特開 2022-87015 成膜装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2022087015

(43)【公開日】2022-06-09

(54)【発明の名称】成膜装置

(51)【国際特許分類】

   C23C 14/00 20060101AFI20220602BHJP

【ＦＩ】

C23C14/00 B

【審査請求】未請求

【請求項の数】10

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021169001

(22)【出願日】2021-10-14

(31)【優先権主張番号】P 2020198682

(32)【優先日】2020-11-30

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(71)【出願人】

【識別番号】591065413

【氏名又は名称】キヤノントッキ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110003281

【氏名又は名称】特許業務法人大塚国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】砂川 貴宏

(72)【発明者】

【氏名】佐藤 功康

(72)【発明者】

【氏名】相澤 雄樹

(72)【発明者】

【氏名】合田 晃宏

【テーマコード（参考）】

4K029

【Ｆターム（参考）】

4K029DA10

4K029DB11

4K029KA01

(57)【要約】

【課題】防着板のメンテナンス時のアクセス性を向上すること。
【解決手段】基板を搬送しながら基板に対して成膜を行うインライン式の成膜装置は、基板を搬送する搬送ユニットと、蒸着源を含み、搬送ユニットの下方の第１位置と、第１位置に対して横方向に変位した第２位置とに移動可能な蒸着ユニットと、蒸着源から放出された蒸着物質が基板に付着することを許容しつつ、蒸着ユニットの内壁に付着することを防止する防着板を備える。防着板は、蒸着ユニットに支持され、蒸着ユニットとともに第１位置と第２位置とに移動可能である。
【選択図】図７

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板を搬送する搬送ユニットと、
蒸着源を含み、前記搬送ユニットの下方の第１位置と、前記第１位置に対して横方向に変位した第２位置とに移動可能な成膜源ユニットと、
前記蒸着源から放出された蒸着物質が基板に付着することを許容しつつ、前記成膜源ユニットの内壁に付着することを防止する防着板を備え、
基板を搬送しながら基板に対して成膜を行うインライン式の成膜装置であって、
前記防着板は、前記成膜源ユニットに支持され、前記成膜源ユニットとともに前記第１位置と前記第２位置とに移動可能である、
ことを特徴とする成膜装置。

【請求項2】

前記防着板は、前記成膜源ユニットに対して上下に移動可能である、ことを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。

【請求項3】

前記防着板は、前記成膜源ユニットに固定される下側部分と、前記成膜源ユニットに対して上下に移動可能な上側部分とを含む、ことを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。

【請求項4】

前記成膜源ユニットは、前記第１位置の上方であって前記搬送ユニットの下部に接続する第３位置にも移動可能であり、
前記成膜源ユニットが前記第３位置から前記第１位置へ移動するのに連動して、前記防着板は、前記成膜源ユニットに対して下方に移動する、
ことを特徴とする請求項１～３のいずれか１項に記載の成膜装置。

【請求項5】

前記防着板は、前記成膜源ユニットが前記第１位置から前記第２位置に移動する際に前記搬送ユニットとの接触を回避可能な位置まで、前記成膜源ユニットに対して下方に移動する、ことを特徴とする請求項１～４のいずれか１項に記載の成膜装置。

【請求項6】

前記防着板は、
前記蒸着源の周囲を覆う側壁と、
前記蒸着源から放出された前記蒸着物質が通過する、基板に対向する開口と、を含む、
ことを特徴とする請求項１～５のいずれか１項に記載の成膜装置。

【請求項7】

前記成膜源ユニットが前記搬送ユニットの下部に接続する第３位置にある場合には、前記防着板は、前記防着板の上端が前記搬送ユニットの下端よりも上方に位置するように配置される、ことを特徴とする請求項２に記載の成膜装置。

【請求項8】

前記成膜源ユニットが前記第３位置にある場合における、前記搬送ユニットの前記下端から前記防着板の前記上端までの距離は、前記成膜源ユニットの前記第３位置から前記第１位置までの移動距離よりも大きい、ことを特徴とする請求項７に記載の成膜装置。

【請求項9】

基板を搬送する搬送ユニットと、
蒸着源を含み、前記搬送ユニットの下方の第１位置と、前記第１位置に対して横方向に変位した第２位置とに移動可能な成膜源ユニットと、
前記蒸着源から放出された蒸着物質が基板に付着することを許容しつつ、前記成膜源ユニットの内壁に付着することを防止する防着板と、を備え、
基板を搬送しながら基板に対して成膜を行うインライン式の成膜装置であって、
前記防着板は、前記成膜源ユニットに支持され、前記成膜源ユニットとともに前記第１位置と前記第２位置とに移動可能であり、
前記成膜源ユニットは、前記第１位置の上方であって前記搬送ユニットの下部に接続する第３位置にも移動可能であり、
前記成膜装置は、前記成膜源ユニットの傾きに関する値を検出する検出手段を備える、
ことを特徴とする成膜装置。

