ホーム > 特許ランキング > 積水化学工業株式会社
知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023099422
(43)【公開日】2023-07-13
(54)【発明の名称】電波反射体
(51)【国際特許分類】
H01Q 15/14 20060101AFI20230706BHJP
【ＦＩ】
H01Q15/14 Z
【審査請求】有
【請求項の数】10
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022114291
(22)【出願日】2022-07-15
(62)【分割の表示】P 2021213216の分割
【原出願日】2021-12-27
(11)【特許番号】
(45)【特許公報発行日】2023-07-05
(71)【出願人】
【識別番号】000002174
【氏名又は名称】積水化学工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000796
【氏名又は名称】弁理士法人三枝国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】野本 博之
(72)【発明者】
【氏名】井手 泰明
(72)【発明者】
【氏名】畠井 宗宏
【テーマコード（参考）】
5J020
【Ｆターム（参考）】
5J020AA03
5J020BA06
5J020BC02
5J020CA00
5J020CA01
(57)【要約】
【課題】電波を空間の広い範囲に反射させ、かつ景観を保つことのできる電波反射体を提
供する。
【解決手段】本発明の電波反射体は、電波を反射させるための導電体１２を含むものであ
り、３ＧＨｚ以上、３００ＧＨｚ以下の周波数の入射波が正規反射したときの反射波の強
度が、前記入射波に対して－３０ｄＢ以上になる周波数が少なくとも１つ存在し、Ｄ６５
標準光源における全光線透過率が６５％以上である。
【選択図】図１
供する。
【解決手段】本発明の電波反射体は、電波を反射させるための導電体１２を含むものであ
り、３ＧＨｚ以上、３００ＧＨｚ以下の周波数の入射波が正規反射したときの反射波の強
度が、前記入射波に対して－３０ｄＢ以上になる周波数が少なくとも１つ存在し、Ｄ６５
標準光源における全光線透過率が６５％以上である。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
電波を反射させるための導電体を含む電波反射体であって、
３ＧＨｚ以上、３００ＧＨｚ以下の周波数の入射波が正規反射したときの反射波の強度
が、前記入射波に対して－３０ｄＢ以上になる周波数が少なくとも１つ存在し、
Ｄ６５標準光源における全光線透過率が６５％以上である、電波反射体。
３ＧＨｚ以上、３００ＧＨｚ以下の周波数の入射波が正規反射したときの反射波の強度
が、前記入射波に対して－３０ｄＢ以上になる周波数が少なくとも１つ存在し、
Ｄ６５標準光源における全光線透過率が６５％以上である、電波反射体。
【請求項2】
前記導電体を含む導電薄膜層と、前記導電薄膜層を保持する基材を含む基材層と、前記
導電薄膜層を保護するための保護材を含む保護層と、前記導電薄膜層と前記保護材を含む
層とを接着するための接着材を含む接着層とを有し、
前記基材層、前記導電薄膜層、前記接着層、前記保護層の順に積層されている、請求項
１に記載の電波反射体。
導電薄膜層を保護するための保護材を含む保護層と、前記導電薄膜層と前記保護材を含む
層とを接着するための接着材を含む接着層とを有し、
前記基材層、前記導電薄膜層、前記接着層、前記保護層の順に積層されている、請求項
１に記載の電波反射体。
【請求項3】
前記導電薄膜層は、表面抵抗値が３．５Ω／□以下であり、厚みが３００ｎｍ以下であ
る、請求項２に記載の電波反射体。
る、請求項２に記載の電波反射体。
【請求項4】
前記導電薄膜層は、１または複数の線状の前記導電体により囲まれた導電体の無い領域
が、所定の間隔を空けて周期的に配置されている、請求項２または３に記載の電波反射体
。
が、所定の間隔を空けて周期的に配置されている、請求項２または３に記載の電波反射体
。
【請求項5】
前記導電薄膜層において、単位面積当たりの前記導電体が占める面積の割合として規定
される導電体被覆率が１％以上、１０％以下である、請求項４記載の電波反射体。
される導電体被覆率が１％以上、１０％以下である、請求項４記載の電波反射体。
【請求項6】
前記導電体の線幅は、０．１μｍ以上、４．０μｍ以下である、請求項４又は５に記載
の電波反射体。
の電波反射体。
【請求項7】
