特開 2023-23551 研磨パッド及び研磨方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023023551

(43)【公開日】2023-02-16

(54)【発明の名称】研磨パッド及び研磨方法

(51)【国際特許分類】

   B24B 37/26 20120101AFI20230209BHJP

   B24B 37/22 20120101ALI20230209BHJP

【ＦＩ】

B24B37/26

B24B37/22

【審査請求】未請求

【請求項の数】6

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021129163

(22)【出願日】2021-08-05

(71)【出願人】

【識別番号】000232243

【氏名又は名称】日本電気硝子株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100105957

【弁理士】

【氏名又は名称】恩田 誠

(74)【代理人】

【識別番号】100068755

【弁理士】

【氏名又は名称】恩田 博宣

(72)【発明者】

【氏名】上田 康彦

(72)【発明者】

【氏名】山岡 一郎

【テーマコード（参考）】

3C158

【Ｆターム（参考）】

3C158AA07

3C158CA04

3C158CA06

3C158CB03

3C158EA11

3C158EB01

3C158EB05

3C158EB06

3C158EB22

3C158EB29

(57)【要約】

【課題】研磨効率を高めることのできる研磨パッド及び研磨方法を提供する。
【解決手段】研磨パッド１０の研磨層３０は、積層方向に沿って突出する複数の突出部５０を備える。突出部５０は、積層方向における平面視において環状をなす環状壁６０と、環状壁６０に囲われる凹部５１と、環状壁６０の先端部を貫通し、凹部５１と連通する連通溝５２と、を有する。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基材層と前記基材層の主面に積層される研磨層とを備え、研磨対象との相対回転によって前記研磨対象を研磨する研磨パッドであって、
前記研磨層は、前記基材層及び前記研磨層の積層方向に沿って突出する複数の突出部を備え、
前記突出部は、前記積層方向における平面視において環状をなす環状壁と、前記環状壁に囲われる凹部と、前記環状壁の先端部を貫通し、前記凹部と連通する連通溝と、を有する
ことを特徴とする研磨パッド。

【請求項2】

前記環状壁の先端面を基準としたとき、前記積層方向における前記凹部の深さは、前記積層方向における前記連通溝の深さ以下である
請求項１に記載の研磨パッド。

【請求項3】

前記環状壁は、前記研磨対象に対する相対回転方向と交差し、前記凹部を挟んで向かい合う第１側壁及び第２側壁を有し、
前記連通溝は、前記第１側壁及び前記第２側壁のうち一方の側壁に設けられている
請求項１又は請求項２に記載の研磨パッド。

【請求項4】

前記第１側壁及び前記第２側壁のうち前記連通溝が設けられる側壁は、前記主面に対する角度が鋭角となる外側面を含む
請求項３に記載の研磨パッド。

【請求項5】

前記積層方向における平面視において、前記連通溝の幅は、前記第１側壁及び前記第２側壁のうち前記連通溝が設けられる側壁の厚さの２倍未満である
請求項３又は請求項４に記載の研磨パッド。

【請求項6】

研磨パッドを研磨対象に接触させた状態で、前記研磨パッドを前記研磨対象に対して相対回転させることにより、前記研磨対象を研磨する研磨方法であって、
前記研磨パッドとして、請求項１～請求項５の何れか一項に記載の研磨パッドを用いる
研磨方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、研磨パッド及び研磨方法に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、板ガラス等の研磨対象の表面を研磨する研磨パッドが開示されている。研磨パッドで研磨対象を研磨する際には、研磨パッドと研磨対象との間に、研磨用スラリーが供給される。研磨対象の表面は、研磨用スラリーに含まれる研磨材によって研磨される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００３－１４５４０２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

上記のような研磨パッドにおいて、研磨効率を高めるためには、研磨中、研磨パッドと研磨対象との間に研磨用スラリーが潤沢に供給されることが好ましい。この点で、上記のような研磨パッドは改善の余地が残されていた。

