(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023040572
(43)【公開日】2023-03-23
(54)【発明の名称】真空装置
(51)【国際特許分類】
H01J 49/02 20060101AFI20230315BHJP
H01J 49/40 20060101ALI20230315BHJP
【ＦＩ】
H01J49/02
H01J49/40
【審査請求】未請求
【請求項の数】5
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021147648
(22)【出願日】2021-09-10
(71)【出願人】
【識別番号】000001993
【氏名又は名称】株式会社島津製作所
(74)【代理人】
【識別番号】100141852
【弁理士】
【氏名又は名称】吉本 力
(72)【発明者】
【氏名】鈴村 拓也
(72)【発明者】
【氏名】奥村 大輔
(72)【発明者】
【氏名】工藤 朋也
(72)【発明者】
【氏名】坂越 祐介
【テーマコード（参考）】
5C038
【Ｆターム（参考）】
5C038HH18
5C038HH30
(57)【要約】
【課題】真空とされる筐体内でのネジの落下を防止することができる真空装置を提供する。
【解決手段】
筐体内において被固定物がネジ７４を介して固定対象物に固定され、筐体内を真空にすることが可能な真空装置１０であって、ネジ７４は、頭部７４ａと、雄ネジ部７４ｃと、これらを連結し、雄ネジ部７４ｃの外径よりも小さい外径とされる軸部７４ｂとを備え、被固定物は、固定対象物に当接する当接面６６ａと、当接面６６ａに形成され、雄ネジ部７４ｃの長さよりも深さが大きい第１凹部７６と、第１凹部７６の底面に形成され、軸部７４ｂの外径よりも大きく、かつ、雄ネジ部７４ｃの外径よりも小さい内径を有するとともに、軸部７４ｂが挿通される貫通孔７８と、第１凹部７６を筐体内における被固定物よりも外側の空間と連通させる連通孔６８とを備える。
【選択図】 図４
【解決手段】
筐体内において被固定物がネジ７４を介して固定対象物に固定され、筐体内を真空にすることが可能な真空装置１０であって、ネジ７４は、頭部７４ａと、雄ネジ部７４ｃと、これらを連結し、雄ネジ部７４ｃの外径よりも小さい外径とされる軸部７４ｂとを備え、被固定物は、固定対象物に当接する当接面６６ａと、当接面６６ａに形成され、雄ネジ部７４ｃの長さよりも深さが大きい第１凹部７６と、第１凹部７６の底面に形成され、軸部７４ｂの外径よりも大きく、かつ、雄ネジ部７４ｃの外径よりも小さい内径を有するとともに、軸部７４ｂが挿通される貫通孔７８と、第１凹部７６を筐体内における被固定物よりも外側の空間と連通させる連通孔６８とを備える。
【選択図】 図４
【特許請求の範囲】
【請求項1】
筐体内において被固定物がネジを介して固定対象物に固定され、前記筐体内を真空にすることが可能な真空装置であって、
前記ネジは、頭部と、雄ネジ部と、前記頭部及び前記雄ネジ部を連結し、前記雄ネジ部の外径よりも小さい外径とされる軸部とを備え、
前記被固定物は、前記固定対象物に当接する当接面と、当該当接面に形成され、前記雄ネジ部の長さよりも深さが大きい第１凹部と、当該第１凹部の底面に形成され、前記軸部の外径よりも大きく、かつ、前記雄ネジ部の外径よりも小さい内径を有するとともに、前記軸部が挿通される貫通孔と、前記被固定物が前記固定対象物に固定されている状態で前記第１凹部を前記筐体内における当該被固定物よりも外側の空間と連通させる連通孔とを備え、
前記固定対象物は、前記被固定物の前記第１凹部に対向する位置に形成され、前記雄ネジ部を螺合可能な第１雌ネジ部を備える、真空装置。
前記ネジは、頭部と、雄ネジ部と、前記頭部及び前記雄ネジ部を連結し、前記雄ネジ部の外径よりも小さい外径とされる軸部とを備え、
前記被固定物は、前記固定対象物に当接する当接面と、当該当接面に形成され、前記雄ネジ部の長さよりも深さが大きい第１凹部と、当該第１凹部の底面に形成され、前記軸部の外径よりも大きく、かつ、前記雄ネジ部の外径よりも小さい内径を有するとともに、前記軸部が挿通される貫通孔と、前記被固定物が前記固定対象物に固定されている状態で前記第１凹部を前記筐体内における当該被固定物よりも外側の空間と連通させる連通孔とを備え、
