2リブ部212rが第1方向に沿って延伸した構造を有することで、蒸着用マスク210の第1方向における剛性を増大させる効果を得る。
【0070】
この効果についてさらに詳細に説明する。蒸着用マスク210は、第1方向に沿って引っ張り力が加えられた状態で、額縁状のフレームF(図14)に結合することができる。このとき、蒸着用マスク210は、第1方向に引っ張られる。しかしながら、上述したように、蒸着用マスク210は第1方向の外力に対して大きな抵抗力を有するため、第1方向への変形がほとんど生じない。従って、図4及び図5に示されたパターン部212を有する蒸着用マスク210を第1方向に沿って引っ張っても、第1方向における伸張を効果的に防止することができる。
【0071】
次に、図6ないし図8を参照し、本発明のさらに他の実施形態について説明する。
【0072】
図6は、図2に示されたパターン部112のさらに他の変形例を示す拡大平面図であり、図7は、図6のIII−III´線に沿った断面図であり、図8は、図6のIV−IV´線に沿った断面図である。
【0073】
図6を参照すれば、パターン部312は、パターンホール312hと、パターン溝312mと、エッチング部312eとを含む。また、エッチング部312eは、第1方向と平行な方向に形成される第1エッチング部312e_1と、第1方向と交差する第2方向と平行な方向に形成される第2エッチング部312e_2とを含む。ここで、第1エッチング部312e_1と第2エッチング部312e_2は、互いに交差するように形成されてもよい。
【0074】
第1エッチング部312e_1と第2エッチング部312e_2とが互いに交差する地点には、複数のパターンホール312h及び複数のパターン溝312mが形成されてもよい。このとき、複数のパターンホール312hと、複数のパターン溝312mの一部はそれぞれ、菱形形状の頂点に配置されてもよい。また、各パターン溝312mは、隣接するパターンホール312h間に配置されてもよい。そして、パターン部312は、エッチング部312eを除いた残りの領域に該当し、パターン部312の本体をなす第2リブ部312rを含む。
【0075】
図7を参照すれば、エッチング部312eは、第1リブ部311の第1厚みt1より薄い第2厚みt2を有するように形成される。そして、パターン溝312mは、エッチング部312eの第2厚みt2より薄い第3厚みt3を有するように形成される。
【0076】
さらに、図8を参照すれば、第2リブ部312rは、第1リブ部311の第1厚みt1と同一、あるいは実質的に同一の厚みtを有するように形成される。そして、エッチング部312eは、第1リブ部311の第1厚みt、及び第2リブ部312rの厚みtより薄い第2厚みt2を有するように形成される。
【0077】
前述のように、図6ないし図8に示されたパターン部312を有する蒸着用マスク310は、第1リブ部311の第1厚みt1に実質的に同一の厚みtを有する第2リブ部312rによって、第1方向及び第2方向に蒸着用マスク310に加えられる外力に対して、大きな抵抗力を有することができる。それだけではなく、パターンホール312h間に、第3厚みt3を有するように形成されるパターン溝312mも蒸着用マスク310の剛性を補強するため、蒸着用マスク310は、第1方向及び第2方向に蒸着用マスク310に加えられる外力に対して、大きな抵抗力を有することができる。
【0078】
以下では、図1ないし図8を参照して説明した多様な変形例が適用可能な蒸着用マスク110、210、310を製造する方法について詳細に説明する。
【0079】
図9は、図2に示されたエッチング部112eを形成するために、パターン部112の一部に連続的に照射される第1レーザビームの照射経路を示す拡大平面図であり、図10は、図2に示されたエッチング部112eを形成するために、パターン部の一部に複数回照射される第1レーザビームの照射経路を示す拡大平面図であり、図11は、図4に示されたエッチング部212eを形成するために、パターン部212の一部に連続的に照射される第1レーザビームの照射経路を示す拡大平面図であり、図12は、図4に示されたエッチング部212eを形成するために、パターン部212の一部に複数回照射される第1レーザビームの照射経路を示す拡大平面図であり、図13は、図6に示されたエッチング部312eを形成するために、パターン部312の一部に照射される第1レーザビームの照射経路を示す拡大平面図である。