【課題を解決するための手段】

【0005】

以下、上記課題を解決するための手段及びその作用効果について記載する。
上記課題を解決する研磨パッドは、基材層と前記基材層の主面に積層される研磨層とを備え、研磨対象との相対回転によって前記研磨対象を研磨する研磨パッドであって、前記研磨層は、前記基材層及び前記研磨層の積層方向に沿って突出する複数の突出部を備え、前記突出部は、前記積層方向における平面視において環状をなす環状壁と、前記環状壁に囲われる凹部と、前記環状壁の先端部を貫通し、前記凹部と連通する連通溝と、を有する。

【0006】

上記構成の研磨パッドの突出部を研磨対象に接触させると、凹部は、連通溝に連通している部分を除き閉じた空間となる。このため、研磨パッドで研磨対象を研磨する場合、研磨用スラリーは、連通溝を介して凹部に進入し、凹部に供給され続ける。その結果、研磨用スラリーは、研磨パッドと研磨対象との間に潤沢に供給されやすくなる。したがって、研磨パッドは、研磨対象の研磨効率を向上できる。

【0007】

上記研磨パッドにおいて、前記環状壁の先端面を基準としたとき、前記積層方向における前記凹部の深さは、前記積層方向における前記連通溝の深さ以下であることが好ましい。

【0008】

研磨パッドで研磨層よりも硬い研磨対象を研磨し続けていると、環状壁は先端から徐々に摩耗する。この点、上記構成の研磨パッドは、凹部の深さが連通溝の深さ以下であるため、凹部よりも先に連通溝が無くなることがない。つまり、研磨パッドは、連通溝を介して、凹部に研磨用スラリーを供給できなくなることがない。したがって、上記構成の研磨パッドは、継続使用に対して、研磨効率が低下しにくい。

【0009】

上記研磨パッドにおいて、前記環状壁は、前記研磨対象に対する相対回転方向と交差し、前記凹部を挟んで向かい合う第１側壁及び第２側壁を有し、前記連通溝は、前記第１側壁及び前記第２側壁のうち一方の側壁に設けられていることが好ましい。

【0010】

連通溝を第１側壁及び第２側壁の双方に設ける比較例の場合、研磨パッドで研磨対象を研磨する際、一方の側壁の連通溝を介して凹部に進入した研磨用スラリーが他方の側壁の連通溝を介して凹部から排出されやすくなる。この点、上記構成の研磨パッドにおいて、連通溝は一方の側壁に設けられている。したがって、研磨パッドは、連通溝が設けられる側壁を相対回転方向における前側とし、連通溝が設けられない側壁を相対回転方向における後側として、研磨対象を研磨することで、研磨用スラリーが凹部に供給されやすくなる。

【0011】

上記研磨パッドにおいて、前記第１側壁及び前記第２側壁のうち前記連通溝が設けられる側壁は、前記主面に対する角度が鋭角となる外側面を含むことが好ましい。
連通溝が設けられる側壁の外側面の主面に対する角度が鈍角であると、連通溝が設けられる側壁を相対回転方向における前側とし、連通溝が設けられない側壁を相対回転方向における後側として、研磨対象を研磨する際に、突出部が研磨対象の表面に引っ掛かりやすくなる。この点、上記構成の研磨パッドは、外側面の主面に対する角度が鋭角であるため、上述した突出部の引っ掛かりを抑制できる。

【0012】

前記積層方向における平面視において、前記連通溝の幅は、前記第１側壁及び前記第２側壁のうち前記連通溝が設けられる側壁の厚さの２倍未満であることが好ましい。
連通溝の設けられる側壁の厚さが薄い場合に、連通溝の幅を大きくすると、研磨時に突出部に作用する力によって側壁に過負荷が掛かりやすい。これに対し、上記構成の研磨パッドは、連通溝の幅を連通溝が設けられる側壁の厚さの２倍未満とする。このため、研磨時に連通溝の設けられる側壁に過負荷が掛かることを抑制できる。