全体の形状が、１辺の長さが２０ｃｍ以上の多角形である、請求項１～６のいずれか１
項に記載の電波反射体。
項に記載の電波反射体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、電波を反射させるための電波反射体に関する。
【背景技術】
【0002】
携帯電話や無線通信においては、センチ波やミリ波と呼ばれる３ＧＨｚ以上３００ＧＨ
ｚ以下程度の周波数帯の電波が用いられる。このような波長が短い電波は直進性が強く、
障害物があっても回り込みにくいため、電波を広い範囲に届かせるために、反射板が用い
られる。例えば特許文献１には、モノポールアンテナと、電波を反射する金属反射板とを
屋内の床下空間に配置した通信システムが提案されている。特許文献１においては、モノ
ポールアンテナから放射される電波を床下空間に拡散させるとともに、床下空間から居室
（建物）外に漏洩したり、建造物の床部に電波が吸収されることを防いでいる。
ｚ以下程度の周波数帯の電波が用いられる。このような波長が短い電波は直進性が強く、
障害物があっても回り込みにくいため、電波を広い範囲に届かせるために、反射板が用い
られる。例えば特許文献１には、モノポールアンテナと、電波を反射する金属反射板とを
屋内の床下空間に配置した通信システムが提案されている。特許文献１においては、モノ
ポールアンテナから放射される電波を床下空間に拡散させるとともに、床下空間から居室
（建物）外に漏洩したり、建造物の床部に電波が吸収されることを防いでいる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０１０－２５８５１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
電波を反射させる金属反射板は、一般的に、アルミニウムや銅等の金属板から構成され
る。金属反射板は、波長の短い電波の場合、正規反射方向には強い強度で反射させるが、
電波を拡散させて反射させにくく、空間の広い範囲に電波が届きにくいことが知られてい
る。また、金属反射板は一般的に不透明である。すなわち、金属反射板の一方側からみて
他方側が視認できないため、このような金属反射板を居室に用いた場合には金属反射板の
存在が目立ったり、窓に用いられた場合には視線が遮られ、室内の雰囲気を阻害し景観が
悪くなる。
る。金属反射板は、波長の短い電波の場合、正規反射方向には強い強度で反射させるが、
電波を拡散させて反射させにくく、空間の広い範囲に電波が届きにくいことが知られてい
る。また、金属反射板は一般的に不透明である。すなわち、金属反射板の一方側からみて
他方側が視認できないため、このような金属反射板を居室に用いた場合には金属反射板の
存在が目立ったり、窓に用いられた場合には視線が遮られ、室内の雰囲気を阻害し景観が
悪くなる。
【0005】
本発明は、上記した課題に着目してなされたものであり、電波を空間の広い範囲に反射
させ、かつ景観を保つことのできる電波反射体を提供することを目的とする。
させ、かつ景観を保つことのできる電波反射体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上記目的を達成するため、本発明は、次の項に記載の主題を包含する。
【0007】
項１．電波を反射させるための導電体を含む電波反射体であって、
３ＧＨｚ以上、３００ＧＨｚ以下の周波数の入射波が正規反射したときの反射波の強度
が、前記入射波に対して－３０ｄＢ以上になる周波数が少なくとも１つ存在し、
Ｄ６５標準光源における全光線透過率が６５％以上である、電波反射体。
３ＧＨｚ以上、３００ＧＨｚ以下の周波数の入射波が正規反射したときの反射波の強度
が、前記入射波に対して－３０ｄＢ以上になる周波数が少なくとも１つ存在し、
Ｄ６５標準光源における全光線透過率が６５％以上である、電波反射体。
【0008】
項２．前記導電体を含む導電薄膜層と、前記導電薄膜層を保持する基材を含む基材層と
、前記導電薄膜層を保護するための保護材を含む保護層と、前記導電薄膜層と前記保護材
を含む層とを接着するための接着材を含む接着層とを有し、
前記基材層、前記導電薄膜層、前記接着層、前記保護層の順に積層されている、項１に
記載の電波反射体。
、前記導電薄膜層を保護するための保護材を含む保護層と、前記導電薄膜層と前記保護材
を含む層とを接着するための接着材を含む接着層とを有し、
前記基材層、前記導電薄膜層、前記接着層、前記保護層の順に積層されている、項１に
記載の電波反射体。
【0009】
項３．前記導電薄膜層は、表面抵抗値が３．５Ω／□以下であり、厚みが３００ｎｍ以
下である、項２に記載の電波反射体。