【0080】
図9は、図2に示された蒸着用マスク110のパターン部112の一部に、第1レーザビームL1aが連続的に照射される様子を示す図面である。図9によれば、第1レーザビームL1aは、第2方向に延伸する蛇行形態に沿って、連続的に照射される。第1レーザビームL1aを照射することでパターン部112の一部がエッチングされ、図2に示されたエッチング部112eを形成する。このとき、複数のエッチング部112eが第1方向において互いに離隔されるように形成されてもよい。なお、図面には、エッチング部112eを1本の実線で描いたが、これは説明の便宜のためであり、図面の第1レーザビームL1aの照射経路に沿って、第1レーザビームL1aを1回以上照射すれば、図2に示されたエッチング部112eを形成することができる。
【0081】
図9に示されたような経路に沿ってエッチング部112eが形成された後、エッチング部112eの屈曲点IPには、第2レーザビーム(図示せず)が追加して照射される。第2レーザビームが追加して照射されたエッチング部112eの屈曲点IPには、図2に示されたような複数のパターンホール112hが形成される。図示されてはいないが、第1レーザビームL1aと第2レーザビームは、それぞれエッチング部112eとパターンホール112hとを順次形成するのに使用されるため、照射順序は異なるが、第1レーザビームL1aと第2レーザビームは同一装置から照射されてもよい。
【0082】
一方、第1レーザビームL1aが照射されていない領域、すなわち、エッチング部112eを除いたパターン部112の残り領域はエッチングされず、パターン部112そのままの形態で残存する。このパターン部112の残存領域RAは、図2に示された第2リブ部112rに対応する。そして、第2リブ部112rは、図9に示されていないが、図2及び図3に示された第1リブ部111の第1厚みt1と同一、あるいは実質的に同一の厚みtを有することができる。このように、第2リブ部112rが第1リブ部111と同一、あるいは実質的に同一の厚みを有する場合、前述のように、蒸着用マスク110の剛性を増大させることができる。
【0083】
図10は、図2に示された蒸着用マスク110のパターン部112の一部に、第1レーザビームL1a´が複数回照射される様子を示す図面である。図10によれば、第1レーザビームL1a´は、第2方向に延伸する蛇行形態に沿って、複数回照射される。したがって、第1レーザビームL1a´は、照射経路の方向が変化する屈曲点IPで一部が重畳されてもよい。
【0084】
この場合、第1レーザビームL1a´によって形成されるエッチング部112eは、第1レーザビームL1a´が1回照射される第1グルーブG1と、第1レーザビームL1a´が2回重畳されて照射される第2グルーブG2とを含むが、第2グルーブG2は、第1グルーブG1より1回多く第1レーザビームL1a´が照射されるので、第2グルーブG2の厚みは、第1グルーブG1の厚みより小さい。図面には、エッチング部112eを1本の実線で描いたが、それは説明の便宜のためであり、図面の第1レーザビームL1a´の照射経路に沿って、第1レーザビームL1a´を1回以上照射すれば、図2に示されたエッチング部112eが形成される。
【0085】
第1レーザビームL1a´によって第1グルーブG1と第2グルーブG2とを含むエッチング部112eがこのように形成された後、第2グルーブG2には、第2レーザビーム(図示せず)が追加して照射される。第2レーザビームが追加して照射されたエッチング部112eの第2グルーブG2には、複数のパターンホール112hが形成される。図示されてはいないが、第1レーザビームL1a´と第2レーザビームは、それぞれエッチング部112eとパターンホール112hとを順次形成するのに使用されるため、照射順序は異なるが、第1レーザビームL1a´と第2レーザビームは同一装置から照射されてもよい。
【0086】
一方、第1レーザビームL1a´が照射されていない領域、すなわち、エッチング部112eを除いたパターン部112の残り領域はエッチングされず、パターン部112そのままの形態で残存する。このパターン部112の残存領域RAは、図2に示された第2リブ部112rに対応する。そして、第2リブ部112rは、図10に示されていないが、図2及び図3に示された第1リブ部111の第1厚みt1と同一、あるいは実質的に同一の厚みtを有することができる。このように、第2リブ部112rが第1リブ部111と同一、あるいは実質的に同一の対応する厚みを有する場合、前述のように、蒸着用マスク110の剛性を増大させることができる。