【0013】

上記課題を解決する研磨方法は、研磨パッドを研磨対象に接触させた状態で、前記研磨パッドを前記研磨対象に対して相対回転させることにより、前記研磨対象を研磨する研磨方法であって、前記研磨パッドとして、上述した研磨パッドを用いる。

【0014】

上記研磨方法は、上述した研磨パッドの作用効果を得ることができる。

【発明の効果】

【0015】

上記研磨パッドは、研磨効率の低下を抑制できる。

【図面の簡単な説明】

【0016】

【図1】研磨パッドの平面図。

【図2】図１における細線で囲った部分の拡大斜視図。

【図3】図１における細線で囲った部分の拡大平面図。

【図4】図１における細線で囲った部分の拡大断面図。

【図5】研磨パッドの作用を説明する模式図。

【図6】研磨パッドの作用を説明する模式図。

【図7】第１の変更例に係る研磨パッドの拡大斜視図。

【図8】第２の変更例に係る研磨パッドの拡大斜視図。

【発明を実施するための形態】

【0017】

以下、研磨パッド及び研磨パッドを用いた研磨方法の一実施形態について図面を参照して説明する。なお、図面では、説明の便宜上、一部の構成を誇張して示したり、一部の構成を省略したりする場合がある。

【0018】

＜研磨パッド１０＞
図１に示すように、研磨パッド１０は、中央部に円形の孔の空いた円板状をなしている。図２に示すように、研磨パッド１０は、基材層２０と、基材層２０に積層される研磨層３０と、を有する。以降の説明では、基材層２０と研磨層３０とが積層される方向を「積層方向」ともいい、研磨対象を研磨するときの研磨パッド１０の研磨対象に対する相対回転方向を「回転方向Ｒ」ともいう。積層方向は、研磨パッド１０の厚さ方向であり、研磨パッド１０の回転方向Ｒは研磨パッド１０の周方向である。

【0019】

＜基材層２０＞
図２及び図４に示すように、基材層２０は、金属層２１と、弾性層２２と、を備える。金属層２１は、例えば、アルミニウム、ステンレス鋼等から構成され、弾性層２２は、ゴムなどのエラストマーから構成される。弾性層２２は、非発泡体であってもよいし発泡体であってもよい。金属層２１と弾性層２２とは接着層を介して接着されている。以降の説明では、弾性層２２の表面でもある基材層２０の表面を主面２０Ｓともいう。基材層２０の主面２０Ｓは、必ずしも平滑な面である必要はない。

【0020】

＜研磨層３０＞
図２及び図４に示すように、研磨層３０は、基材層２０に支持される平板状の支持部４０と、支持部４０から積層方向に沿って突出する複数の突出部５０と、を備える。また、研磨層３０は、複数の突出部５０を区画する凹溝７０を備える。支持部４０と複数の突出部５０とは、ウレタンゴム等の弾性材料によって一体に構成されている。研磨層３０は、基材層２０と不図示の接着層を介して接着されている。

【0021】

図１に示すように、研磨層３０は、突出部５０の配置が異なる複数の領域Ａ１～Ａ６を有する。複数の領域Ａ１～Ａ６は、研磨層３０の平面視において、中心角を６０°として６等分した扇形の領域である。研磨パッド１０は、図１における時計回りの順で領域Ａ１，Ａ２，Ａ３，Ａ４，Ａ５，Ａ６に区分される。以降の説明では、第１領域Ａ１及び第６領域Ａ６の境界であって第３領域Ａ３及び第４領域Ａ４の境界の延びる方向を第１径方向Ｄ１とする。また、第２領域Ａ２及び第１領域Ａ１の境界であって第４領域Ａ４及び第５領域Ａ５の境界の延びる方向を第２径方向Ｄ２とする。同様に、第３領域Ａ３及び第２領域Ａ２の境界であって第５領域Ａ５及び第６領域Ａ６の延びる方向を第３径方向Ｄ３とする。図１に示すように、第１径方向Ｄ１、第２径方向Ｄ２及び第３径方向Ｄ３は、研磨パッド１０の回転方向Ｒと直交する方向である。