前記固定対象物は、前記被固定物の前記第１凹部に対向する位置に形成され、前記雄ネジ部を螺合可能な第１雌ネジ部を備える、真空装置。
【請求項2】
前記貫通孔は、前記雄ネジ部を螺合可能とする第２雌ネジ部として形成される、請求項１に記載の真空装置。
【請求項3】
前記貫通孔の前記第１凹部側とは反対側に設けられ、前記貫通孔に挿通された前記ネジの前記頭部を前記貫通孔から離間する方向に付勢する付勢部材をさらに備える、請求項１又は２に記載の真空装置。
【請求項4】
前記被固定物は、前記付勢部材を収容しつつ前記貫通孔と連通する第２凹部を備える、請求項３に記載の真空装置。
【請求項5】
前記被固定物を介して、前記固定対象物に固定される検出器をさらに備える、請求項１から４のいずれか一項に記載の真空装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、真空装置に関するものである。
【背景技術】
【0002】
例えば、下記特許文献１で開示される飛行時間型質量分析装置では、必要に応じて真空にすることができる分析室に、検出器及びフライトチューブ等が設けられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特許第６８７４９０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
上記飛行時間型質量分析装置のような装置では、メンテナンスの際には、作業者によってコンポーネントを固定するためのネジの取り付け及び取り外しが行われる。また、ネジの取り付けは、たとえば、装置の組み立てに伴って、筐体内のコンポーネントを固定する場合も行われる。
【0005】
作業者がネジの取り付け又は取り外しを行う際には、作業者が筐体内でネジを落としてしまい、そのネジがコンポーネントに衝突する虞がある。また、ネジがコンポーネントと衝突すると、そのコンポーネントに傷が付く虞がある。さらに、ネジの取り付け又は取り外しを行う際に周辺のコンポーネントに手が当たってしまい、これらを変形・故障させてしまう虞もある。
【0006】
特に、上記飛行時間型質量分析装置の分析室のような、適宜に真空とされる空間に配置されるコンポーネントは精密部品及び精密機器等であるため、ネジとの衝突に起因して、これらが変形又は故障した場合に、損害が大きくなる虞がある。また落下したネジを救出するための追加作業が必要となり、作業効率が低下する。
【0007】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、真空とされる筐体内でのネジの落下を防止することができる真空装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明の第１の態様は、筐体内において被固定物がネジを介して固定対象物に固定され、前記筐体内を真空にすることが可能な真空装置であって、前記ネジは、頭部と、雄ネジ部と、軸部とを備え、前記被固定物は、当接面と、第１凹部と、貫通孔と、連通孔とを備え、前記固定対象物は、第１雌ネジ部を備える。前記軸部は、前記頭部及び前記雄ネジ部を連結し、前記雄ネジ部の外径よりも小さい外径とされる。前記当接面は、前記固定対象物に当接する。前記第１凹部は、前記当接面に形成され、前記雄ネジ部の長さよりも深さが大きい。前記貫通孔は、前記第１凹部の底面に形成され、前記軸部の外径よりも大きく、かつ、前記雄ネジ部の外径よりも小さい内径を有するとともに、前記軸部が挿通される。前記連通孔は、前記被固定物が前記固定対象物に固定されている状態で前記第１凹部を前記筐体内における当該被固定物よりも外側の空間と連通させる。前記第１雌ネジ部は、前記被固定物の前記第１凹部に対向する位置に形成され、前記雄ネジ部を螺合可能とされる。
【発明の効果】
【0009】
本発明によれば、真空とされる筐体内でネジが取り付け又は取り外される際に、ネジが落下するのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【図1】本実施形態の真空装置の構成の一例を示す概略図である。
【図2】本実施形態のマウントの周辺の一例を示す斜視図である。
【図3】本実施形態のネジの構成の一例を示す概略図である。
【図4】本実施形態のマウントの構成の一例を示す概略断面図である。