【0087】
図11は、図9に示された第1レーザビームL1aの照射経路に係わる他の変形例であり、図4に示された蒸着用マスク210のパターン部212の一部に、第1レーザビームL2aが連続的に照射される様子を示す図面である。図11によれば、第1レーザビームL2aは、第1方向に延伸する蛇行形態の経路に沿って、連続的に照射される。このように第1レーザビームL2aを照射することによってパターン部212の一部がエッチングされ、図4に示されたようなエッチング部212eが形成される。このとき、複数のエッチング部212eが第2方向において互いに離隔されるように形成されてもよい。図面には、エッチング部212eを1本の実線で描いたが、それは説明の便宜のためであり、図面の第1レーザビームL2aの照射経路に沿って、第1レーザビームL2aを1回以上照射すれば、図4に示されたエッチング部212eが形成される。
【0088】
図11に示されたような経路に沿ってエッチング部212eが形成された後、エッチング部212eの屈曲点IPには、第2レーザビーム(図示せず)が追加して照射される。第2レーザビームが追加して照射されたエッチング部212eの屈曲点IPには、図4に示された複数のパターンホール212hが形成される。図示されてはいないが、第1レーザビームL2aと第2レーザビームは、それぞれエッチング部212eとパターンホール212hとを順次形成するのに使用されるため、照射順序が異なるが、第1レーザビームL2aと第2レーザビームは同一装置から照射されてもよい。
【0089】
一方、第1レーザビームL2aが照射されていない領域、すなわち、エッチング部212eを除いたパターン部212の残り領域は、エッチングされず、パターン部212そのままの形態で残存する。このパターン部212の残存領域RAは、図4に示された第2リブ部212rに対応する。そして、第2リブ部212rは、図11に示されていないが、図4及び図5に示された第1リブ部211の第1厚みt1と同一、あるいは実質的に同一の厚みtを有することができる。このように、第2リブ部212rが第1リブ部211と同一、あるいは実質的に同一の厚みを有する場合、前述のように、蒸着用マスク210の剛性を増大させることができる。
【0090】
図12は、図4に示された蒸着用マスク210のパターン部212の一部に、第1レーザビームL2a´が複数回照射される様子を示す図面である。図12によれば、第1レーザビームL2a´は、第1方向に延伸する蛇行形態の経路に沿って、複数回照射される。したがって、第1レーザビームL2a´は、照射経路の方向が変化する屈曲点IPで一部が重畳されてもよい。
【0091】
この場合、第1レーザビームL2a´によって形成されるエッチング部212eは、第1レーザビームL2a´が1回照射される第1グルーブG1と、第1レーザビームL2a´が2回重畳されて照射される第2グルーブG2とを含むが、第2グルーブG2は、第1グルーブG1より1回さらに多く第1レーザビームL2a´によってエッチングされるので、第2グルーブG2の厚みは、第1グルーブG1の厚みより小さい。図面には、エッチング部212eを1本の実線で描いたが、それは説明の便宜のためであり、図面の第1レーザビームL2a´の照射経路に沿って、第1レーザビームL2a´を1回以上照射すれば、図4に示されたエッチング部212eが形成される。
【0092】
第1レーザビームL2a´によって、第1グルーブG1と第2グルーブG2とを含むエッチング部212eがこのように形成された後、第2グルーブG2には、第2レーザビーム(図示せず)が追加して照射される。第2レーザビームが追加して照射されたエッチング部212eの第2グルーブG2には、複数のパターンホール212hが形成される。図示されてはいないが、第1レーザビームL2a´と第2レーザビームは、それぞれエッチング部212eとパターンホール212hとを順次形成するのに使用されるため、照射順序は異なるが、第1レーザビームL2a´と第2レーザビームは同一装置から照射されてもよい。
【0093】