【0022】

図１に示すように、領域Ａ１，Ａ４に属する複数の突出部５０は、第１径方向Ｄ１に間隔をあけて並ぶとともに、第２径方向Ｄ２に間隔をあけて並んでいる。第１径方向Ｄ１における複数の突出部５０の間隔は一定であり、第２径方向Ｄ２における複数の突出部５０の間隔は一定である。また、領域Ａ２，Ａ５に属する複数の突出部５０は、第２径方向Ｄ２に間隔をあけて並ぶとともに、第３径方向Ｄ３に間隔をあけて並んでいる。第２径方向Ｄ２における複数の突出部５０の間隔は一定であり、第３径方向Ｄ３における複数の突出部５０の間隔は一定である。また、領域Ａ３，Ａ６に属する複数の突出部５０は、第３径方向Ｄ３に間隔をあけて並ぶとともに、第１径方向Ｄ１に間隔をあけて並んでいる。第３径方向Ｄ３における複数の突出部５０の間隔は一定であり、第１径方向Ｄ１における複数の突出部５０の間隔は一定である。

【0023】

＜突出部５０＞
図２及び図３に示すように、突出部５０は、積層方向における平面視において環状をなす環状壁６０を有する。また、突出部５０は、環状壁６０に囲われる空間である凹部５１と、環状壁６０を貫通する連通溝５２と、を有する。環状壁６０の高さ方向及び凹部５１の深さ方向は、ともに積層方向である。

【0024】

＜環状壁６０＞
図３に示すように、積層方向における平面視において、環状壁６０の外形は、矩形状をなしている。詳しくは、環状壁６０の外形は、平行四辺形状をなしている。環状壁６０の先端面５０Ｓは、基材層２０の主面２０Ｓと略平行になっている。環状壁６０は、凹部５１を囲う第１側壁６１、第２側壁６２、第３側壁６３及び第４側壁６４を有する。

【0025】

図１に示すように、第１領域Ａ１及び第４領域Ａ４において、第１側壁６１及び第２側壁６２は第１径方向Ｄ１に延び、第３側壁６３及び第４側壁６４は、第２径方向Ｄ２に延びている。第２領域Ａ２及び第５領域Ａ５において、第１側壁６１及び第２側壁６２は第２径方向Ｄ２に延び、第３側壁６３及び第４側壁６４は、第３径方向Ｄ３に延びている。第３領域Ａ３及び第６領域Ａ６において、第１側壁６１及び第２側壁６２は第３径方向Ｄ３に延び、第３側壁６３及び第４側壁６４は、第１径方向Ｄ１に延びている。

【0026】

図３に示すように、第１側壁６１及び第２側壁６２は、凹部５１を挟んで向き合って位置し、第３側壁６３及び第４側壁６４は、凹部５１を挟んで向き合って位置している。第１側壁６１及び第２側壁６２は、回転方向Ｒと交差している。

【0027】

図４に示すように、第１側壁６１の外面である第１外側面６１Ｓと基材層２０の主面２０Ｓとの間をなす角度（以下、「第１角度θ１」ともいう。）は、鋭角になっている。第１角度θ１は、例えば、８０°以下であることが好ましく、より好ましくは７０°以下であり、さらに好ましくは６０°以下である。その一方で、第１角度θ１は、１０°以上であることが好ましく、より好ましくは２０°以上であり、さらに好ましくは３０°以上である。第２側壁６２の外面である第２外側面６２Ｓと基材層２０の主面２０Ｓとの間をなす角度（以下、「第２角度θ２」ともいう。）は、第１角度θ１よりも大きくなっている。本実施形態において、第２角度θ２は、直角である。図示を省略するが、第３側壁６３の外面である第３外側面６３Ｓと基材層２０の主面２０Ｓとの間をなす角度及び第４側壁６４の外面である第４外側面６４Ｓと基材層２０の主面２０Ｓとの間をなす角度についても、第２角度θ２と同様である。