【請求項10】

前記成膜源ユニットの前記第１位置と前記第３位置との間の昇降動作において、前記検出手段により検出された前記傾きに関する値が所定条件を満たさない場合に前記昇降動作を停止する停止手段をさらに備える、
ことを特徴とする請求項９に記載の成膜装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、成膜装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、基板を搬送しながら基板に対して処理を行うインライン式の装置が知られている。特許文献１には、インライン式の基板処理装置において、成膜源を真空チャンバ内の成膜位置から真空チャンバ外のメンテナンス位置に移動可能な技術が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１６－１４１７４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

ところで、このような成膜装置では、真空チャンバ等の基板以外の部材への蒸着物質の付着を抑制するために防着板が設けられることがある。上記従来技術では、成膜源をメンテナンス位置に移動した場合に防着板が基板搬送側の真空チャンバ内に留まるので、防着板のメンテナンス時に防着板にアクセスしにくいことがある。

【0005】

本発明は、防着板のメンテナンス時のアクセス性を向上する技術を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明の一側面によれば、
基板を搬送する搬送ユニットと、
蒸着源を含み、前記搬送ユニットの下方の第１位置と、前記第１位置に対して横方向に変位した第２位置とに移動可能な成膜源ユニットと、
前記蒸着源から放出された蒸着物質が基板に付着することを許容しつつ、前記成膜源ユニットの内壁に付着することを防止する防着板を備え、
基板を搬送しながら基板に対して成膜を行うインライン式の成膜装置であって、
前記防着板は、前記成膜源ユニットに支持され、前記成膜源ユニットとともに前記第１位置と前記第２位置とに移動可能である、
ことを特徴とする成膜装置が提供される。

【発明の効果】

【0007】

本発明によれば、防着板のメンテナンス時のアクセス性を向上することができる。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】一実施形態に係る成膜装置を模式的に示す正面図。

【図2】図１の成膜装置の側面図。

【図3】図１の成膜装置の内部構造を模式的に示す図。

【図4】移動ユニットによる蒸着源ユニットの移動動作を説明する図。

【図5】防着板の構成を示す斜視図。

【図6】防着板の構成を示す斜視図。

【図7】（Ａ）～（Ｃ）は、防着板の搬送ユニットに対する配置を模式的に示す図。

【図8】防着板の動作説明図。

【図9】一実施形態に係る成膜装置を模式的に示す正面図。

【図10】図９の成膜装置の平面図。

【発明を実施するための形態】

【0009】

以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではなく、また実施形態で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明に必須のものとは限らない。実施形態で説明されている複数の特徴のうち二つ以上の特徴が任意に組み合わされてもよい。また、同一若しくは同様の構成には同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。

【0010】

また、各図において、Ｘ方向は基板の搬送方向、Ｙ方向は基板の幅方向、Ｚ方向は上下方向を示す。

【0011】

＜第１実施形態＞
＜成膜装置の概要＞
図１は、一実施形態に係る成膜装置１を模式的に示す正面図である。図２は、図１の成膜装置１の側面図である。図３は、図１の成膜装置１の内部構造を模式的に示す図である。

【0012】

成膜装置１は、基板を搬送しながら基板に対して蒸着を行うインライン式の成膜装置である。成膜装置１は、例えばスマートフォン用の有機ＥＬ表示装置の表示パネルの製造に用いられ、複数台並んで配置されてその製造ラインを構成し得る。

【0013】

本実施形態では、成膜装置１には基板保持トレイ１００に保持された基板が順次搬送され、成膜装置１は搬送されてきた基板に対して有機ＥＬの蒸着を行う。基板は、例えば成膜装置１に搬送されるよりも上流の工程でマスクと重ね合わされた状態で基板保持トレイ１００に保持されて成膜装置１に搬送される。したがって、成膜装置１ではマスクにより所定のパターンの蒸着物質の薄膜が基板上に形成される。成膜装置１で蒸着が行われる基板の材質としては、ガラス、樹脂、金属等を適宜選択可能であり、ガラス上にポリイミド等の樹脂層が形成されたものが好適に用いられる。蒸着物質としては、有機材料、無機材料（金属、金属酸化物など）などの物質である。成膜装置１は、例えば表示装置（フラットパネルディスプレイなど）や薄膜太陽電池、有機光電変換素子（有機薄膜撮像素子）等の電子デバイスや、光学部材等を製造する製造装置に適用可能であり、特に、有機ＥＬパネルを製造する製造装置に適用可能である。以下の説明においては成膜装置１が真空蒸着によって基板に成膜を行う例について説明するが、成膜方法の態様はこれに限定はされず、スパッタやＣＶＤ等の各種成膜方法を適用可能である。