一方、第1レーザビームL2a´が照射されていない領域、すなわち、エッチング部212eを除いたパターン部212の残り領域はエッチングされず、パターン部212そのままの形態で残存する。このパターン部212の残存領域RAは、図4に示された第2リブ部212rに対応する。そして、第2リブ部212rは、図12に示されていないが、図4及び図5に示された第1リブ部211の第1厚みt1と同一、あるいは実質的に同一の厚みtを有することができる。このように、第2リブ部212rが第1リブ部211と同一、あるいは実質的に同一の対応する厚みを有する場合、前述のように、蒸着用マスク210の剛性を増大させることができる。
【0094】
図13は、図9及び図11に示された第1レーザビームL1a,L2aの照射経路に係わるさらに他の変形例であり、図6に示された蒸着用マスク310のパターン部312の一部に、第1レーザビームL3aが、第1方向、及び第1方向と交差する第2方向に沿って照射される様子を示す図面である。第1方向及び第2方向に沿って照射される第1レーザビームL3aにより、パターン部312には、それぞれ図6に示される第1エッチング部312e_1と第2エッチング部312e_2とが形成される。ここで、第1エッチング部312e_1と第2エッチング部312e_2は、互いに交差する形態で配列されてもよい。
【0095】
第1エッチング部312e_1と第2エッチング部312_2とが互いに交差する地点には、第1レーザビームL3aが2回重畳されて照射される。換言すると、エッチング部312eは、第1レーザビームL3aが1回照射される連結グルーブCGと、第1レーザビームL3aが2回重畳されて照射されるパターン溝PMとを含んでもよい。ここで、図13に示されたパターン溝PMは、図6に示されたパターン溝312mと同一構成要素である。図面には、エッチング部312eを1本の実線で表現したが、それは説明の便宜のためであり、図面の連結グルーブCGとパターン溝PMは、図6に示されたエッチング部312eとパターン溝312mとに対応する。
【0096】
前述の通りに、第1レーザビームL3aによって、第1エッチング部312e_1と第2エッチング部312e_2とを含むエッチング部312eがパターン部312上に形成され、第1エッチング部312e_1と第2エッチング部312e_2とが互いに重畳する地点に、複数のパターン溝PMが形成された後に、複数のパターン溝PMの少なくとも一部に、第2レーザビーム(図示せず)が照射される。第2レーザビームが照射された複数のパターン溝PMの少なくとも一部には、複数のパターンホールPHが形成される。
【0097】
ここで、図13に示された複数のパターンホールPHは、図6のパターンホール312hと同一構成要素である。複数のパターンホールPHと、複数のパターン溝PMは、第1方向及び第2方向に沿って、交互に配置されてもよい。換言すると、複数のパターンホールPHとパターン溝PMは、菱形形状の頂点に配置される。
【0098】
図示されてはいないが、第1レーザビームL3aと第2レーザビームは、それぞれエッチング部312eとパターンホール312hとを順次形成するのに使用されるため、照射順序は異なるが、第1レーザビームL3aと第2レーザビームは同一装置から照射されてもよい。
【0099】
一方、第1レーザビームL3aが照射されていない領域、すなわち、エッチング部312eを除いたパターン部312の残り領域はエッチングされず、パターン部312そのままの形態で残存する。このパターン部312の残存領域RAは、図6に示された第2リブ部312rに対応する。そして、第2リブ部312rは、図13に示されていないが、図6ないし図8に示された第1リブ部311の第1厚みt1と同一、あるいは実質的に同一の厚みtを有することができる。このように、第2リブ部312rが第1リブ部311と同一、あるいは実質的に同一の厚みを有する場合、前述のように、蒸着用マスク310の剛性を増大させることができる。
【0100】
以下では、蒸着用マスク110、210、310を用いて表示装置を製造するための製造装置100、及び表示装置の製造方法を説明する。図14を参考すれば、表示装置の製造装置100は、蒸着用マスク組立体MAと、チャンバ120と、第1支持部130と、第2支持部140と、撮像部150と、蒸発源160と、圧力調節部170とを含んでもよい。
【0101】