【図5】本実施形態のマウントの構成の他の例を示す概略断面図である。
【図6】本実施形態のマウントの構成のさらに他の例を示す概略断面図である。
【図7】本実施形態のマウントの構成のさらにその他の例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0011】
１．真空装置の構成
図１は、本実施形態の真空装置１０の構成の一例を示す概略図である。なお、本実施形態では、真空装置１０として、飛行時間型質量分析装置を例に挙げて説明する。
図１は、本実施形態の真空装置１０の構成の一例を示す概略図である。なお、本実施形態では、真空装置１０として、飛行時間型質量分析装置を例に挙げて説明する。
【0012】
真空装置１０は、筐体１１を備えており、イオン化室１２、第１中間室１４、第２中間室１６、第３中間室１８及び分析室２０などが筐体１１の内部に形成されている。イオン化室１２内は、略大気圧となっている。第１中間室１４、第２中間室１６、第３中間室１８及び分析室２０は、それぞれ真空ポンプ（図示は省略）の駆動により真空状態（負圧状態）とされる。また、イオン化室１２、第１中間室１４、第２中間室１６、第３中間室１８及び分析室２０は、互いに連通しており、この順序に従って段階的に真空度が高くなるように構成されている。
【0013】
イオン化室１２には、例えばＥＳＩ（Electro Spray Ionization）スプレーからなるスプレー３０が設けられている。液体クロマトグラフ（図示は省略）から供給される試料中の各成分を含む試料液は、スプレー３０により、電荷が付与されながらイオン化室１２内に噴霧される。これにより、試料中の各成分由来のイオンが生成される。なお、真空装置１０で用いるイオン化法は、特に限定されない。
【0014】
第１中間室１４は、小径の管からなる加熱キャピラリ３２を介して、イオン化室１２に連通している。また、第２中間室１６は、小孔からなるスキマー３６を介して、第１中間室１４に連通している。第１中間室１４及び第２中間室１６には、それぞれイオンを収束させつつ後段へ送るためのイオンガイド３４、３８が設けられている。
【0015】
第３中間室１８には、例えば四重極マスフィルタ４０及びコリジョンセル４２などが設けられている。コリジョンセル４２の内部には、アルゴン又は窒素などのＣＩＤ（Collision Induced Dissociation）ガスが連続的又は間欠的に供給される。コリジョンセル４２内には、多重極イオンガイド４４が設けられている。
【0016】
第２中間室１６から第３中間室１８に流入するイオンは、四重極マスフィルタ４０により質量電荷比に応じて分離され、特定の質量電荷比を有するイオンのみが四重極マスフィルタ４０を通過する。四重極マスフィルタ４０を通過したイオンは、プリカーサイオンとしてコリジョンセル４２内に導入され、ＣＩＤガスと接触して開裂されることにより、プロダクトイオンが生成される。生成されたプロダクトイオンは、多重極イオンガイド４４により一時的に保持され、所定のタイミングでコリジョンセル４２から放出される。
【0017】
第３中間室１８及び分析室２０には、これらの室内を跨るようにトランスファー電極部４６が設けられている。トランスファー電極部４６は、第３中間室１８に設けられた１つ又は複数の第１電極４６ａと、分析室２０に設けられた１つ又は複数の第２電極４６ｂとを含む。第１電極４６ａ及び第２電極４６ｂは、それぞれ環状に形成され、同軸上に並べて配置されている。コリジョンセル４２から放出されたイオン（プロダクトイオン）は、トランスファー電極部４６において複数の電極４６ａ、４６ｂの内側を通過することにより収束される。
【0018】
分析室２０には、第２電極４６ｂの他、直交加速部４８、加速電極部５０、検出器５２、プレート５４、フライトチューブ５６及びリフレクトロン５８等が設けられている。フライトチューブ５６は、例えば両端部が開放された中空状の部材であり、その内部にリフレクトロン５８が配置されている。
【0019】
また、フライトチューブ５６を覆うプレート５４には、加速電極部５０及び検出器５２が固定されている。さらに、プレート５４は、加速電極部５０から出射するイオンが通過する貫通孔及び検出器５２に入射するイオンが通過する貫通孔を有する。
【0020】