【0014】

成膜装置１は、搬送ユニット２と、蒸着源ユニット３と、防着板６と、移動ユニット７と、フレーム部１０１とを含む。

【0015】

フレーム部１０１は、成膜装置１の搬送ユニット２等の構成要素を支持可能に設けられる。図１の例では、フレーム部１０１は、柱及び梁を含み、搬送ユニット２及び真空ポンプ１０２を支持している。また、フレーム部１０１には、作業用のクレーンや作業者がメンテナンスを行うための通路等が設けられてもよい。

【0016】

搬送ユニット２は、基板を搬送する。本実施形態では、搬送ユニット２は、基板を保持した状態の基板保持トレイ１００を搬送することにより、基板の搬送を行う。搬送ユニット２は、搬送チャンバ２１と、搬送ローラ２２と、を含む。

【0017】

搬送ユニット２は、基板を搬送する。本実施形態では、搬送ユニット２は、基板を保持した状態の基板保持トレイ１００を搬送することにより、基板の搬送を行う。搬送ユニット２は、搬送チャンバ２１と、搬送ローラ２２と、を含む。

【0018】

搬送チャンバ２１は、内部を真空に保持可能な箱型のチャンバである。搬送チャンバ２１の内部空間２１０は、真空雰囲気か、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気に維持されている。本実施形態では、搬送チャンバ２１は真空ポンプ１０２に接続されている。なお、本明細書において「真空」とは、大気圧より低い圧力の気体で満たされた状態、換言すれば減圧状態をいう。

【0019】

搬送チャンバ２１には、基板保持トレイ１００が搬入される搬入開口２１１及び基板保持トレイ１００が搬出される搬出開口２１２が形成されている。また、搬送チャンバ２１の下部には、内部空間２１０と蒸着源チャンバ３１の内部空間３１０とを連通するための連通開口２１３が形成されている。なお、搬入開口２１１及び搬出開口２１２には、内部空間２１０を真空に保持するために不図示のゲートバルブ等が設けられてもよい。

【0020】

搬送ローラ２２は、基板を保持した基板保持トレイ１００を搬送する。搬送ローラ２２は、搬送チャンバ２１の内部空間２１０に設けられる。搬送ローラ２２は、例えば金属材料で形成された、回転可能に支持される円筒形状の部材である。搬送ローラ２２は、例えば搬送チャンバ２１の外部に設けられた不図示の電動モータにより駆動する。

【0021】

また、本実施形態では、搬送ユニット２の下部には、補強用のリブ２３が設けられている。

【0022】

蒸着源ユニット３は、基板に対して蒸着物質を放出する蒸着源３２（成膜源）を有するユニット（成膜源ユニット）である。本実施形態では、１つの搬送ユニット２に対して３つの蒸着源ユニット３が基板の搬送方向（Ｘ方向）に並んで配置されている。しかしながら、蒸着源ユニット３の数は適宜設定可能であり、２つ以下或いは４つ以上であってもよい。また、蒸着源ユニット３は、蒸着処理の実行時には搬送ユニット２の下方に位置し搬送ユニット２の下部に接続する。蒸着源ユニット３は、蒸着源チャンバ３１と、蒸着源３２と、を含む。

【0023】

蒸着源チャンバ３１は、内部を真空に保持可能な箱型のチャンバである。蒸着源チャンバ３１の内部空間３１０は、搬送チャンバ２１の上部に設けられた連通開口３１１を介して搬送チャンバ２１の内部空間２１０と連通可能である。内部空間３１０は、稼働時には内部空間２１０と同様、真空雰囲気か、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気に維持されている。

【0024】

蒸着源３２は、搬送ユニット２により搬送される基板に対する成膜のために蒸着物質を放出する。例えば、蒸着源３２はＹ方向に並んで配置された複数のノズル（不図示）を含み、それぞれのノズルから蒸着物質が放出される。また例えば、蒸着源３２は蒸着物質を貯留する貯留部及び貯留部に貯留された蒸着物質を加熱するヒータ（いずれも不図示）を含む。貯留部に貯留された蒸着物質がヒータによって加熱されて気化することにより、蒸着源３２から蒸着物質が放出される。

【0025】

また、蒸着源ユニット３は、蒸着源３２の不使用時に蒸着源３２を遮蔽するシャッタ又は蒸着源３２による蒸着物質の蒸発量を監視する蒸発レートモニタ等（いずれも不図示）を含んでもよい。