蒸着用マスク組立体MAは、フレームFと、蒸着用マスク110と、支持スティックSSとを含んでもよい。
【0102】
フレームFは複数のフレームを含んでもよい。複数のフレームは、格子状または四角形に構成されてもよく、額縁のように、中間に空孔を持つように構成されてもよい。
【0103】
すなわち、フレームFは、蒸着物質が通過する領域を定義することができる。フレームFの上面には、第2方向に沿って、複数の蒸着用マスク110が配置されて固定される。特に、蒸着用マスク110は、第1方向に沿って引っ張り力が加えられた状態で、フレームFに結合されてもよい。このように、フレームFと蒸着用マスク110は互いに結合されるが、本発明の実施形態はそれに限定されるものではなく、フレームFと蒸着用マスク110は、一体に形成されてもよい。
【0104】
図14に示された蒸着用マスク110は、図1図2図4及び図6を参照して説明した本発明の多様な実施形態による蒸着用マスク110、210、310のうちいずれか一つでもある。従って、ここでは、蒸着用マスク110、210、310に係わる詳細な説明は省略し、また、蒸着用マスク110、210、310の構造と、これらの構造によって得ることができる効果については、図1ないし図8を参照して説明した内容をそのまま援用する。
【0105】
蒸着用マスク組立体MAは、前記の構成以外にも、フレームFに設けられ、蒸着用マスク110を支持する支持スティックSSをさらに含んでもよい。このとき、支持スティックSSは、フレームFの長辺及び短辺のうち少なくとも1つの辺と平行になるようにフレームFに設けられてもよい。また、支持スティックSSは、フレームFの内部空間に配置されてもよい。支持スティックSSのうち一部は、隣接する蒸着用マスク110間に蒸着用マスク110の長手方向に配列するように配置され、隣接する蒸着用マスク110へ蒸着物質飛翔することを防止することができる。
【0106】
チャンバ120は、内部に空間が形成され、一部が開口されるように形成される。チャンバ120の開口された部分には、ゲート弁120aが設けられ、チャンバ120の開口された部分を選択的に開閉することができる。
【0107】
第1支持部130は、表示基板Sを支持することができる。このとき、第1支持部130は、表示基板Sを多様な方式で支持することができる。例えば、第1支持部130は、静電チャックまたは粘着チャックを含んでもよい。または、第1支持部130は、表示基板Sの一部を支持するブラケットやクランプなどを含んでもよい。第1支持部130は、前述した構成に限定されるものではなく、表示基板Sを支持することができる任意の機構を含んでもよい。以下では、説明の便宜のために、第1支持部130が静電チャックまたは粘着チャックを含む場合を中心に詳細に説明する。
【0108】
第2支持部140には、蒸着用マスク組立体MAが載置されて支持されてもよい。第2支持部140は、蒸着用マスク組立体MAを互いに異なる少なくとも2つ以上の方向に微細調整することができる。例えば、第2支持部140は、第1方向及び第2方向に沿って、蒸着用マスク組立体MAの位置を調整することができる。
【0109】
撮像部150は、表示基板S及び蒸着用マスク組立体MAを撮影し、これによってこれらの位置を確認することができる。このとき、撮像部150で撮影されたイメージを基に、表示基板S及び蒸着用マスク組立体MAのうち少なくとも一つを動かし、表示基板Sと蒸着用マスク組立体MAとを整列することができる。
【0110】
蒸発源160の内部には、蒸着物質が保存されてもよい。蒸発源160はヒータ160aを具備することができ、ヒータ160aで加えられる熱によって、蒸着物質が蒸発、あるいは昇華することができる。
【0111】
蒸発源160は、多様な形態で形成されてもよい。例えば、蒸発源160は、蒸着物質が吐出される吐出部が円形に形成される、点蒸発源の形態を有していてもよい。また、蒸発源160が長く形成され、吐出部が複数形成されるか、あるいは長孔形状で形成される、線蒸発源の形態を有していてもよい。以下では、説明の便宜のために、蒸発源160が蒸着用マスク組立体MAの一点に対向するように配置される、点蒸発源の形態の場合を中心に詳細に説明する。
【0112】
圧力調節部170はチャンバ120と連結され、チャンバ120内部の圧力が、大気圧または真空に近い圧力になるように調節することができる。圧力調節部170は、チャンバ120と連結される連結配管171と、連結配管171に配置される圧力調節ポンプ172とを含んでもよい。
