期限日
知財求人情報
特・実 審査基準
法文集
特許第6573216号(P6573216)
IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版
ホーム
>
特許ランキング
>
信越半導体株式会社
ツイート
知財求人
- 知財ポータルサイト「IP Force」
▶ 信越半導体株式会社の特許一覧
特許
6573216
気相成長装置及びエピタキシャルウェーハの製造方法
書誌
要約
請求の範囲
詳細な説明
課題
実施例
実施するための形態
図面の説明
目に優しい
通常表示
文字サイズ
小
中
大
PDF
Top
<
>
<
>
1A
1B
2A
2B
2C
3A
3B
4A
4B
5A
5B
6A
6B
7A
7B
8
16