直交加速部４８には、トランスファー電極部４６から出射するイオンが入射する。直交加速部４８は、互いに間隔を隔てて対向する１対の電極４８ａ、４８ｂを備えている。１対の電極４８ａ、４８ｂは、トランスファー電極部４６からのイオンの入射方向に対して平行に延びており、これらの電極間には直交加速領域６０が形成されている。
【0021】
一方の電極４８ｂは、複数の開口を有するグリッド電極により構成されている。直交加速領域６０に入射するイオンは、そのイオンの入射方向に対して直交方向に加速され、一方の電極４８ｂの開口を通過して、加速電極部５０へと導かれる。
【0022】
本実施形態において、直交加速部４８は、分析対象となるイオンを射出するイオン射出部を構成している。直交加速部４８から射出されるイオンは、加速電極部５０によりさらに加速され、フライトチューブ５６内に導入される。
【0023】
フライトチューブ５６内に設けられたリフレクトロン５８は、１つ又は複数の第１電極５８ａと、１つ又は複数の第２電極５８ｂとを含む。第１電極５８ａ及び第２電極５８ｂは、それぞれイオンが通過する貫通穴を有し、フライトチューブ５６の軸線に沿って同軸上に並べて配置されている。第１電極５８ａ及び第２電極５８ｂには、それぞれ異なる電圧が印加される。
【0024】
フライトチューブ５６内に導入されたイオンは、そのフライトチューブ５６内に形成された飛行空間内に導かれ、その飛行空間内を飛行した後に検出器５２に入射する。具体的には、フライトチューブ５６内に導入されたイオンは、第１電極５８ａの内側に形成された第１領域（第１ステージ）６２で減速された後、第２電極５８ｂの内側に形成された第２領域（第２ステージ）６４で反射されることにより、Ｕ字状に折り返されて検出器５２に入射する。検出器５２としては、寿命が比較的短く、交換頻度が高いＭＣＰ（Micro Channel Plate）検出器が用いられるが、これに限らず、ＳＥＭ（Secondary Electron Multiplier）検出器などの他の検出器が用いられてもよい。
【0025】
このような真空装置１０では、上述したように、図示しない真空ポンプの駆動により第１中間室１４、第２中間室１６、第３中間室１８及び分析室２０、すなわち、筐体１１内を真空状態（負圧状態）とすることができる。
【0026】
２．マウントの周辺の構成
図２は、本実施形態のマウント６６の周辺の一例を示す斜視図である。図１では、具体的な図示は省略したが、検出器５２は、マウント６６を介して、プレート５４に固定される。すなわち、マウント６６は、検出器５２の取り付け具としての役割を担う。また、詳細な説明は後述するが、マウント６６には連通孔６８が設けられる。
図２は、本実施形態のマウント６６の周辺の一例を示す斜視図である。図１では、具体的な図示は省略したが、検出器５２は、マウント６６を介して、プレート５４に固定される。すなわち、マウント６６は、検出器５２の取り付け具としての役割を担う。また、詳細な説明は後述するが、マウント６６には連通孔６８が設けられる。
【0027】
また、図２に示す例では、検出器５２は、検出器５２に電力を供給するための基板（図示は省略）の載置台７０及び検出器５２に入射されるイオンの量を制限するスリット電極７２等の各種部材を介してマウント６６に固定され、そのマウント６６がプレート５４に固定されている。
【0028】
なお、検出器５２及びプレート５４の間に位置する部材は、検出器５２に入射するイオンが通過する貫通孔を有する。また、図２に示すように、マウント６６は、ネジ７４を介してプレート５４に固定されている。
【0029】
図３は、本実施形態のネジ７４の構成の一例を示す概略図である。図３に示すように、ネジ７４は、頭部７４ａ、軸部７４ｂ及び雄ネジ部７４ｃを備え、軸部７４ｂは、頭部７４ａ及び雄ネジ部７４ｃを連結する。軸部７４ｂの外径については、雄ネジ部７４ｃの外径よりも小さい。なお、軸部７４ｂの軸線を中心として、雄ネジ部７４ｃにおけるネジ山の頂点を通る仮想円の直径が外径（呼び径）であり、ネジ山の谷底を通る仮想円の直径が谷径である。
【0030】
この図３に例示されるようなネジ７４は、市販されている一般的なネジを加工することにより形成することができる。具体的には、軸部全体にネジ山が形成されているネジを加工することにより、先端部分のネジ山を残して雄ネジ部７４ｃとし、雄ネジ部７４ｃよりも頭部７４ａ側のネジ山を切削して、雄ネジ部７４ｃの外径よりも小さい一定の外径を有する軸部７４ｂとすることができる。