【0028】

＜凹部５１＞
図３に示すように、積層方向における平面視において、凹部５１は、長円形状をなしている。凹部５１の短手方向における長さ（以下、「幅Ｗ１１」ともいう。）は、凹部５１の長手方向における長さＬ１１の１０％～５０％程度の長さであることが好ましい。凹部５１の長手方向における長さＬ１１は、同方向における環状壁６０の長さの２０％～９０％程度の長さであることが好ましい。図４に示すように、先端面５０Ｓを基準とする凹部５１の深さＤ１１は、積層方向における突出部５０の高さＨの５０％～１００％であることが好ましい。これにより、凹部５１の形成に起因する突出部５０の強度の過度の低下が抑制されて、突出部５０が早期に壊れることを抑制できる。そのため、突出部５０の数を増やした場合でも長期間の使用を可能とすることができる。

【0029】

＜連通溝５２＞
図３に示すように、連通溝５２は、回転方向Ｒと交差する第１側壁６１及び第２側壁６２のうち、第１側壁６１に設けられている。連通溝５２は、少なくとも第１側壁６１の先端部を貫通することにより、凹部５１に連通している。本実施形態において、連通溝５２は、第１側壁６１の高さ方向にわたって、凹部５１に連通している。連通溝５２は、凹部５１の長手方向における中央部に連通していることが好ましい。

【0030】

連通溝５２の幅Ｗ１２は、第１側壁６１の先端面５０Ｓにおける厚さＷ１の２００％未満であることが好ましく、凹部５１の幅Ｗ１１の２００％未満であることが好ましい。連通溝５２の幅Ｗ１２の下限値は、研磨に用いる研磨用スラリーに含まれる砥粒の大きさに応じて決定したり、研磨パッド１０の研磨対象に対する相対回転速度に応じて決定したりすることが好ましい。本実施形態において、連通溝５２の幅Ｗ１２は凹部５１の幅Ｗ１１と同等であるが、他の実施形態において、連通溝５２の幅Ｗ１２は凹部５１の幅Ｗ１１の５０％程度としてもよい。なお、連通溝５２の幅Ｗ１２は、連通溝５２が設けられることにより分離した第１側壁６１の間隔ということもできる。図４に示すように、先端面５０Ｓを基準とする連通溝５２の深さＤ１２は、凹部５１の深さＤ１１以上であることが好ましい。この点で、本実施形態において、連通溝５２の底面は、支持部４０の表面と面一となっているが、他の実施形態において、連通溝５２の底面は、凹部５１の底面と面一となっていてもよい。

【0031】

＜凹溝７０＞
図１に示すように、凹溝７０は、研磨層３０の表面の全体にわたって格子状に設けられている。凹溝７０は、隣り合う２つの突出部５０を区画している。凹溝７０は、深さの異なる複数の第１凹溝７１及び複数の第２凹溝７２を有する。図１及び図３では、第１凹溝７１と第２凹溝７２と区別するために第２凹溝７２を梨地模様で示している。

【0032】

図１に示すように、第１凹溝７１は、第１径方向Ｄ１、第２径方向Ｄ２及び第３径方向Ｄ３の何れかの方向に延びている。同様に、第２凹溝７２は、第１径方向Ｄ１、第２径方向Ｄ２及び第３径方向Ｄ３の何れかの方向に延びている。図４に示すように、第１凹溝７１の深さは、第２凹溝７２の深さよりも深くなっている。第１凹溝７１の底面は、基材層２０の主面２０Ｓとなり、第２凹溝７２の底面は、支持部４０の表面となっている。