下である、項２に記載の電波反射体。
【0010】
項４．前記導電薄膜層は、１または複数の線状の前記導電体により囲まれた導電体の無
い領域が、所定の間隔を空けて周期的に配置されている、項２または３に記載の電波反射
体。
い領域が、所定の間隔を空けて周期的に配置されている、項２または３に記載の電波反射
体。
【0011】
項５．前記導電薄膜層において、単位面積当たりの導電体が占める面積として規定され
る導電体被覆率が１％以上、１０％以下である、項４記載の電波反射体。
る導電体被覆率が１％以上、１０％以下である、項４記載の電波反射体。
【0012】
項６．前記導電体の線幅は、０．１μｍ以上、４．０μｍ以下である、項４又は５に記
載の電波反射体。
載の電波反射体。
【0013】
項７．全体の形状が、１辺の長さが２０ｃｍ以上の多角形状である、項１～６のいずれ
か１項に記載の電波反射体。
か１項に記載の電波反射体。
【発明の効果】
【0014】
本発明によれば、電波を空間の広い範囲に反射させ、かつ透明な金属反射体を提供でき
る。
る。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【図1】本発明の一実施形態に係る電波反射体により反射する反射波の角度範囲を説明するための図である。
【図4】（Ａ）～（Ｅ）は導電体の配置パターンの他の例を示す断面図である。
【図5】他の実施形態に係る電波反射体の概略構成を示す断面図である。
【図6】他の実施形態に係る電波反射体の概略構成を示す断面図である。
【図7】（Ａ）は建築材料の建築物への適用例を示す説明図、（Ｂ）は室内への適用例を示す平面図である。
【図8】死角への電波拡張性の測定方法の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【0016】
（全体構成）
本発明の実施形態を図面を参照して説明する。本発明の電波反射体１１は、図１に示す
ように、電波発生源２０から出力された電波を反射するものであり、反射された反射波は
受信部２１により受信される。電波発生源２０は電波を送信可能な送信アンテナを持つ通
信装置等である。受信部２１は、電波を受信可能な受信アンテナを持つ通信機器である。
受信部２１としては、例えば、スマートフォン、携帯電話、タブレット端末、ノートＰＣ
、携帯ゲーム機、中継器、ラジオ、テレビ等が挙げられる。
本発明の実施形態を図面を参照して説明する。本発明の電波反射体１１は、図１に示す
ように、電波発生源２０から出力された電波を反射するものであり、反射された反射波は
受信部２１により受信される。電波発生源２０は電波を送信可能な送信アンテナを持つ通
信装置等である。受信部２１は、電波を受信可能な受信アンテナを持つ通信機器である。
受信部２１としては、例えば、スマートフォン、携帯電話、タブレット端末、ノートＰＣ
、携帯ゲーム機、中継器、ラジオ、テレビ等が挙げられる。
【0017】
電波反射体１１は、電波を反射させる導電体１２を含み、特に、３ＧＨｚ以上、３００
ＧＨｚ以下の周波数の電波が正規反射したときに、反射波の強度（以下、「正規反射強度
」ともいう。）が入射波に対して－３０ｄＢ以上となる周波数が少なくとも１つ存在する
。好ましくは３ＧＨｚ以上、３００ＧＨｚ以下の周波数帯域全てにおいて正規反射強度が
入射波に対して－３０ｄＢ以上、０ｄＢ以下となる。また、正規反射強度は、入射波に対
して、－２５ｄＢ以上、０ｄＢ以下が好ましく、－２２ｄＢ以上、０ｄＢ以下がより好ま
しく、－２０ｄＢ以上、０ｄＢ以下がさらに好ましく、－１５ｄＢ以上、０ｄＢ以下がさ
らに好ましい。正規反射強度が、入射波に対して－３０ｄＢ以上であることで、受信部２
１が使用に実用的な強度で電波を受信することができる。
ＧＨｚ以下の周波数の電波が正規反射したときに、反射波の強度（以下、「正規反射強度
」ともいう。）が入射波に対して－３０ｄＢ以上となる周波数が少なくとも１つ存在する
。好ましくは３ＧＨｚ以上、３００ＧＨｚ以下の周波数帯域全てにおいて正規反射強度が
入射波に対して－３０ｄＢ以上、０ｄＢ以下となる。また、正規反射強度は、入射波に対
して、－２５ｄＢ以上、０ｄＢ以下が好ましく、－２２ｄＢ以上、０ｄＢ以下がより好ま
しく、－２０ｄＢ以上、０ｄＢ以下がさらに好ましく、－１５ｄＢ以上、０ｄＢ以下がさ
らに好ましい。正規反射強度が、入射波に対して－３０ｄＢ以上であることで、受信部２
１が使用に実用的な強度で電波を受信することができる。
【0018】
図１を参照して説明すると、正規反射とは、電波発生源２０から発射された電波が電波
反射体１１により反射されるときに、入射波の入射角θ１と反射波の反射角θ２が等しい