【0031】
ネジ７４の軸線に沿った雄ネジ部７４ｃの長さＬ１は、ネジ７４を締め付けて固定するために必要な長さに設定される。ただし、頭部７４ａと軸部７４ｂとの間に、軸部７４ｂの外径と異なる外径を有する部分があってもよい。
【0032】
３.マウントの構成
以下では、本実施形態のマウント６６の構成について、複数の例を挙げて説明する。いずれの例においても、ネジ７４の軸部７４ｂがマウント６６に挿通されており、ネジ７４を軸線方向に沿って単にスライドさせただけでは、ネジ７４の頭部７４ａ又は雄ネジ部７４ｃがマウント６６に引っ掛かって、マウント６６からネジ７４が外れないようになっている。
以下では、本実施形態のマウント６６の構成について、複数の例を挙げて説明する。いずれの例においても、ネジ７４の軸部７４ｂがマウント６６に挿通されており、ネジ７４を軸線方向に沿って単にスライドさせただけでは、ネジ７４の頭部７４ａ又は雄ネジ部７４ｃがマウント６６に引っ掛かって、マウント６６からネジ７４が外れないようになっている。
【0033】
図４は、本実施形態のマウント６６の構成の一例を示す概略断面図である。図４に示すように、マウント６６は、プレート５４と当接しており、マウント６６のプレート５４と当接する当接面６６ａには、雄ネジ部７４ｃの長さＬ１よりも深さＤ１が大きい第１凹部７６が形成される。
【0034】
第１凹部７６の底面７６ａには、貫通孔７８が形成されている。貫通孔７８の内径は、軸部７４ｂの外径よりも大きく、かつ、雄ネジ部７４ｃの外径よりも小さい。貫通孔７８には、軸部７４ｂが挿通される。これにより、ネジ７４は、貫通孔７８内で軸部７４ｂを軸線方向にスライドさせることができる。ネジ７４を軸線方向にスライドさせた場合でも、頭部７４ａ又は雄ネジ部７４ｃが貫通孔７８の縁部に引っ掛かることにより、ネジ７４が貫通孔７８から抜け落ちることはない。
【0035】
第１凹部７６は、たとえば断面円形状であり、その内径は雄ネジ部７４ｃの外径よりも大きい。すなわち、第１凹部７６は、雄ネジ部７４ｃの長さＬ１よりも大きい深さＤ１を有し、雄ネジ部７４ｃの外径よりも大きい内径を有しているため、第１凹部７６の容積は、雄ネジ部７４ｃの容積よりも大きい。したがって、ネジ７４を貫通孔７８内で軸線方向にスライドさせれば、第１凹部７６内からはみ出さないように、雄ネジ部７４ｃを第１凹部７６内に収容することが可能である。
【0036】
なお、図３に示したネジ７４の軸部７４ｂの長さＬ２は、貫通孔７８の長さよりも長い。
【0037】
ただし、図４に例示されるような構成では、頭部７４ａの外径及び雄ネジ部７４ｃの外径が貫通孔７８の内径よりも大きいため、貫通孔７８内にネジ７４を挿通させることが困難である。したがって、頭部７４ａ及び雄ネジ部７４ｃの少なくとも一方を軸部７４ｂに対して着脱可能な構成にしたり、軸部７４ｂを軸線方向に沿って複数の部分に分離可能な構成にしたりすることが好ましい。
【0038】
プレート５４の第１凹部７６に対向する位置には、雄ネジ部７４ｃを螺合可能な第１雌ネジ部８０が設けられる。第１雌ネジ部８０は、雄ネジ部７４ｃと螺合する。すなわち、雄ネジ部７４ｃを第１雌ネジ部８０に締め付けることにより、ネジ７４をプレート５４に固定することができる。なお、第１雌ネジ部８０におけるネジ溝の谷底を通る仮想円の直径が谷径（呼び径）である。第１雌ネジ部８０の谷径は、雄ネジ部７４ｃの外径と同一、又は、雄ネジ部７４ｃの外径よりも若干大きい。
【0039】
また、上述したように、マウント６６には、連通孔６８が形成される。連通孔６８は、マウント６６の外側の空間９０を第１凹部７６と連通させる。具体的には、連通孔６８は、真空装置１０の筐体１１内におけるマウント６６の外側の空間９０を第１凹部７６と連通させる。本実施形態では、真空装置１０の使用時に空間９０が真空状態となる。
【0040】
連通孔６８は、貫通孔７８に対して交差する方向に真っ直ぐ延びている。この例では、連通孔６８が延びる方向と、貫通孔７８が延びる方向とが、直交している。また、連通孔６８の延長線上に、ネジ７４の一部が位置しており、空間９０側から連通孔６８を介してネジ７４の一部を視認することができる。この例では、連通孔６８の内径Ｄ２が、第１凹部７６の深さＤ１よりも小さい。ただし、連通孔６８については、孔の断面積の大きさ及び形状は特に限定されない。
