【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明者らは、前述のような観点から、高熱発生を伴い、かつ、切れ刃に断続的・衝撃的負荷が作用する高速断続切削加工などに用いられた場合でも、硬質被覆層がすぐれた靭性および熱遮蔽効果を備え、その結果、長期の使用に亘ってすぐれた耐チッピング性、耐欠損性を発揮する被覆工具を開発すべく、TiとAlの複合炭窒化物層について鋭意研究を行った結果、以下の知見を得た。
【0009】
即ち、硬質被覆層として、従来の少なくとも1層の(Ti,Al)N層および/または(Ti,Al)CN層を含み、かつ所定の合計平均層厚を有する1層または2層以上からなるTiとAlの複合化合物層を形成したものにおいては、TiとAlの複合化合物層が基体的に垂直方向に柱状をなして形成されている。そのため、耐摩耗性および熱伝導率は向上する。その反面、TiとAlの複合化合物層の異方性が高くなるほど、靭性および熱遮蔽効果が低下し、その結果、耐チッピング性、耐欠損性が低下し、長期の使用に亘って十分な耐摩耗性を発揮することができず、また、工具寿命も満足できるものであるとはいえなかった。
そこで、本発明者らは、硬質被覆層を構成する(Ti,Al)CN層について鋭意研究したところ、(Ti,Al)CN層の異方性を緩和し靭性および熱遮蔽効果を高めることによって、硬質被覆層の耐チッピング性、耐欠損性を向上させることができるという新規な知見を見出した。
【0010】
具体的には、硬質被覆層に少なくとも含まれる複合炭窒化物層を組成式:(Ti
1−xAl
x)(C
yN
1−y)で表した場合、TiとAlの合量に占めるAlの含有割合xおよびCとNの合量に占めるCの含有割合y(但し、x、yはいずれも原子比)が、それぞれ、0.80≦x≦0.95、0.001≦y≦0.01を満足するとともに、層内に層厚方向を分断する複数の薄い低塩素濃度の分断層を存在させることにより、(Ti,Al)CN層の異方性が緩和され、靭性および熱遮蔽効果が高められる。
【0011】
そして、前述のような構成の(Ti,Al)CN層は、例えば、以下の化学蒸着法によって成膜することができる。
(a)成膜工程
工具基体表面に、反応ガス組成(容量%)を、TiCl
4:1.5〜2.5%、Al(CH
3)
3:1.0〜3.0%、AlCl
3:6.0〜10.0%、NH
3:2.0〜5.0%、N
2:6.0〜7.0%、C
2H
4:0〜1.0%、Ar:0〜10.0%、H
2:残、反応雰囲気圧力:2〜5kPa、反応雰囲気温度:750〜900℃として、所定時間、熱CVD法を行うことにより、所定の目標層厚の柱状組織の(Ti,Al)CN層を成膜する。
(b)パルス工程
前記(a)の成膜工程の途中で、所定の周期でAl(CH
3)
3とAlCl
3の添加量をAl(CH
3)
3:4.0〜6.0%、AlCl
3:0〜1.0%に変化させたパルス工程を所定時間挟む。
【0012】
そして、通常、物理蒸着法では、TiAlCN層中のAlとTiの合量に占めるAlの含有割合xが0.5を超えると立方晶構造を形成することが難しいが、前述した化学蒸着法によれば、TiAlCN層中のAlとTiの合量に占めるAlの含有割合xが0.80≦x≦0.95とAlリッチであっても、安定的に立方晶結晶構造が出来ることを見出した。さらに、分断層のTiAlCN層中のAlとTiの合量に占めるAlの含有割合xが0.50≦x≦0.70であり、平均層厚が1〜10nm、周期が10〜50層/μmすなわち平均間隔が20〜100nmである場合には、特に、耐欠損性、耐チッピング性が向上し、切れ刃に断続的・衝撃的負荷が作用する鋼や鋳鉄の高速断続切削加工に用いた場合でも、硬質被覆層が、長期の使用に亘ってすぐれた切削性能を発揮し得ることを見出した。
【0013】
本発明は、前記知見に基づいてなされたものであって、
「(1) 炭化タングステン基超硬合金、炭窒化チタン基サーメットまたは立方晶窒化ホウ素基超高圧焼結体のいずれかで構成された工具基体の表面に硬質被覆層
が被覆
されている表面被覆切削工具において、
(a)前記硬質被覆層は
、平均層厚1〜20μmのTiとAlの複合炭窒化物層を少なくとも含み、
(b)前記複合炭窒化物層は、組成式:(Ti
1−xAl
x)(C
yN
1−y)で表した場合、TiとAlの合量に占めるAlの含有割合xおよびCとNの合量に占めるCの含有割合y(但し、x、yはいずれも原子比)が、それぞれ、0.80≦x≦0.95、0.005≦y≦0.05を満足するとともに、層内に層厚方向を分断する複数の薄い分断層を有し、
(c)前記分断層は、平均層厚が1〜10nmであり、前記複合炭窒化物層の層厚方向1μmあたり10〜50層存在し、かつ、組成式:(Ti
1−xAl
x)(C
yN
1−y)で表した場合、TiとAlの合量に占めるAlの含有割合xおよびCとNの合量に占めるCの含有割合y(但し、x、yはいずれも原子比)が、それぞれ、0.50≦x≦0.70、0.005≦y≦0.05を満足する、
ことを特徴とする表面被覆切削工具。
(2) 前記分断層を構成する原子の合量に占めるClの含有割合z(但し、zは原子比)が、z≦0.01であることを特徴とする(1)に記載の表面被覆切削工具。
(3) 前記複合炭窒化物層は、少なくともトリメチルアルミニウムを反応ガス成分として含有する化学蒸着法により成膜