【0026】

なお、本実施形態では、詳しくは図４に示すように、蒸着源３２は、移動ユニット７により移動可能に構成される。

【0027】

防着板６は、蒸着源３２から放出された蒸着物質が蒸着源チャンバ３１又は搬送チャンバ２１の内壁等に付着することを防止する。例えば、防着板６は蒸着源チャンバ３１に支持される。本実施形態では、防着板６は、蒸着源３２を覆うように内部空間３１０から内部空間２１０に渡って位置するとともに、上部には開口が形成されている。このような構成により、蒸着物質の一部は開口を介して基板へと付着する一方、残りの蒸着物質は防着板６に付着する。このように、防着板６は、蒸着物質が基板に付着することを許容しつつ、蒸着物質が蒸着源チャンバ３１又は搬送チャンバ２１の内壁等に付着することを防止する。防着板６の具体的な構成については後述する。

【0028】

なお、搬送チャンバ２１又は蒸着源チャンバ３１には、防着板６以外にも防着板が設けられてもよい。例えば、搬送チャンバ２１の内部の天面又は側面等に防着板が設けられてもよい。

【0029】

移動ユニット７は、蒸着源ユニット３を搬送ユニット２に対して移動させるユニットである。本実施形態では、移動ユニット７は蒸着源ユニット３の下方に設けられ、蒸着源ユニット３を支持しつつ蒸着源ユニット３を上下方向（Z方向）又は横方向（Y方向）に移動させる。移動ユニット７は、横方向移動部７１と昇降部７２とを含む。

【0030】

横方向移動部７１は、蒸着源ユニット３を横方向（Y方向）に移動させる。本実施形態では、横方向移動部７１は蒸着源ユニット３を基板の搬送方向（Ｘ方向）に交差する基板の幅方向（Ｙ方向）に移動させる。横方向移動部７１は、床面に設けられたガイド部７１１と、ガイド部７１１沿って蒸着源ユニット３を移動させるための駆動部７１２とを含む。駆動部７１２としては周知の技術を適宜採用可能であるが、例えば、ガイド部７１１としてのレール上を走行可能な駆動輪を、モータ等により回転させてもよい。

【0031】

昇降部７２は、蒸着源ユニット３を昇降させる。本実施形態では、昇降部７２は、蒸着源ユニット３を上下方向（Ｚ方向）に昇降させる。昇降部７２は、蒸着源ユニット３を支持する蒸着源ユニット支持部７２１と、蒸着源ユニット支持部７２１を昇降させる駆動部７２２とを含む。駆動部７２２としては周知の技術を採用可能であるが、例えば電動シリンダ等により蒸着源ユニット支持部７２１を昇降させてもよい。

【0032】

図４は、移動ユニット７による蒸着源ユニット３の移動動作を説明する図である。

【0033】

状態ＳＴ１は、蒸着源ユニット３が搬送ユニット２と接続する接続位置ＰＯＳ１（第３位置）に位置している状態である。状態ＳＴ１は成膜装置１が基板に対する蒸着を行う際の状態である。状態ＳＴ１では、蒸着源ユニット３が搬送ユニット２の下方に位置し、搬送ユニット２の下部と蒸着源ユニット３の上部とが接続している。

【0034】

状態ＳＴ２は、蒸着源ユニット３が接続位置ＰＯＳ１からその下方の接続解除位置ＰＯＳ２（第１位置）に移動した状態である。蒸着源ユニット３は、移動ユニット７の昇降部７２により接続位置ＰＯＳ１から接続解除位置ＰＯＳ２にーZ方向に移動する。

【0035】

状態ＳＴ３は、蒸着源ユニット３が接続解除位置ＰＯＳ２から横方向への移動が完了した状態である。状態ＳＴ３において、蒸着源ユニット３は、搬送ユニット２又は蒸着源ユニット３のメンテンスが実行されるメンテナンス位置ＰＯＳ３（第２位置）に位置している。例えば、搬送ユニット２のメンテンスを行う場合には、作業者は、蒸着源ユニット３が横方向に移動したことにより生じた搬送ユニット２の下方のスペースから搬送チャンバ２１の内部にアクセスすることができる。また例えば、蒸着源ユニット３のメンテナンスを行う場合には、対象の蒸着源ユニット３をメンテナンス位置ＰＯＳ３まで移動させることにより、作業者は蒸着源チャンバ３１の長手方向の側面から蒸着源チャンバ３１の内部にアクセスすることができる。

【0036】

なお、本実施形態では、移動ユニット７は、複数の蒸着源ユニット３に対してそれぞれ設けられる。したがって、本実施形態の成膜装置１は、複数の蒸着源ユニット３をそれぞれ独立に移動させることができる。なお、複数の移動ユニット７を同期させて、複数の蒸着源ユニット３をまとめて移動させてもよい。また、蒸着源ユニット３よりも少ない数の移動ユニット７が設けられ、１つの移動ユニット７で複数の蒸着源ユニット３を移動させてもよい。