【0033】

＜研磨パッド１０の各寸法＞
研磨パッド１０、及び研磨パッド１０の各部位の寸法は限定されないが、例えば、以下に記載する寸法とすることができる。

【0034】

研磨パッド１０の直径は、１０～１０００ｍｍ程度である。突出部５０の大きさは、積層方向における平面視において、凹部５１の長手方向の長さが６～５０ｍｍ程度であり、凹部５１の短手方向の長さが７．５～２０ｍｍ程度であり、高さＨが５～３０ｍｍ程度である。突出部５０の凹部５１の長さＬ１１は、３～４４ｍｍ程度であり、凹部５１の幅Ｗ１１は、１．５～５ｍｍ程度であり、凹部５１の深さＤ１１は、３～８ｍｍ程度である。連通溝５２の幅Ｗ１２は、１．５～５ｍｍ程度であり、連通溝５２の深さＤ１２は、５～３０ｍｍ程度である。

【0035】

環状壁６０の先端面５０Ｓにおいて、第１側壁６１の厚さＷ１及び第２側壁６２の厚さＷ２は、３ｍｍ以上であり、第３側壁６３の厚さＷ３及び第４側壁６４の厚さＷ４は、１．５ｍｍ以上である。この場合には、突出部５０の強度を確保することが容易である。また、環状壁６０の先端面５０Ｓにおいて、第１側壁６１の厚さＷ１及び第２側壁６２の厚さＷ２は、８ｍｍ以下であり、第３側壁６３の厚さＷ３及び第４側壁６４の厚さＷ４は、３ｍｍ以下である。この場合には、凹部５１をより大きく形成することが容易である。

【0036】

＜研磨パッド１０の作用＞
研磨パッド１０は、例えば、回転駆動装置を備えた周知の研磨機に取り付けられる。研磨対象の表面は、研磨パッド１０と研磨対象との相対回転により研磨される。研磨対象としては、ガラス板、ステンレス板、アルミニウム板等の板材が挙げられる。こうした研磨では、砥粒を含む研磨用スラリーが用いられる。

【0037】

以下、図５及び図６を参照して、研磨パッド１０を用いた研磨方法について説明する。図６では、研磨に用いられる研磨用スラリーに含まれる砥粒を小さな丸で示している。
研磨パッド１０は、研磨機の回転軸１００に取り付けられる。研磨対象としてのガラス板Ｇは、支持台２００上に固定される。研磨は、研磨パッド１０の環状壁６０の先端面５０Ｓとガラス板Ｇとが接触した状態で行われる。

【0038】

研磨用スラリーは、回転軸１００の中空部及び研磨パッド１０の中央の孔を通じてガラス板Ｇの上面と研磨層３０との間に供給される。研磨パッド１０は、研磨層３０における複数の突出部５０の第１外側面６１Ｓが先頭になってガラス板Ｇに対して進行する方向に回転される。言い換えれば、突出部５０の第１側壁６１は、ガラス板Ｇに対する研磨パッド１０の回転方向Ｒにおける前側となり、突出部５０の第２側壁６２は、ガラス板Ｇに対する研磨パッド１０の回転方向Ｒにおける後側となる。これにより、ガラス板Ｇの上面が研磨される。このとき、研磨パッド１０の有する凹溝７０は、研磨用スラリーの流路となる。

【0039】

ここで、ガラス板Ｇに対する突出部５０による研磨は、突出部５０の先端における回転方向Ｒの前方側の角部の付近にて強く行われる。図６に示すように、本実施形態の研磨パッド１０の研磨層３０における突出部５０は、先端面５０Ｓに開口する凹部５１を有する。そのため、突出部５０の先端には、回転方向Ｒの前方側の角部として、第１側壁６１の角部Ｃ１及び第２側壁６２の角部Ｃ２の二つの角部が存在することになり、これら二つの角部Ｃ１，Ｃ２の付近にて研磨が行われる。研磨が行われる部分が増加することにより、突出部５０による研磨効率が向上する。