【0041】
図５は、本実施形態のマウント６６の構成の他の例を示す概略断面図である。たとえば、図５に示すように、連通孔６８の断面積は、第１凹部７６との境目がなくなるように形成されてもよい。すなわち、連通孔６８の内径Ｄ２が、第１凹部７６の深さＤ１と同一であってもよい。この場合、連通孔６８におけるプレート５４側は、第１凹部７６と同様に開放されており、マウント６６がプレート５４に対して固定されることにより、連通孔６８におけるプレート５４側がプレート５４で塞がれる。
【0042】
また、貫通孔７８は、図５に示すように、雄ネジ部７４ｃを螺合可能とする第２雌ネジ部８２として形成されてもよい。なお、第２雌ネジ部８２におけるネジ溝の谷底を通る仮想円の直径が谷径（呼び径）であり、第２雌ネジ部８２の内径は貫通孔７８の内径と一致している。また、第２雌ネジ部８２の谷径は、第１雌ネジ部８０の谷径と一致している。したがって、第２雌ネジ部８２の谷径は、雄ネジ部７４ｃの外径と同一、又は、雄ネジ部７４ｃの外径よりも若干大きい。
【0043】
このように、貫通孔７８を第２雌ネジ部８２で構成すれば、第２雌ネジ部８２の一端から他端まで雄ネジ部７４ｃをねじ込んでいくことで、ネジ７４の軸部７４ｂを貫通孔７８に対して容易に挿通させることができる。ただし、連通孔６８又は貫通孔７８の一方のみを図５のような構成としてもよい。
【0044】
図６は、本実施形態のマウント６６の構成のさらに他の例を示す概略断面図である。図６に示す例では、マウント６６における当接面６６ａと反対側の面に、貫通孔７８と連通する第２凹部８４が設けられる。第２凹部８４は、たとえば断面円形状であり、第２凹部８４の内径は、頭部７４ａの外径よりも小さい。したがって、図６のようにネジ７４をプレート５４に固定した状態では、頭部７４ａが第２凹部８４の縁部に当接し、第２凹部８４を塞いだ状態となる。
【0045】
第２凹部８４には、頭部７４ａを貫通孔７８から離間する方向に付勢する付勢部材８６が収容される。すなわち、付勢部材８６は、貫通孔７８の第１凹部７６側と反対側に設けられる。付勢部材８６としては、圧縮ばねを用いることができるが、これに限らず、ゴム製の部材等の弾性部材が用いられてもよい。図６に示す例では、付勢部材８６として圧縮ばねが用いられており、当該圧縮ばねにネジ７４の軸部７４ｂが挿通されている。圧縮ばねにネジ７４の軸部７４ｂを挿通させるためには、円筒状の圧縮ばねの内径が雄ネジ部７４ｃの外径よりも大きいことが好ましい。
【0046】
付勢部材８６として圧縮ばねを用いる場合、その圧縮ばねのばね定数Ｋ（Ｎ／ｍｍ）は、下記式を満たす値に設定することができる。なお、Ｍ（Ｎ）はネジ７４の自重、Ｘ（ｍｍ）はネジ７４の雄ネジ部７４ｃの底面がマウント６６における当接面６６ａに接している状態での圧縮ばねの圧縮長さである。
Ｋ＞Ｍ／Ｘ
Ｋ＞Ｍ／Ｘ
【0047】
付勢部材８６の外径は、貫通孔７８の内径よりも大きく、ネジ７４の頭部７４ａの外径よりも小さい。したがって、図６のように、第２凹部８４内に付勢部材８６を収容してネジ７４をプレート５４に固定した状態では、付勢部材８６の一端が貫通孔７８の縁部に当接し、他端が頭部７４ａに当接することにより、付勢部材８６が圧縮された状態となる。
【0048】
このように、ネジ７４がプレート５４に取り付けられている場合、付勢部材８６が圧縮されているため、頭部７４ａには付勢部材８６からの付勢力がかかった状態とされる。この状態でネジ７４が緩められ、雄ネジ部７４ｃが第１雌ネジ部８０から取り外されると、付勢部材８６の付勢力によってネジ７４の頭部７４ａがマウント６６から離間する。これに伴い、ネジ７４の軸部７４ｂが貫通孔７８内をスライドし、雄ネジ部７４ｃが貫通孔７８の縁部に当接した状態となる。すなわち、付勢部材８６の付勢力によって、雄ネジ部７４ｃが第１凹部７６内に収容された状態を維持することができる。
【0049】
なお、頭部７４ａは、付勢部材８６とともに第２凹部８４に収容されてもよい。また、付勢部材８６が、貫通孔７８の第１凹部８４側と反対側に設けられるのであれば、第２凹部８４は形成されていなくてもよい。この場合、付勢部材８６は、マウント６６における当接面６６ａと反対側の面と頭部７４ａとの間に配置される。図６の例では、連通孔６８が図５と同様の構成となっているが、連通孔６８を図４と同様の構成としてもよい。