【0037】

＜防着板の構成＞
図５は、防着板６の構成を示す斜視図であり、蒸着源ユニット３が搬送ユニット２と接続しているときの状態を示している。すなわち、蒸着源ユニット３が接続位置ＰＯＳ１に位置しているときの防着板６の状態が示されている。本実施形態では、防着板６は、上側部分６１と下側部分６２とを含む。

【0038】

上側部分６１は、その側壁を形成する複数の側壁部材６１１～６１８を含む。また、上側部分６１の上部には開口６１９が形成されている。開口６１９は、蒸着処理の実行時に搬送ユニット２により搬送される基板に対向するように設けられている（図３参照）。蒸着源３２から放出された蒸着物質は、この開口６１９を通過して基板に付着する。また、上側部分６１は、蒸着源チャンバ３１と接続するための接続部６１１０を含む。接続部６１１０は、例えば上側部分６１を取り囲むように設けられるフレームに取り付けられ、このフレームが蒸着源チャンバ３１に支持されることにより蒸着源チャンバ３１と接続する。

【0039】

下側部分６２は、その側壁を形成する複数の側壁部材６２１～６２８を含む。また、上側部分６１は、蒸着源チャンバ３１と接続するための接続部６２１０を含む。接続部６２１０は、例えば下側部分６２を取り囲むように設けられるフレームに取り付けられ、このフレームが蒸着源チャンバ３１に支持されることにより蒸着源チャンバ３１と接続する。

【0040】

本実施形態では、上側部分６１は、例えば接続部６１１０が取り付けられるフレームが蒸着源チャンバ３１に対して上下方向に移動可能に支持されることにより、蒸着源チャンバ３１に対して上下方向に移動可能に設けられる。一方で、下側部分６２は、例えば接続部６２１０が取り付けられるフレームが蒸着源チャンバ３１に固定されることにより、蒸着源チャンバ３１に対して上下方向の移動を規制された状態で設けられる。つまり、上側部分６１は、下側部分６２に対して相対移動可能に設けられている。

【0041】

図６は、防着板６の構成を示す斜視図であり、上側部分６１が下側部分６２に対して相対的に下方に移動した状態を示している。例えば、防着板６は、蒸着源ユニット３と搬送ユニット２との接続が解除されているとき、すなわち、蒸着源ユニット３が接続解除位置ＰＯＳ２、メンテナンス位置ＰＯＳ３又はこれらの間に位置しているときに図６に示す状態となる。

【0042】

図７（Ａ）～図７（Ｃ）は、搬送ユニット２に対する防着板６の配置を模式的に示す図である。図７（Ａ）は、蒸着源ユニット３が接続位置ＰＯＳ１にある状態での防着板６の配置を示している。この状態では、上側部分６１の上端は、基板保持トレイ１００の搬送経路に近接している。基板保持トレイ１００と上側部分６１の上端が近づくことにより、基板に付着しない蒸着物質が蒸着源チャンバ３１又は搬送チャンバ２１の内壁等に付着することをより効果的に防止することができる。なお、この状態では、搬送ユニット２の下端から防着板６の上端までの距離は距離ΔＺ１となっている。

【0043】

図７（Ｂ）は、本実施形態と異なる態様として、防着板６の上側部分６１と下側部分６２との相対位置関係が変わらない構成で、蒸着源ユニット３が接続解除位置ＰＯＳ２にある状態を示している。ここで、防着板６を蒸着源ユニット３とともに接続解除位置ＰＯＳ２からメンテナンス位置ＰＯＳ３に移動させる際には、搬送ユニット２と防着板６との接触を回避する必要がある。図７（Ｂ）で示す構成の場合、搬送ユニット２と防着板６との接触を回避するためには、接続位置ＰＯＳ１から接続解除位置ＰＯＳ２までの蒸着源ユニット３の移動距離ΔＺ２を距離ΔＺ１より大きくする必要がある。

【0044】

図７（Ｃ）は、防着板６の上側部分６１が下側部分６２に対して下方に移動する構成で、蒸着源ユニット３が接続解除位置ＰＯＳ２にある状態を示している。図７（Ｃ）で示す構成の場合、搬送ユニット２と防着板６との接触を回避するために必要な接続位置ＰＯＳ１から接続解除位置ＰＯＳ２までの蒸着源ユニット３の移動距離ΔＺ３は、距離ΔＺ１よりも小さくなる。すなわち、図７（Ｃ）で示す構成の場合、蒸着源ユニット３の移動距離と、上側部分６１が下側部分６２に対して下方に移動する距離との合計が距離ΔＺ１よりも大きくなればよい。よって、蒸着源ユニット３の移動距離ΔＺ３は、距離ΔＺ１よりも小さくなり、結果として移動距離ΔＺ２よりも小さくなる。