【0040】

研磨パッド１０でガラス板Ｇを研磨するとき、第１側壁６１の連通溝５２は、研磨パッド１０の回転方向Ｒに開口している。このため、ガラス板Ｇの上面と研磨層３０との間に供給された研磨用スラリーは、連通溝５２を介して凹部５１に入り込む。そして、突出部５０の凹部５１は、研磨用スラリーを一時的に保持するスラリーポケットとして機能する。これにより、突出部５０における上記の角部Ｃ１，Ｃ２の付近とガラス板Ｇとの間に研磨用スラリーが留まりやすくなる。なお、本実施形態では、第１側壁６１に連通溝５２を設けることで、第１側壁６１の角部Ｃ１の長さが減少するが、連通溝５２の幅Ｗ１２を狭くしたことで、角部Ｃ１が短くなることによる研磨効率の低下は最小限に抑えられる。

【0041】

＜研磨パッド１０の効果＞
（１）研磨パッド１０で研磨対象を研磨する場合、研磨パッド１０と研磨対象との間に供給される研磨用スラリーは、連通溝５２を介して凹部５１に進入しやすくなり、凹部５１に供給され続ける。その結果、研磨用スラリーは、研磨パッド１０と研磨対象との間に潤沢に供給されやすくなる。したがって、研磨パッド１０は、研磨対象の研磨効率を向上できる。

【0042】

（２）研磨パッド１０で研磨対象を研磨し続けていると、突出部５０は先端から徐々に摩耗する。この点、研磨パッド１０は、凹部５１の深さＤ１１が連通溝５２の深さＤ１２以下であるため、凹部５１よりも先に連通溝５２が無くなることがない。つまり、研磨パッド１０は、連通溝５２を介して、凹部５１に研磨用スラリーを供給できなくなることがない。したがって、上記構成の研磨パッド１０は、継続使用に対して、研磨効率が低下しにくい。

【0043】

（３）連通溝５２を第１側壁６１及び第２側壁６２の双方に設ける比較例の場合、研磨パッド１０で研磨対象を研磨する際、一方の側壁の連通溝５２を介して凹部５１に進入した研磨用スラリーが他方の側壁の連通溝５２を介して凹部５１から排出されやすくなる。この点、研磨パッド１０において、連通溝５２は第１側壁６１だけに設けられている。したがって、研磨パッド１０は、研磨対象を研磨する際に、研磨用スラリーが凹部５１に供給されやすくなる。

【0044】

（４）第１角度θ１が鈍角であると、研磨対象を研磨する際に、突出部５０が研磨対象の表面に引っ掛かりやすくなる。この点、研磨パッド１０は、第１角度θ１が鋭角であるため、上述した突出部５０の引っ掛かりを抑制できる。

【0045】

（５）連通溝５２の幅Ｗ１２を広くすると、連通溝５２の設けられる第１側壁６１の剛性が低下する。上記構成の研磨パッド１０は、連通溝５２の幅Ｗ１２を環状壁６０の厚さ、詳しくは、第１側壁６１の先端面５０Ｓにおける厚さＷ１の２倍未満とするため、連通溝５２の設けられる第１側壁６１の剛性が低下することを抑制できる。

【0046】

＜変更例＞
本実施形態は、以下のように変更して実施することができる。本実施形態及び以下の変更例は、技術的に矛盾しない範囲で互いに組み合わせて実施することができる。

【0047】

・図７に示すように、突出部５０Ｘの環状壁６０Ｘは、積層方向における平面視において、凹部５１の長手方向と直交する方向に延びる連通溝５２Ｘを有してもよい。この場合、連通溝５２Ｘは、凹部５１の長手方向における中央部に連通していることが好ましい。さらに、積層方向における平面視において、連通溝５２Ｘの延びる方向は適宜に変更できる。例えば、連通溝５２Ｘは、複数の突出部５０Ｘにおいて、回転方向Ｒに沿うように設けてもよい。