ことをいう。電波が正規反射したときの反射波の進む方向を「正規反射方向」ともいう。
入射角θ１とは、電波が電波反射体１１に入射するときの入射方向（図１中の矢印Ａ１に
示す。）に進む入射波と、電波反射体１１の反射面の法線２２とがなす角度であり、反射
角θ２とは、反射方向（図１中の矢印Ａ２に示す。）に進む反射波と、反射面の法線２２
とがなす角度である。法線２２とは、反射点１１ａにおいて接線（または接平面）と直交
する直線をいう。反射波の強度を以下、「反射強度」とも言う。
反射体１１により反射されるときに、入射波の入射角θ１と反射波の反射角θ２が等しい
ことをいう。電波が正規反射したときの反射波の進む方向を「正規反射方向」ともいう。
入射角θ１とは、電波が電波反射体１１に入射するときの入射方向（図１中の矢印Ａ１に
示す。）に進む入射波と、電波反射体１１の反射面の法線２２とがなす角度であり、反射
角θ２とは、反射方向（図１中の矢印Ａ２に示す。）に進む反射波と、反射面の法線２２
とがなす角度である。法線２２とは、反射点１１ａにおいて接線（または接平面）と直交
する直線をいう。反射波の強度を以下、「反射強度」とも言う。
【0019】
また、電波反射体１１は、入射波の入射方向と反射波の反射方向とを含む仮想の平面に
おいて、反射波の受信角度位置を、電波の正規反射方向に対して－１５度以上、＋１５度
以下の角度範囲αで変化させた時の、各受信角度位置における反射波の強度の分布の尖度
は－０．４以下が好ましい。尖度は、より好ましくは－１．０以下である。また、仮想の
平面は、電波反射体１１の反射面上の反射点１１ａと、電波発生源２０と、反射波の受信
部２１とを含む平面とも言える。
おいて、反射波の受信角度位置を、電波の正規反射方向に対して－１５度以上、＋１５度
以下の角度範囲αで変化させた時の、各受信角度位置における反射波の強度の分布の尖度
は－０．４以下が好ましい。尖度は、より好ましくは－１．０以下である。また、仮想の
平面は、電波反射体１１の反射面上の反射点１１ａと、電波発生源２０と、反射波の受信
部２１とを含む平面とも言える。
【0020】
尖度は、分布が正規分布からどれだけ逸脱しているかを表す統計量で、山の尖り度と裾
の広がり度を示すものである。図１に示すように、電波発生源２０から出力された電波が
、電波反射体１１に対して所定の入射角θ１で入射したとする。受信部２１の受信角度位
置ｉを、反射点１１ａを中心として電波の正規反射方向から所定の角度ずつ（例えば５度
ずつ）、電波の正規反射方向に対して－１５度以上、＋１５度以下の角度範囲α内で移動
させて、反射強度ｘを測定する。各受信角度位置ｉでの反射強度の値
の平均値を
、標準偏差をsとすると尖度は次の式から求められる。
の広がり度を示すものである。図１に示すように、電波発生源２０から出力された電波が
、電波反射体１１に対して所定の入射角θ１で入射したとする。受信部２１の受信角度位
置ｉを、反射点１１ａを中心として電波の正規反射方向から所定の角度ずつ（例えば５度
ずつ）、電波の正規反射方向に対して－１５度以上、＋１５度以下の角度範囲α内で移動
させて、反射強度ｘを測定する。各受信角度位置ｉでの反射強度の値
【0021】
【0022】
尖度は、負の値の場合に各角度位置における強度データが正規分布より扁平な分布、す
なわち、データが平均値付近から散らばり分布の裾が広がっている状態を示しており、尖
度の値が小さいほど分布が扁平である。本実施形態では尖度を－０．４以下に設定するこ
とで、±１５度の角度範囲α内においては、受信角度位置による反射強度の差が小さくな
る。
なわち、データが平均値付近から散らばり分布の裾が広がっている状態を示しており、尖
度の値が小さいほど分布が扁平である。本実施形態では尖度を－０．４以下に設定するこ
とで、±１５度の角度範囲α内においては、受信角度位置による反射強度の差が小さくな
る。
【0023】
電波反射体１１は、Ｄ６５標準光源における全光線透過率が６５％以上であり、８０％
以上であることが好ましく、より好ましくは８５％以上であり、更に好ましくは９０％以
上である。全光線透過率は、試験片の平行入射光束に対する全透過光束の割合をいい、JI
SK 7375：2008に規定されている。すなわち、電波反射体１１はいわゆる「透明」であり
、「透明」とは、電波反射体１１の一方側からみて他方側が視認可能であることを言い、
半透明を含む。また、電波反射体１１は全体として着色されていてもよい。
以上であることが好ましく、より好ましくは８５％以上であり、更に好ましくは９０％以
上である。全光線透過率は、試験片の平行入射光束に対する全透過光束の割合をいい、JI