【0045】

以上説明したように、本実施形態によれば、防着板６は、蒸着源ユニット３とともに接続解除位置ＰＯＳ２とメンテナンス位置ＰＯＳ３との間を移動可能である。これにより、防着板６を蒸着源ユニット３と一緒に引き出せるので、防着板６のメンテナンス時のアクセス性が向上する。よって、防着板６の取り出し又は防着板６に対する作業をより容易に実行することができる。

【0046】

また、本実施形態によれば、防着板６を蒸着源ユニット３と一緒に引き出す際に、防着板６は蒸着源ユニット３に対して下方に移動可能である。さらに言えば、防着板６の上側部分６１は、下側部分６２及び蒸着源ユニット３に対して下方に移動可能である。これにより、蒸着源ユニット３を防着板６とともに接続解除位置ＰＯＳ２からメンテナンス位置ＰＯＳ３に移動する際に搬送ユニット２と防着板６の接触を回避することができる。

【0047】

また、本実施形態によれば、搬送ユニット２と防着板６との接触を回避するために必要な接続位置ＰＯＳ１から接続解除位置ＰＯＳ２までの蒸着源ユニット３の移動距離ΔＺ３は、搬送ユニット２の下端から防着板６の上端までの距離ΔＺ１よりも小さい。よって、図７（Ｂ）で示すような防着板６の上側部分６１と下側部分６２との相対位置関係が変わらない構成と比較して蒸着源ユニット３の移動距離を低減することができる。また、別の観点から見れば、防着板６が蒸着源ユニット３に対して下方に移動可能な構成により、蒸着源ユニット３の移動時に搬送ユニット２と防着板６との接触を回避するのに必要な蒸着源ユニット３の移動距離ΔＺ３を低減しつつ、蒸着処理の実行時には防着板６を基板により近づけることができる。

【0048】

＜防着板の動作説明＞
本実施形態では、蒸着源ユニット３の搬送ユニット２に対する下方への移動に連動して、防着板６の上側部分６１が下側部分６２に対して下方に移動する。以下、蒸着源ユニット３と防着板６との連動動作について説明する。図８は、防着板６の動作説明図である。具体的には、蒸着源ユニット３が接続位置ＰＯＳ１から接続解除位置ＰＯＳ２に移動するのに連動して、上側部分６１が下側部分６２に対して相対的に下方に移動する動作を示している。

【0049】

図８には、上側部分６１を下側部分６２に対して移動させるための移動機構５が示されている。移動機構５は、可動板５１と、レバー５２と、ガイド５３とを含む。可動板５１は、上側部分６１に接続され、上側部分６１とともに上下方向に移動する。レバー５２は、蒸着源チャンバ３１に設けられた軸部材５２１に回動可能に支持される。レバー５２の一端には可動板５１に形成されたガイド溝５１１に沿って移動可能なローラ５２２が設けられる。レバー５２のローラ５２２が設けられる端部と反対側の端部には、ガイド５３に沿って移動可能なローラ５２３が設けられる。ガイド５３は、搬送チャンバ２１の内部に設けられ、ローラ５２３と当接する上側当接部５３１及び下側当接部５３２を含む。

【0050】

蒸着源ユニット３が接続位置ＰＯＳ１にある状態（状態ＳＴ１１）では、防着板６の上側部分６１が下側部分６２に対して下方に移動していない状態（図５参照）となっている。このとき、レバー５２のローラ５２３の位置は、ガイド５３により軸部材５２１よりも下方に位置するように規定されている。よって、レバー５２のローラ５２３が設けられる端部と反対側の端部に設けられるローラ５２２は、軸部材５２１よりも上方の位置で、上側部分６１に接続する可動板５１のガイド溝５１１に係合している。つまり、上側部分６１は、レバー５２によって持ち上げられた状態となっている。

【0051】

蒸着源ユニット３が接続位置ＰＯＳ１から下降している状態（状態ＳＴ１２）では、レバー５２はガイド５３により図示の方向で右回りに回動する。この回動は、レバー５２は、上側部分６１の自重により可動板５１を介してローラ５２２に加わる力、又はガイド５３の下側当接部５３２からローラ５２３に加わる力により生じる。この回動により、上側部分６１が下側部分６２対して下方に移動する。

【0052】

最終的に、蒸着源ユニット３が接続解除位置ＰＯＳ２に位置した状態（状態ＳＴ１３）では、上側部分６１が下側部分６２に対して下方へ所定距離移動している。この所定距離は、例えば図７（Ｃ）で示すような、搬送ユニット２と防着板６との接触を回避するのに必要な距離であってもよい。