【0113】
前述のような表示装置の製造装置100を用い、表示基板Sを含む表示装置を製造することができる。
【0114】
圧力調節部170によってチャンバ120内部を大気圧状態に維持し、ゲート弁120aが開放された後、表示基板S及び蒸着用マスク組立体MAがチャンバ120内部に挿入される。このとき、チャンバ120の内部または外部には、別途のロボットアーム、シャトルなどが搭載され、これにより、表示基板S及び蒸着用マスク組立体MAを移送させることができる。
【0115】
前述の過程が完了した後、圧力調節部170は、チャンバ120内部をほぼ真空に近い状態に維持する。また、撮像部150は、表示基板S及び蒸着用マスク組立体MAを撮影し、第1支持部130及び第2支持部140を微細駆動することで表示基板S及び蒸着用マスク組立体MAのうち少なくとも一つの位置を微細調整し、表示基板S及び蒸着用マスク組立体MAを整列することができる。
【0116】
次に、ヒータ160aが作動し、蒸発源160から蒸着物質を、蒸着用マスク組立体MAに向かう方向に噴射させる。蒸着用マスク組立体MAを通過した蒸着物質は、表示基板S上に一定パターンに蒸着される。
【0117】
前述の工程が進められる間、蒸発源160及び表示基板Sのうち少なくとも一つは、線形運動を行うことができる。他の実施形態として、蒸発源160及び表示基板Sは、いずれも停止した状態で蒸着が行われることも可能である。以下では、説明の便宜のために、蒸発源160及び表示基板Sがいずれも停止した状態で蒸着が行われる場合を中心に詳細に説明する。
【0118】
図15は、図14に示された表示装置の製造装置100を利用して製造された表示装置20を示する平面図であり、図16は、図15のV−V´線に沿った断面図である。
【0119】
図15及び図16を参考すれば、表示装置20は、基板21上に、表示領域DAと、表示領域DAの外郭に配置される非表示領域NDAとを含む。表示領域DAには、発光部(図示せず)が配置され、非表示領域NDAには、電源配線(図示せず)などが配置される。また、非表示領域NDAには、パッド部Cが配置されてもよい。
【0120】
表示装置20は、表示基板D、中間層28b、対向電極28c及び封止層(図示せず)を含んでもよい。このとき、表示基板Dは、基板21、バッファ層22、薄膜トランジスタTFT、パッシベーション膜27、画素電極28a及び画素定義膜29を含んでもよい。また、封止部は、基板21と同一または類似した封止基板(図示せず)、または薄膜封止層Eを含んでもよい。封止部が封止基板を含む場合、基板21と封止基板との間には、別途のシーリング部材(図示せず)が配置されてもよい。以下では、説明の便宜のために、封止部が薄膜封止層Eを含む場合を中心に詳細に説明する。
【0121】
基板21には、プラスチック材を使用することができ、SUS、Tiのような金属材を使用することもできる。また、基板21には、ポリイミド(PI:polyimide)を使用することができる。以下では、説明の便宜のために、基板21がポリイミドから形成される場合を中心に詳細に説明する。
【0122】
基板21上に、発光部が形成される。このとき、発光部には、薄膜トランジスタTFTが設けられされ、それらを覆うように、パッシベーション膜27が形成され、パッシベーション膜27上に、有機発光素子(OLED)28が形成される。
【0123】
基板21の上面には、有機化合物及び/または無機化合物からなるバッファ層22がさらに形成される。バッファ層22はSiOx(x≧1)、SiNx(x≧1)から形成されてもよい。
【0124】
バッファ層22上に、所定のパターンに配列された活性層23が形成された後、活性層23が、ゲート絶縁層24によって埋め込まれる。活性層23は、ソース領域23aとドレイン領域23cとを有し、その間にチャネル領域23bをさらに含む。
【0125】
活性層23は、多様な物質を含むように形成される。例えば、活性層23は、非晶質シリコンまたは結晶質シリコンのような14族元素の半導体物質を含んでもよい。他の例として、活性層23は、酸化物半導体を含んでもよい。さらに他の例として、活性層23は、有機半導体物質を含んでもよい。以下では、説明の便宜のために、活性層23が非晶質シリコンから形成される場合を中心に詳細に説明する。