SK 7375：2008に規定されている。すなわち、電波反射体１１はいわゆる「透明」であり
、「透明」とは、電波反射体１１の一方側からみて他方側が視認可能であることを言い、
半透明を含む。また、電波反射体１１は全体として着色されていてもよい。
【0024】
電波反射体１１は、本実施形態では全体の形状が平面視において正方形であり、１辺の
長さが２０ｃｍ以上、４００ｃｍ以下であることが好ましい。周波数が３ＧＨｚ以上、３
００ＧＨｚ以下の電波は距離により減衰する。電波発生源２０から実用に耐える距離内全
ての地点において、十分な強度で反射するために、一辺の長さＬ１０を２０ｃｍ以上とす
ることが好ましい。一辺の長さＬ１０の上限は特に限定されないが、製造上の観点から４
００ｃｍ以下が好ましい。全体形状は正方形には限定されず、長方形でもよく、三角形、
五角形、六角形等の多角形でもよく、この場合、最も短い辺の長さが２０ｃｍ以上、４０
０ｃｍ以下に設定される。また、全体形状が円形の場合には、直径が２０ｃｍ以上、４０
０ｃｍ以下に設定され、全体形状が楕円形の場合には、短径が２０ｃｍ以上、４００ｃｍ
以下に設定され、全体形状が扇形の場合には、弧または半径の短い方の長さが２０ｃｍ以
上、４００ｃｍ以下に設定される。さらに、全体形状は筒状、錐状等の３次元形状であっ
てもよい。電波反射体１１の入射波に対して－３０ｄＢ以上の反射強度で電波を反射する
ことができる形状、大きさを有しており、形状、大きさは電波反射体１１の使用の態様に
応じて適宜選択される。
長さが２０ｃｍ以上、４００ｃｍ以下であることが好ましい。周波数が３ＧＨｚ以上、３
００ＧＨｚ以下の電波は距離により減衰する。電波発生源２０から実用に耐える距離内全
ての地点において、十分な強度で反射するために、一辺の長さＬ１０を２０ｃｍ以上とす
ることが好ましい。一辺の長さＬ１０の上限は特に限定されないが、製造上の観点から４
００ｃｍ以下が好ましい。全体形状は正方形には限定されず、長方形でもよく、三角形、
五角形、六角形等の多角形でもよく、この場合、最も短い辺の長さが２０ｃｍ以上、４０
０ｃｍ以下に設定される。また、全体形状が円形の場合には、直径が２０ｃｍ以上、４０
０ｃｍ以下に設定され、全体形状が楕円形の場合には、短径が２０ｃｍ以上、４００ｃｍ
以下に設定され、全体形状が扇形の場合には、弧または半径の短い方の長さが２０ｃｍ以
上、４００ｃｍ以下に設定される。さらに、全体形状は筒状、錐状等の３次元形状であっ
てもよい。電波反射体１１の入射波に対して－３０ｄＢ以上の反射強度で電波を反射する
ことができる形状、大きさを有しており、形状、大きさは電波反射体１１の使用の態様に
応じて適宜選択される。
【0025】
本実施形態では電波反射体１１は厚みＬ１が約０．２５ｍｍに設定されているが、これ
に限定されず、厚みＬ１は１ｍｍ以下となることが好ましい。電波反射体１１の厚みＬ１
が小さいことから、導電体１２は可撓性を有する。可撓性とは、常温常圧下において柔軟
性を有し、力を加えても、せん断したり破断したりすることなしに、撓みや、屈曲、折り
曲げ等の変形が可能な性質をいう。電波反射体１１は、曲率半径Ｒが３００ｍｍ程度の湾
曲面に沿って貼付けることのできる程度の可撓性を有するが、曲率半径Ｒの値は限定され
ない。
に限定されず、厚みＬ１は１ｍｍ以下となることが好ましい。電波反射体１１の厚みＬ１
が小さいことから、導電体１２は可撓性を有する。可撓性とは、常温常圧下において柔軟
性を有し、力を加えても、せん断したり破断したりすることなしに、撓みや、屈曲、折り
曲げ等の変形が可能な性質をいう。電波反射体１１は、曲率半径Ｒが３００ｍｍ程度の湾
曲面に沿って貼付けることのできる程度の可撓性を有するが、曲率半径Ｒの値は限定され
ない。
【0026】
（電波反射体１１の構造）
電波反射体１１の構造の一例を、図２、図３を用いて説明する。電波反射体１１は、導
電体１２を含む導電薄膜層１６と、導電薄膜層１６を保持する基材を含む基材層１３と、
導電薄膜層１６を保護するための保護材を含む保護層１５と、導電薄膜層１６と保護層１
５とを接着するための接着材を含む接着層１４とを有するものであってもよい。電波反射
体１１は、図２において、下から基材層１３、導電薄膜層１６、接着層１４、保護層１５
の順に積層されている。
電波反射体１１の構造の一例を、図２、図３を用いて説明する。電波反射体１１は、導
電体１２を含む導電薄膜層１６と、導電薄膜層１６を保持する基材を含む基材層１３と、
導電薄膜層１６を保護するための保護材を含む保護層１５と、導電薄膜層１６と保護層１
５とを接着するための接着材を含む接着層１４とを有するものであってもよい。電波反射