【0053】

なお、蒸着源ユニット３が接続解除位置ＰＯＳ２から接続位置POS１に移動する際には、上記説明と逆の動作によって、上側部分６１が下側部分６２に対して上方に移動する。概略を述べると、蒸着源ユニット３が接続解除位置ＰＯＳ２から上昇し始めると、ある高さでローラ５２３がガイド５３に当接する。すると、ローラ５２３がガイド５３の上側当接部５３１から受ける力により、レバー５２は左回りに回動する。この回動により、可動板５１のガイド溝５１１にローラ５２２からの上方向の力が加わり、可動板５１及びこれに接続した上側部分６１が下側部分６２に対して上方向に移動する。

【0054】

本実施形態によれば、蒸着源ユニット３の上下方向の移動と防着板６の蒸着源ユニット３に対する相対的な移動が連動するので、より容易に防着板６を蒸着源ユニット３とともに移動させることができる。

【0055】

＜他の実施形態＞
上記実施形態では、防着板６を蒸着源ユニット３に対して相対的に上下に移動させるが、防着板６が蒸着源ユニット３に対して上下に移動しない構成も採用可能である。ただし、上記実施形態のように防着板６が蒸着源ユニット３に対して相対的に移動することにより、防着板６と搬送チャンバ２１との干渉を回避するために必要な蒸着源ユニット３の下降量を低減することができる。

【0056】

また、上記実施形態では、防着板６は、上側部分６１と下側部分６２とに分割されているが、上下に分割されない構成も採用可能である。すなわち、上側部分６１を下側部分６２及び蒸着源ユニット３に対して移動させるのではなく、防着板６全体を蒸着源ユニット３に対して上下に移動させてもよい。ただし、上記実施形態では、防着板６が上側部分６１と下側部分６２とに別れていることにより、防着板６と搬送チャンバ２１との干渉を回避するために必要な蒸着源ユニット３の下降量を低減することができる。

【0057】

詳細には、防着板６は、蒸着物質の蒸着源チャンバ３１の内壁への付着を抑制するため、その下端は蒸着源チャンバ３１の底に比較的近接して設けられることがある。よって、防着板６全体を蒸着源ユニット３に対して下げる場合、防着板６の下げ幅を大きく取ることができず、蒸着源ユニット３の下降量が大きくなってしまうことがある。これに対し、上側部分６１を下側部分６２に対して下げる場合には、上側部分６１の下端から蒸着源チャンバ３１の底までの距離が比較的大きいので、上側部分６１の下げ幅を大きく取ることができる。よって、蒸着源ユニット３の下降量をそれほど大きくする必要がない。よって、防着板６を上下に分割することにより、防着板６と搬送チャンバ２１との干渉を回避するために必要な蒸着源ユニット３の下降量を低減することができる。

【0058】

また、上記実施形態では、蒸着源ユニット３の上下方向の移動に連動して、上側部分６１が下側部分６２に対して上下方向に相対的に移動するが、蒸着源ユニット３の移動と上側部分６１の移動とが連動しない構成も採用可能である。例えば、図７（Ｂ）で示す状態から、作業者が手動で上側部分６１を下側部分６２に対して移動させてもよいし、モータ等を用いて上側部分６１を下側部分６２に対して移動させてもよい。

【0059】

また、蒸着源ユニット３の移動と上側部分６１の移動との連動の態様は、上記実施形態のようにリンク等を用いた機械的な機構で連動するものに限られない。例えば、成膜装置１が上側部分６１を下側部分６２に対して移動させるモータを備えてもよい。そして、成膜装置１の制御装置は、昇降部７２による蒸着源ユニット３の昇降を開始したのに基づいて、上側部分６１を移動させるモータを駆動させてもよい。すなわち、蒸着源ユニット３の移動と上側部分６１の移動とが制御的に連動していてもよい。

【0060】

また、上記実施形態では、防着板６は、基板保持トレイ１００の搬送経路の下方に配置されているが、防着板６が基板保持トレイ１００の上側まで延びていてもよい。すなわち、防着板６は、上記実施形態のように蒸着物質が通過する開口６１９に代えて、基板保持トレイ１００が通過可能な開口を、基板の搬送方向に交差する側面の上部に有していてもよい。

【0061】

また、成膜装置１は、蒸着源ユニット３の傾きに関する値を検出するセンサを備えていてもよい。そして、成膜装置１は、このセンサにより検出された蒸着源ユニット３の傾きに関する値が所定条件を満たさない場合に蒸着源ユニット３の昇降動作、すなわち、接続位置ＰＯＳ１ー接続解除位置ＰＯＳ２間の移動動作を停止してもよい。