することを特徴とする(1)または(2)に記載の表面被覆切削工具
の製造方法。」
に特徴を有するものである。
【0014】
本発明について、以下に詳細に説明する。
【0015】
硬質被覆層を構成するTiとAlの複合炭窒化物層((Ti
1−xAl
x)(C
yN
1−y)層)の平均組成および平均層厚:
硬質被覆層を構成するTiとAlの複合炭窒化物層は、組成式:(Ti
1−xAl
x)(C
yN
1−y)で表した場合、TiとAlの合量に占めるAlの含有割合x(原子比)の値が0.80未満になると、高温硬さが不足し耐摩耗性が低下するようになり、一方、x(原子比)の値が0.95を超えると、相対的なTi含有割合の減少により、立方晶構造を維持できず、そのため高温強度が低下し、チッピング、欠損を発生しやすくなることから、x(原子比)の値は、0.80以上0.95以下とすることが必要である。
なお、PVD法によって前記組成の((Ti
1−xAl
x)(C
yN
1−y)層を蒸着形成した場合には、結晶構造は六方晶となるが、本発明では、前述した化学蒸着法によって蒸着形成していることから、立方晶構造を維持したままで前記組成の(Ti
1−xAl
x)(C
yN
1−y)層を得ることができるので、Alを高濃度で含有しているにもかかわらず、皮膜硬さの低下がほとんど起こらない。
また、前記(Ti
1−xAl
x)(C
yN
1−y)層において、C成分には層の硬さを向上させ、一方、N成分には層の高温強度を向上させる作用があるが、C成分の含有割合y(原子比)が0.005未満となると高硬度が得られなくなり、一方、y(原子比)が0.05を超えると、高温強度が低下してくることから、y(原子比)の値は、0.005以上0.05以下と定めた。
また、前記(Ti
1−xAl
x)(C
yN
1−y)層は、その平均層厚が1μm未満では、基体との密着性を十分確保することができず、一方、その平均層厚が20μmを越えると、高熱発生を伴う高速ミーリング切削で熱塑性変形を起し易くなり、これが偏摩耗の原因となることから、その合計平均層厚は1〜20μmと定めた。
【0016】
本発明は、前記硬質被覆層の構成に加えて、この硬質被覆層内に下記の条件を満足する分断層を有するとき、硬質被覆層を構成する立方晶構造を有する複合炭窒化物の粗粒化を抑制することができるため、その結果、すぐれた耐摩耗性および耐チッピング性を発揮する。
【0017】
TiとAlの複合炭窒化物層内の分断層の平均層厚:
前記分断層の平均層厚は、1〜10nmのとき、その効果が際立って発揮される。その理由は、分断層の平均層厚が1nm未満であると分断層が複合炭窒化物の粗粒化を抑制する効果が十分に発揮されないため、靭性および耐チッピング性を高めるという分断層の持つ作用が十分に発揮されない。一方、分断層の平均層厚が10nmを超えると立方晶結晶組織を完全に分断させてしまい、その結果、立方晶結晶組織が有する高硬度を維持できなくなる。したがって、分断層の平均層厚は、1〜10nmと定めた。
【0018】
TiとAlの複合炭窒化物層内の分断層の平均組成:
前記分断層は、組成式:(Ti
1−xAl
x)(C
yN
1−y)で表した場合、TiとAlの合量に占めるAlの含有割合x(原子比)の値が0.50〜0.70とすることにより、素地の組織の格子定数と分断層の組織の格子定数との間に有意な差が出来、その結果、素地の組織の粗粒化を抑制することができる。一方、x(原子比)の値が0.70を超えると、素地の組織の格子定数と分断層の組織の格子定数との間に有意な差が出来ず、素地の組織の粗粒化を抑制するという分断層の作用が十分に発揮されない。またxが0.50よりも小さいと高温での耐酸化性を維持できない。
また、C成分には層の硬さを向上させ、一方、N成分には層の高温強度を向上させる作用があるが、C成分の含有割合y(原子比)が0.005未満となると高硬度が得られなくなり、一方、y(原子比)が0.05を超えると、高温強度が低下してくることから、y(原子比)の値は、0.005以上0.05以下と定めた。
【0019】
TiとAlの複合炭窒化物層内の分断層の周期:
前記分断層は、層厚方向1μmあたり10〜50層存在するときに前述した靭性および耐チッピング性を高めるという分断層の持つ作用がより一層発揮される。その理由は、分断層が1μm当たり10層を下回ると靭性の向上効果が十分に発揮されず、一方、50層を超えると硬さが低下し、耐逃げ面摩耗性が低下するからである。
【0020】
TiとAlの複合炭窒化物層内の分断層中のCl濃度:
硬質被覆層を化学蒸着法で形成した場合には、反応ガス成分に起因するClが微量に層中に含まれる。しかしながら、平均塩素含有量が1原子%以下であれば、硬質被覆層の脆化は生じず、硬質被覆層の特性に悪影響を与えないばかりか、硬質被覆層と基体との界面から、硬質被覆層の表面側に向かうにしたがって、低濃度塩素含有層が10〜50層/μmの間隔で存在する膜構造を有する場合には、硬質被覆層は潤滑性を備えるばかりか、耐チッピング性も向上することを見出した。そこで、本発明では、分断層を形成するときの反応ガスであるAlCl
3の含有割合を低減することにより、分断層中のClの含有割合を1原子%以下に制御することにより、硬質被覆層の潤滑性、耐チッピング性を向上させることに成功した。
本発明の硬質被覆層を構成するTiとAlの複合炭窒化物層の縦断面の概略模式図を
図1に示す。