【0126】
活性層23は、バッファ層22上に非晶質シリコン膜を形成した後、それを結晶化させ、多結晶質シリコン膜に変換し、多結晶質シリコン膜をパターニングして形成することができる。活性層23は、駆動TFT、スイッチングTFT(図示せず)など、TFTの極性に応じて、そのソース領域23a及びドレイン領域23cが不純物によってドーピングされる。
【0127】
ゲート絶縁層24の上面には、活性層23と重なるゲート電極25と、それを埋め込む層間絶縁層26とが形成される。
【0128】
そして、層間絶縁層26及びゲート絶縁層24にコンタクトホールH1を形成した後、層間絶縁層26上に、ソース電極27a及びドレイン電極27bを、それぞれソース領域23a及びドレイン領域23cにコンタクトされるように形成する。
【0129】
このように形成された薄膜トランジスタの上には、パッシベーション膜27が形成され、パッシベーション膜27上に、有機発光素子28の画素電極28aが形成される。画素電極28aは、パッシベーション膜27に形成されたビアホールH2によって、TFTのドレイン電極27bにコンタクトされる。パッシベーション膜27は、無機物及び/または有機物を用いて、単層または2層以上の構造を有するように形成される。また、パッシベーション膜27は、その下に存在する膜に起因する凹凸に係わらず、上面が平坦になるように形成してもよく、下に位置した膜の凹凸に対応する凹凸を有するように形成されてもよい。パッシベーション膜27は、有機発光素子28からの発光に対して共振効果を示すように、透明絶縁体から形成されることが望ましい。
【0130】
パッシベーション膜27上に画素電極28aを形成した後には、画素電極28a及びパッシベーション膜27を覆うように、画素定義膜29が有機物及び/または無機物によって形成され、画素電極28aが露出されるように画素定義膜29が開口される。
【0131】
そして、少なくとも画素電極28a上に、中間層28b及び対向電極28cが形成される。
【0132】
画素電極28aは、アノード電極の機能を有し、対向電極28cは、カソード電極の機能を有するが、画素電極28aと対向電極28cとの極性は、反対であってもよい。
【0133】
画素電極28aと対向電極28cは、中間層28bによって互いに離間されており、中間層28bに互いに異なる極性の電圧を加えることで、中間層28bに含まれる有機発光層が発光する。
【0134】
中間層28bは、有機発光層(organic emission layer)を含むことができる。他の例として、中間層28bは、有機発光層とともに、正孔注入層(HIL:hole injection layer)、正孔輸送層(hole transport layer)、電子輸送層(electron transport layer)及び電子注入層(electron injection layer)のうち少なくとも1層をさらに含むことができる。本実施形態は、上記構造に限定されるものではなく、中間層28bは有機発光層を有し、その他多様な機能層(図示せず)をさらに含むこともできる。
【0135】
このとき、中間層28bは、図14を参照して説明した表示装置の製造装置100を用いて形成されてもよい。
【0136】
1つの単位画素は、複数の副画素からなるが、複数の副画素は、多様な色の光を放出することができる。例えば、複数の副画素は、それぞれ赤色、緑色及び青色の光を放出する副画素を備えることができ、赤色、緑色、青色及び白色の光を放出する副画素(図示せず)を備えることもできる。
【0137】
前述のような薄膜封止層Eは、複数の無機層を含んでもよく、あるいは無機層及び有機層を含んでもよい。
【0138】
薄膜封止層Eの有機層は、高分子によって形成され、望ましくは、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、ポリエチレン及びポリアクリレートのうちいずれか一つによって形成される単一膜または積層膜である。さらに望ましくは、有機層は、ポリアクリレートから形成されてもよく、具体的には、ジアクリレート系モノマーとトリアクリレート系モノマーとを含むモノマー組成物が高分子化されたものを含んでもよい。モノマー組成物に、モノアクリレート系モノマーがさらに含まれてもよい。また、モノマー組成物に、TPOのような公知の光開始剤がさらに含まれてもよいが、本実施形態はこのような態様に限定されるものではない。