【0062】

例えば、センサは、振り子式又はフロート式の傾斜センサのように蒸着源ユニット３の傾きを直接的に検出するものであってもよいし、加速度センサのように傾きを間接的に検出するものであってもよい。また例えば、センサは、両側の駆動部７２２の駆動負荷に関する値（例えば駆動電流値）又は両側の蒸着源ユニット支持部７２１にかかる蒸着源ユニット３の荷重等、蒸着源ユニット３に傾きが生じていることを把握することのできる値を検出するものであってもよい。

【0063】

また例えば、成膜装置１は、センサにより検出した蒸着源ユニット３の傾きが閾値以上である場合に、蒸着源ユニット３の昇降動作を停止してもよい。或いは、成膜装置１は、両側の駆動部７２２の駆動電流値や、蒸着源ユニット支持部７２１にかかる蒸着源ユニット３の荷重の差が閾値以上である場合に、蒸着源ユニット３の昇降動作を停止してもよい。

【0064】

＜第２実施形態＞
図９は、第３実施形態に係る成膜装置１３を模式的に示す正面図である。また、図１０は、図９の成膜装置１３の平面図であって、中央の蒸着源ユニット３がメンテナンス位置ＰＯＳ３に位置した状態を示している。本実施形態は、成膜装置１３が取り出しユニット５０を含んでいる点で第１実施形態と異なる。以下、第１実施形態と同様の構成については同様の符号を付して説明を省略する場合がある。

【0065】

取り出しユニット５０は、メンテナンス位置ＰＯＳ３に位置する蒸着源ユニット３の上方から所定の部品を取り出す。所定の部品としては、例えば、蒸着源ユニット３の蒸着源チャンバ３１に収容されている蒸着源チャンバ３１及び防着板６等が挙げられる。取り出しユニット５０は、蒸着源ユニット３の上方を移動可能なようにフレーム部１０１に支持される。取り出しユニット５０は、保持部５０１と、鉛直移動部５０２と、水平移動部５０３とを含む。

【0066】

保持部５０１は、所定の部品を保持する。例えば、保持部５０１は、その先端部分が水平方向等の所定の方向に移動することで所定の部品を把持してもよい。或いは、保持部５０１には、玉掛け用のワイヤを引っ掛けるためのフックが設けられており、所定の部品をワイヤで吊ることにより保持してもよい。なお、保持部５０１については、大きさの異なるものに対応可能なように、折りたたみ可能に構成されてもよい。

【0067】

鉛直移動部５０２は、保持部５０１を鉛直方向に移動する。鉛直移動部５０２としては公知の技術を適宜採用可能であるが、例えばボールねじ機構を有する電動シリンダや空圧式のバランスシリンダ等が用いられてもよい。

【0068】

水平移動部５０３は、保持部５０１を水平方向に移動する。詳細には、水平移動部５０３は、鉛直移動部５０２を水平方向に移動することにより、保持部５０１を水平方向に移動する。例えば、水平移動部５０３は、鉛直移動部５０２をＸ方向に移動するＸ方向移動部５０３１と、鉛直移動部５０２をＹ方向に移動するＹ方向移動部５０３２とを含む。本実施形態では、Ｙ方向移動部５０３２が鉛直移動部５０２をＹ方向に移動し、Ｘ方向移動部５０３１がＹ方向移動部５０３２をＸ方向に移動する。Ｘ方向移動部５０３１及びＹ方向移動部５０３２としては公知の技術を適宜採用可能であるが、例えばラックピニオン機構及びそのピニオンを回転させる電動モータを含んで構成されてもよい。また、滑車式の機構を用いて、駆動源は持たずX方向及びY方向のうちの少なくとも一方の移動は作業者による人力で行っても良い。

【0069】

例えば、取り出しユニット５０は、メンテナンス位置ＰＯＳ３に位置する蒸着源ユニット３から所定の部品を取り出すと、取り出した部品を不図示のメンテナンス用の台等に載置する。これにより、メンテナンス対象の部品が蒸着源チャンバ３１内にある場合よりも作業者によるメンテナンスが行いやすくなる。

【0070】

なお、取り出しユニット５０が複数設けられる構成も採用可能である。この場合、両外側の蒸着源ユニット３がメンテナンス位置ＰＯＳ３に引き出されている場合に、各蒸着源ユニット３からの部品の取り出しを並行して行うことができる。また、取り出しユニット５０が複数設けられる場合、例えばＸ方向移動部５０３１のレール部分等が共用となっていてもよい。

【0071】

発明は上記の実施形態に制限されるものではなく、発明の要旨の範囲内で、種々の変形・変更が可能である。

【符号の説明】

【0072】

１ 成膜装置、２ 搬送ユニット、３ 蒸着源ユニット、６ 防着板

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】