特許6249733ルテニウム錯体及びその製造方法、ルテニウム含有薄膜及びその作製方法

発明の名称　ルテニウム錯体及びその製造方法、ルテニウム含有薄膜及びその作製方法

出願人　東ソー株式会社　（識別番号 3300）

　　　　特許公開件数ランキング 159 位（163件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 83 位（224件）（共同出願を含む）

出願人　公益財団法人相模中央化学研究所　（識別番号 173762）

　　　　特許公開件数ランキング 1997 位（16件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 4593 位（16件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6249733

公報発行日　2017年12月20

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6249733

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