【0050】
図７は、本実施形態のマウント６６の構成のさらにその他の例を示す概略断面図である。図７に示す例では、貫通孔７８が雄ネジ部７４ｃを螺合可能とする第２雌ネジ部８２として形成されている点を除き、図６の構成と同様である。ただし、連通孔６８が、図４と同様の構成となっていてもよい。
【0051】
図８は、図７の状態からネジ７４を緩めた状態を示す概略断面図である。図７の状態からネジ７４が緩められ、雄ネジ部７４ｃが第１雌ネジ部８０から取り外されると、付勢部材８６の付勢力によって、図８のように雄ネジ部７４ｃが第１凹部７６内に収容された状態となる。ネジ７４の雄ネジ部７４ｃの長さＬ１は、第１凹部７６の深さＤ１よりも短いため、図８の状態では、雄ネジ部７４ｃが第１雌ネジ部８０から離間し、プレート５４に接触しない状態となる。
【0052】
なお、本実施形態では、マウント６６は、何かしらの物体に対して固定される被固定物に該当し、プレート５４は、被固定物の固定先とされる固定対象物に該当する。本実施形態では、被固定物の一例としてマウント６６の構成について説明したが、マウント６６の代わりに、そのマウント６６と同様の構成を有する別の被固定物を用いてもよい。また、プレート５４の代わりに、そのプレート５４と同様の構成を有する固定対象物を用いてもよい。例えば、真空装置１０の筐体１１内における直交加速部４８又は加速電極部５０などの他の部材を被固定物としてもよい。また、真空装置１０としては、飛行時間型質量分析装置に限られるものではなく、真空状態とされる筐体を備えた構成であれば、他の質量分析装置であってもよいし、質量分析装置以外の真空装置であってもよい。
【0053】
４．態様
上述した複数の例示的な実施形態は、以下の態様の具体例であることが当業者により理解される。
上述した複数の例示的な実施形態は、以下の態様の具体例であることが当業者により理解される。
【0054】
（第１項）一態様に係る真空装置は、
筐体内において被固定物がネジを介して固定対象物に固定され、前記筐体内を真空にすることが可能な真空装置であって、
前記ネジは、頭部と、雄ネジ部と、前記頭部及び前記雄ネジ部を連結し、前記雄ネジ部の外径よりも小さい外径とされる軸部とを備え、
前記被固定物は、前記固定対象物に当接する当接面と、当該当接面に形成され、前記雄ネジ部の長さよりも深さが大きい第１凹部と、当該第１凹部の底面に形成され、前記軸部の外径よりも大きく、かつ、前記雄ネジ部の外径よりも小さい内径を有するとともに、前記軸部が挿通される貫通孔と、前記被固定物が前記固定対象物に固定されている状態で前記第１凹部内を前記筐体内における当該被固定物よりも外側の空間と連通させる連通孔とを備え、
前記固定対象物は、前記被固定物の前記第１凹部に対向する位置に形成され、前記雄ネジ部を螺合可能な第１雌ネジ部を備えてもよい。
筐体内において被固定物がネジを介して固定対象物に固定され、前記筐体内を真空にすることが可能な真空装置であって、
前記ネジは、頭部と、雄ネジ部と、前記頭部及び前記雄ネジ部を連結し、前記雄ネジ部の外径よりも小さい外径とされる軸部とを備え、
前記被固定物は、前記固定対象物に当接する当接面と、当該当接面に形成され、前記雄ネジ部の長さよりも深さが大きい第１凹部と、当該第１凹部の底面に形成され、前記軸部の外径よりも大きく、かつ、前記雄ネジ部の外径よりも小さい内径を有するとともに、前記軸部が挿通される貫通孔と、前記被固定物が前記固定対象物に固定されている状態で前記第１凹部内を前記筐体内における当該被固定物よりも外側の空間と連通させる連通孔とを備え、
前記固定対象物は、前記被固定物の前記第１凹部に対向する位置に形成され、前記雄ネジ部を螺合可能な第１雌ネジ部を備えてもよい。
【0055】
第１項に記載の真空装置によれば、ネジの雄ネジ部が固定対象物の第１雌ネジ部に螺合されていないとき、雄ネジ部を被固定物の貫通孔の縁部に当接させた状態で、第１凹部内に雄ネジ部を収容することができる。この状態では、雄ネジ部が貫通孔の縁部に引っ掛かることにより、ネジが貫通孔から抜け落ちることはないため、筐体内でネジが落下するのを防止することができる。また、被固定物を取り付け又は取り外す際にネジを手で取り除く必要がないため、ネジ周辺のコンポーネントに手が当たって変形・故障させてしまうのを防止することができる。