体１１は、図２において、下から基材層１３、導電薄膜層１６、接着層１４、保護層１５
の順に積層されている。
【0027】
なお、以下の説明では、図２に基づき上下方向を規定し、図３、図４に基づき縦横方向
、左右方向を規定しているが、上下方向、縦横方向、左右方向は説明のために用いており
、電波反射体１１の建築物等への取付け等の使用時における上下方向、縦横方向を規定す
るものではない。また、図１～図８は実際の縮尺を示すものではない。また図３において
は、電波反射体１１の一部で接着層１４、保護層１５の図示を省略している。
、左右方向を規定しているが、上下方向、縦横方向、左右方向は説明のために用いており
、電波反射体１１の建築物等への取付け等の使用時における上下方向、縦横方向を規定す
るものではない。また、図１～図８は実際の縮尺を示すものではない。また図３において
は、電波反射体１１の一部で接着層１４、保護層１５の図示を省略している。
【0028】
（基材層１３）
基材層１３は上面に導電体１２を整列状態で保持するものであり、基材から構成される
。本実施形態では、外形が平面視において正方形状に形成されているがこれに限定されず
、電波反射体１１の全体形状に合わせて長方形、円形、楕円形、扇形、多角形、三次元形
状等であってもよい。基材層１３である基材として、合成樹脂製のシートが用いられる。
合成樹脂としては、例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリエステ
ル、ポリフォルムアルデヒド、ポリアミド、ポリフェニレンエーテル、塩化ビニリデン、
ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、アクリル樹脂、フッ素
樹脂、ナイロン樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポ
リウレタン樹脂からなる群から選択される１種以上が挙げられる。また、基材層１３の厚
みＬ２（図２における上下方向の長さ）は、本実施形態では５０μｍに設定されているが
、これに限定されるものではない。なお、基材層１３は基材に加え、任意の合成樹脂等の
物質や任意の部材を含んでいてもよい。
基材層１３は上面に導電体１２を整列状態で保持するものであり、基材から構成される
。本実施形態では、外形が平面視において正方形状に形成されているがこれに限定されず
、電波反射体１１の全体形状に合わせて長方形、円形、楕円形、扇形、多角形、三次元形
状等であってもよい。基材層１３である基材として、合成樹脂製のシートが用いられる。
合成樹脂としては、例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリエステ
ル、ポリフォルムアルデヒド、ポリアミド、ポリフェニレンエーテル、塩化ビニリデン、
ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、アクリル樹脂、フッ素
樹脂、ナイロン樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポ
リウレタン樹脂からなる群から選択される１種以上が挙げられる。また、基材層１３の厚
みＬ２（図２における上下方向の長さ）は、本実施形態では５０μｍに設定されているが
、これに限定されるものではない。なお、基材層１３は基材に加え、任意の合成樹脂等の
物質や任意の部材を含んでいてもよい。
【0029】
（導電薄膜層１６）
導電薄膜層１６は、１または複数の線状の導電体１２が基材層１３の上面に薄膜として
形成されていることが好ましい。導電体１２は、例えば銀（Ａｇ）から構成されることが
好ましい。なお、導電体１２は自由電子を持つ金属から構成されていればよく、銀に限ら
ず、例えば、金、銅、白金、アルミニウム、チタニウム、シリコン等であってもよい。ま
た、導電薄膜層１６（導電体１２）の厚み（膜厚）Ｌ３は、本実施形態では５００ｎｍ（
０．５μｍ）としているが、これに限定されるものではない。厚みＬ３は、適切な電波強
度を確保する観点から、５ｎｍ以上であることが好ましい。なお、導電薄膜層１６は導電
体１２に加え、任意の合成樹脂等の物質や任意の部材を含んでいてもよい。
導電薄膜層１６は、１または複数の線状の導電体１２が基材層１３の上面に薄膜として
形成されていることが好ましい。導電体１２は、例えば銀（Ａｇ）から構成されることが
好ましい。なお、導電体１２は自由電子を持つ金属から構成されていればよく、銀に限ら
ず、例えば、金、銅、白金、アルミニウム、チタニウム、シリコン等であってもよい。ま
た、導電薄膜層１６（導電体１２）の厚み（膜厚）Ｌ３は、本実施形態では５００ｎｍ（