【0048】

・図８に示すように、突出部５０Ｙの環状壁６０Ｙは、積層方向における平面視において、凹部５１の長手方向と直交する方向に延びる２つの連通溝５２Ｙを有してもよい。この場合、２つの連通溝５２Ｙは、凹部５１の長手方向における両端部に連通していることが好ましい。さらに、積層方向における平面視において、２つの連通溝５２Ｙの延びる方向は適宜に変更できる。このとき、２つの連通溝５２Ｙの延びる方向は異なる方向であってもよい。

【0049】

・突出部５０は、２つの凹部５１を備えてもよい。この場合、突出部５０は、２つの凹部５１にそれぞれ連通する２つの連通溝５２を備えることが好ましい。さらに、突出部５０は、３以上の凹部５１と、３以上の連通溝５２と、を備えてもよい。

【0050】

・突出部５０の環状壁６０において、何れか２つの側壁に連通溝５２を１つずつ設けてもよい。例えば、第１側壁６１及び第２側壁６２に連通溝５２を設ける場合、第２側壁６２に設けられる連通溝５２の幅Ｗ１２は、第１側壁６１に設けられる連通溝５２の幅Ｗ１２未満であることが好ましい。これによれば、第１側壁６１の連通溝５２を介して凹部５１に進入する研磨用スラリーの一部は、第２側壁６２の連通溝５２から排出され、当該研磨用スラリーの他の一部は、凹部５１に留まる。つまり、凹部５１に研磨用スラリーを留めつつも、凹部５１に留まる研磨用スラリーを積極的に更新することが可能となる。

【0051】

・図１に示すように、第１領域Ａ１における第２領域Ａ２との境界付近に位置する突出部５０において、第３側壁６３は回転方向Ｒと交差している。したがって、第１領域Ａ１における第２領域Ａ２との境界付近に位置する突出部５０において、連通溝５２は、第３側壁６３に設けてもよい。

【0052】

・環状壁６０は、積層方向における平面視において、円形状又は楕円形状をなしていてもよいし、三角形状又は六角形状など多角形状をなしていてもよい。
・凹部５１の深さＤ１１は、連通溝５２の深さＤ１２よりも深くてもよい。

【0053】

・積層方向における平面視において、凹部５１の形状は適宜に変更可能である。例えば、凹部５１は、楕円形状をなしていてもよいし、長方形状をなしていてもよい。
・研磨パッド１０において、複数の突出部５０の形状は同一である必要はない。例えば、領域Ａ１～Ａ６毎に突出部５０を異なる形状としてもよいし、研磨パッド１０の内周縁の近くに位置する突出部５０及び外周縁の近くに位置する突出部５０を異なる形状としてもよい。

【0054】

・研磨パッド１０は、６つの領域Ａ１～Ａ６に区分されていなくてもよい。つまり、研磨パッド１０において、区分される領域の数及び形状は適宜に変更可能である。研磨パッド１０において、領域Ａ１～Ａ６を設定することなく、複数の突出部５０を周方向及び径方向に並べて配置することもできる。

【0055】

・研磨パッド１０に対して研磨対象を回転させることにより、研磨対象を研磨してもよい。

【符号の説明】

【0056】

１０…研磨パッド
２０…基材層
２０Ｓ…主面
３０…研磨層
５０，５０Ｘ，５０Ｙ…突出部
５０Ｓ…先端面
５１…凹部
５２，５２Ｘ，５２Ｙ…連通溝
６０，６０Ｘ，６０Ｙ…環状壁
６１…第１側壁
６１Ｓ…第１外側面
６２…第２側壁
６２Ｓ…第２外側面
Ｄ１１，Ｄ１２…深さ
Ｇ…ガラス板（研磨対象の一例）
θ１…第１角度
θ２…第２角度
Ｒ…回転方向
Ｗ１，Ｗ２，Ｗ３，Ｗ４…厚さ
Ｗ１１，Ｗ１２…幅

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】