【0056】
また、第１項に記載の真空装置によれば、筐体内を真空にするとき、連通孔を介して第１凹部内の空気を抜くことができる。これにより、第１凹部内を、筐体内における被固定物よりも外側の空間と同様に真空状態にすることができるため、目標真空度まで到達するのに要する時間が長くなったり、真空装置の動作中に筐体内の真空度にばらつきが生じたり、第１凹部周辺の局所的真空度悪化により放電が発生したりすることを防止できる。
【0057】
さらに、第１項に記載の真空装置によれば、ネジの雄ネジ部が固定対象物の第１雌ネジ部に螺合されていないとき、連通孔を介して雄ネジ部及び第１雌ネジ部が視認可能とされる。このことから、ネジを固定対象物に対して容易に取り付け又は取り外しすることができる。また、雄ネジ部及び第１雌ネジが螺合しているか否か、つまり、ネジが固定対象物に取り付けられているか否かを容易に確認することができる。
【0058】
（第２項）第１項に記載の真空装置において、
前記貫通孔は、前記雄ネジ部を螺合可能とする第２雌ネジ部として形成されてもよい。
前記貫通孔は、前記雄ネジ部を螺合可能とする第２雌ネジ部として形成されてもよい。
【0059】
第２項に記載の真空装置によれば、第２雌ネジ部の一端から他端まで雄ネジ部をねじ込んでいくことで、ネジの軸部を貫通孔に対して容易に挿通させることができるとともに、挿通後はネジが落下するのを防止することができる。また、必要に応じてネジを被固定物から分離させることができる。
【0060】
（第３項）第１項又は第２項に記載の真空装置において、
前記貫通孔の前記第１凹部側とは反対側に設けられ、前記貫通孔に挿通された前記ネジの前記頭部を前記貫通孔から離間する方向に付勢する付勢部材をさらに備えてもよい。
前記貫通孔の前記第１凹部側とは反対側に設けられ、前記貫通孔に挿通された前記ネジの前記頭部を前記貫通孔から離間する方向に付勢する付勢部材をさらに備えてもよい。
【0061】
第３項に記載の真空装置によれば、ネジの雄ネジ部が固定対象物の第１雌ネジ部に螺合されていないときは、付勢部材の付勢力によって、雄ネジ部が第１凹部内に収容された状態を維持することができる。この状態では、雄ネジ部が第１雌ネジ部から離間し、固定対象物に接触しない状態となるため、雄ネジ部が第１雌ネジ部に対して不用意に螺合してしまうのを防止することができる。そのため、ネジの取り付けおよび取り外しの作業性が向上する。
【0062】
（第４項）第３項に記載の真空装置において、
前記被固定物は、前記付勢部材を収容しつつ前記貫通孔と連通する第２凹部を備えてもよい。
前記被固定物は、前記付勢部材を収容しつつ前記貫通孔と連通する第２凹部を備えてもよい。
【0063】
第４項に記載の真空装置によれば、付勢部材の厚み分だけネジが被固定物から突出するのを抑制することができる。
【0064】
（第５項）第１項から第４項のいずれか一項に記載の真空装置において、
前記被固定物を介して、前記固定対象物に固定される検出器をさらに備えてもよい。
前記被固定物を介して、前記固定対象物に固定される検出器をさらに備えてもよい。
【0065】
第５項に記載の真空装置によれば、被固定物の設計を変更するだけで、検出器の位置及び種類等を変更することができる。つまり、被固定物以外の部材の設計を変更することなく、検出器の位置及び種類等を変更することができる。
【符号の説明】
【0066】
１０ 真空装置
１１ 筐体
５２ 検出器
５４ プレート
６６ マウント
６６ａ 当接面
６８ 連通孔
７４ ネジ
７４ａ 頭部
７４ｂ 軸部
７４ｃ 雄ねじ部
７６ 第１凹部
７６ａ 底面
７８ 貫通孔
８０ 第１雌ネジ部
８２ 第２雌ネジ部
８４ 第２凹部
８６ 付勢部材
１１ 筐体
５２ 検出器
５４ プレート
６６ マウント
６６ａ 当接面
６８ 連通孔
７４ ネジ
７４ａ 頭部
７４ｂ 軸部
７４ｃ 雄ねじ部
７６ 第１凹部
７６ａ 底面
７８ 貫通孔
８０ 第１雌ネジ部
８２ 第２雌ネジ部
８４ 第２凹部
８６ 付勢部材
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】