０．５μｍ）としているが、これに限定されるものではない。厚みＬ３は、適切な電波強
度を確保する観点から、５ｎｍ以上であることが好ましい。なお、導電薄膜層１６は導電
体１２に加え、任意の合成樹脂等の物質や任意の部材を含んでいてもよい。
【0030】
導電薄膜層１６は、表面抵抗値が３．５Ω／□以下であることが好ましい。導電薄膜層
１６の表面抵抗値は、すなわち電波反射体１１の表面抵抗値となる。
１６の表面抵抗値は、すなわち電波反射体１１の表面抵抗値となる。
【0031】
上記表面抵抗値は導電薄膜層の表面に測定端子を接触させて、ＪＩＳＫ７１９４：１９
９４に規定された四端子法に準拠して測定することができる。なお、樹脂シート等で保護
が施され導電薄膜層１６が露出していない場合には、非接触式抵抗測定器（ナプソン株式
会社製、商品名：ＥＣ－８０Ｐ、又はその同等品）を用いて渦電流法によって測定するこ
とができる。
９４に規定された四端子法に準拠して測定することができる。なお、樹脂シート等で保護
が施され導電薄膜層１６が露出していない場合には、非接触式抵抗測定器（ナプソン株式
会社製、商品名：ＥＣ－８０Ｐ、又はその同等品）を用いて渦電流法によって測定するこ
とができる。
【0032】
一例においては、導電薄膜層１６は、１または複数の線状の導電体１２が、導電体１２
の無い領域１２ａを囲んで配置され、この領域１２ａが所定の間隔を空けて周期的に配置
されたものである。所定の間隔は、導電体１２の線幅Ｌ６と等しい長さでもよく、線幅Ｌ
６よりも大きい長さでもよい。本実施形態の導電体１２の配置パターンは、例えば図３（
Ｂ）に示すように、導電体１２が縦方向および横方向に沿って等間隔に配置されており、
導電体１２により囲まれた導電体１２の無い領域１２ａが正方形である。すなわち、導電
体１２の無い領域１２ａは導電体１２の線幅Ｌ６の間隔を空けて配置される。横方向に沿
う導電体１２（１２Ａ）と縦方向に沿う導電体１２（１２Ｂ）とが重なり合う交点におい
て導電体１２Ａ、１２Ｂは電気的に導通している。導電体１２の線幅Ｌ６は、０．１μｍ
以上、４．０μｍ以下に設定されている。縦方向または横方向に沿って隣り合う導電体１
２の間の長さＬ７（正方形である導電体１２の無い領域１２ａの一辺の長さ）は、可視光
線の波長より大きく、電波反射体１１に反射する電波の波長より小さくなるように設定さ
れ、本実施形態では、２μｍ以上、１０ｃｍ以下に設定される。より好ましくは２０μｍ
以上、１ｃｍ以下、更に好ましくは２５μｍ以上、１ｍｍ以下が好ましい。一層好ましく
は３０μｍ以上、２５０μｍ以下である。
の無い領域１２ａを囲んで配置され、この領域１２ａが所定の間隔を空けて周期的に配置
されたものである。所定の間隔は、導電体１２の線幅Ｌ６と等しい長さでもよく、線幅Ｌ
６よりも大きい長さでもよい。本実施形態の導電体１２の配置パターンは、例えば図３（
Ｂ）に示すように、導電体１２が縦方向および横方向に沿って等間隔に配置されており、
導電体１２により囲まれた導電体１２の無い領域１２ａが正方形である。すなわち、導電
体１２の無い領域１２ａは導電体１２の線幅Ｌ６の間隔を空けて配置される。横方向に沿
う導電体１２（１２Ａ）と縦方向に沿う導電体１２（１２Ｂ）とが重なり合う交点におい
て導電体１２Ａ、１２Ｂは電気的に導通している。導電体１２の線幅Ｌ６は、０．１μｍ
以上、４．０μｍ以下に設定されている。縦方向または横方向に沿って隣り合う導電体１
２の間の長さＬ７（正方形である導電体１２の無い領域１２ａの一辺の長さ）は、可視光
線の波長より大きく、電波反射体１１に反射する電波の波長より小さくなるように設定さ
れ、本実施形態では、２μｍ以上、１０ｃｍ以下に設定される。より好ましくは２０μｍ
以上、１ｃｍ以下、更に好ましくは２５μｍ以上、１ｍｍ以下が好ましい。一層好ましく
は３０μｍ以上、２５０μｍ以下である。
【0033】
導電体１２の配置パターンは図３（Ｂ）に示す配置に限定されず、例えば、隣り合う横
方向に延びる導電体１２Ａ同士の間の間隔と、隣り合う縦方向に延びる導電体１２Ｂ同士
の間の間隔とが異なっており、導電体１２の無い領域１２ａの形状が長方形であってもよ
い。また、導電体１２は図４（Ａ）～（Ｅ）に示す形状の配置パターンで配置されていて
もよい。図４（Ａ）においては、複数の導電体１２Ａが横方向に沿って所定の間隔を空け
て配置され、この横方向に延びる導電体１２Ａの間に、縦方向に延びる複数の導電体１２
Ｂが千鳥状に配置される。千鳥状とは、縦方向に延びる複数の導電体１２Ｂが横方向に所
定の間隔を空けて配列され、かつ、一つの列を形成する複数の導電体１２Ｂが、この列の
縦方向に隣の列を形成する複数の導電体１２Ｂの間に位置し、一つ飛びの列の導電体１２