【0139】
薄膜封止層Eの無機層は、金属酸化物または金属チッ化物を含む単一膜または積層膜でもある。具体的に、無機層は、SiNx、Al23、SiO2、TiO2のうちいずれか一つを含んでもよい。
【0140】
薄膜封止層Eのうち、外部に露出された最上層は、有機発光素子への水の侵入を防止するために、無機層から形成されてもよい。
【0141】
薄膜封止層Eは、少なくとも2層の無機層間に、少なくとも1層の有機層が挿入されたサンドイッチ構造を少なくとも一つ含んでもよい。他の例として、薄膜封止層Eは、少なくとも2層の有機層間に、少なくとも1層の無機層が挿入されたサンドイッチ構造を少なくとも一つ含んでもよい。さらに他の例として、薄膜封止層Eは、少なくとも2層の無機層間に、少なくとも1層の有機層が挿入されたサンドイッチ構造、及び少なくとも2層の有機層間に、少なくとも1層の無機層が挿入されたサンドイッチ構造を含んでもよい。
【0142】
薄膜封止層Eは、有機発光素子(OLED)側から順に、第1無機層、第1有機層、第2無機層を含んでもよい。
【0143】
他の例として、薄膜封止層Eは、有機発光素子(OLED)側から順に、第1無機層、第1有機層、第2無機層、第2有機層、第3無機層を含んでもよい。
【0144】
さらに他の例として、薄膜封止層Eは、有機発光素子(OLED)側から順に、第1無機層、第1有機層、第2無機層、第2有機層、第3無機層、第3有機層、第4無機層を含んでもよい。
【0145】
有機発光素子(OLED)と第1無機層との間に、LiFを含むハロゲン化金属層が追加して含まれてもよい。ハロゲン化金属層は、第1無機層をスパッタリング方式で形成するとき、有機発光素子(OLED)の損傷を防止することができる。
【0146】
第1有機層は、第2無機層より面積を狭くすることができ、第2有機層も、第3無機層より面積を狭く形成することができる。
【0147】
従って、表示装置20は、精密なパターンを形成する中間層28bを有し、中間層28bが正確な位置に蒸着されて形成されることにより、精密なイメージを与えることが可能である。また、表示装置20は、反復的に中間層28bを蒸着する場合でも、同一のパターンで中間層28bを形成することにより、均一な品質を示す。
【0148】
以上、本発明は、図面に示された一実施形態を参照して説明したが、それは例示的なものに過ぎず、当該分野の当業者であるならば、この実施形態から多様な変形が可能であるという点を理解するであろう。従って、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決定される。
【産業上の利用可能性】
【0149】
本発明の蒸着用マスク、その製造方法、及び表示装置の製造方法は、例えば、表示装置関連の技術分野に効果的に適用可能である。
【符号の説明】
【0150】
20 表示装置
21 基板
22 バッファ層
23 活性層
23a ソース領域
23b チャネル領域
23c ドレイン領域
24 ゲート絶縁層
25 ゲート電極
26 層間絶縁層
27 パッシベーション膜
27a ソース電極
27b ドレイン電極
28 有機発光素子
28a 画素電極
28b 中間層
28c 対向電極
29 画素定義膜
100 表示装置の製造装置
110 蒸着用マスク
111 第1リブ部
112 パターン部
112e エッチング部
112h パターンホール
112r 第2リブ部
120 チャンバ
120a ゲート弁
130 第1支持部
140 第2支持部
150 撮像部
160 蒸発源
160a ヒータ
170 圧力調節部
171 連結配管
172 圧力調節ポンプ
210 蒸着用マスク
211 第1リブ部
212 パターン部
212e エッチング部
212h パターンホール
212r 第2リブ部
212r 第2リブ
310 蒸着用マスク
311 第1リブ部
312 第2エッチング部
312 パターン部
312e 第2エッチング部
312e 第1エッチング部
312e エッチング部
312h パターンホール
312m パターン溝
312r 第2リブ部
図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7
図8
図9
図10
図11
図12
図13
図14
図15
図16