Ｂは一直線上に並ぶように配列された状態をいう。図４（Ｂ）においては、導電体１２Ａ
が横方向に沿って配置されるとともに、導電体１２Ｂ、１２Ｃが横方向に対して上下に傾
いた斜め方向に沿って配置されており、導電体１２の無い領域１２ａの形状が正三角形で
ある。なお、導電体１２の無い領域１２ａの形状の形状が正三角形ではなく、二等辺三角
形や３辺の長さが異なる三角形であってもよい。図４（Ｃ）においては、線状の導電体１
２により形成された正六角形の導電体１２の無い領域１２ａが周期的に配置され、図４（
Ｄ）においては、線状の導電体１２により形成された正五角形の導電体１２の無い領域１
２ａが周期的に配置されている。図４（Ｅ）においては、線状の導電体１２により形成さ
れた円形の導電体１２の無い領域１２ａが周期的に配置されている。なお、図４（Ａ）～
（Ｅ）は導電体１２のみを図示している。
方向に延びる導電体１２Ａ同士の間の間隔と、隣り合う縦方向に延びる導電体１２Ｂ同士
の間の間隔とが異なっており、導電体１２の無い領域１２ａの形状が長方形であってもよ
い。また、導電体１２は図４（Ａ）～（Ｅ）に示す形状の配置パターンで配置されていて
もよい。図４（Ａ）においては、複数の導電体１２Ａが横方向に沿って所定の間隔を空け
て配置され、この横方向に延びる導電体１２Ａの間に、縦方向に延びる複数の導電体１２
Ｂが千鳥状に配置される。千鳥状とは、縦方向に延びる複数の導電体１２Ｂが横方向に所
定の間隔を空けて配列され、かつ、一つの列を形成する複数の導電体１２Ｂが、この列の
縦方向に隣の列を形成する複数の導電体１２Ｂの間に位置し、一つ飛びの列の導電体１２
Ｂは一直線上に並ぶように配列された状態をいう。図４（Ｂ）においては、導電体１２Ａ
が横方向に沿って配置されるとともに、導電体１２Ｂ、１２Ｃが横方向に対して上下に傾
いた斜め方向に沿って配置されており、導電体１２の無い領域１２ａの形状が正三角形で
ある。なお、導電体１２の無い領域１２ａの形状の形状が正三角形ではなく、二等辺三角
形や３辺の長さが異なる三角形であってもよい。図４（Ｃ）においては、線状の導電体１
２により形成された正六角形の導電体１２の無い領域１２ａが周期的に配置され、図４（
Ｄ）においては、線状の導電体１２により形成された正五角形の導電体１２の無い領域１
２ａが周期的に配置されている。図４（Ｅ）においては、線状の導電体１２により形成さ
れた円形の導電体１２の無い領域１２ａが周期的に配置されている。なお、図４（Ａ）～
（Ｅ）は導電体１２のみを図示している。
【0034】
導電薄膜層１６は、導電体被覆率が１％以上、１０％以下であることが好ましい。導電
体被覆率は、平面視において単位面積当たりの導電体１２が占める面積の割合をいう。導
電体被覆率は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、光学顕微鏡
等を用いて測定される。
体被覆率は、平面視において単位面積当たりの導電体１２が占める面積の割合をいう。導
電体被覆率は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、光学顕微鏡
等を用いて測定される。
【0035】
上記の配置パターンを有する導電薄膜層１６の製造方法としては、導電体膜を成形した
後、エッチングによりパターンを形成し、パターンを有する導電薄膜体を取り出す方法、
リフトオフ層を設けたベースフィルム上に、感光性レジストを塗工し、フォトリソグラフ
ィ法によりパターン形成し、パターン部に導電体を充填した後に、パターンを有する導電
薄膜体を取り出す方法などが挙げられる。
後、エッチングによりパターンを形成し、パターンを有する導電薄膜体を取り出す方法、
リフトオフ層を設けたベースフィルム上に、感光性レジストを塗工し、フォトリソグラフ
ィ法によりパターン形成し、パターン部に導電体を充填した後に、パターンを有する導電
薄膜体を取り出す方法などが挙げられる。
【0036】
（接着層１４）
接着層１４は、基材層１３および導電薄膜層１６の上に保護層１５を接着するものであ
り、接着材から構成される。接着層１４は、平面視において基材層１３に対応する大きさ
を有する。接着層１４である接着材として、合成樹脂やゴム製の粘着シートが用いられる
。合成樹脂としては、例えば、アクリル樹脂や、シリコン樹脂、ポリビニルアルコール樹
脂等が挙げられる。接着層１４の厚みＬ４は、本実施形態では１５０μｍに設定されてい
るが、これに限定されるものではない。なお、接着層１４は接着材に加え、任意の合成樹
脂等の物質や任意の部材を含んでいてもよい。
接着層１４は、基材層１３および導電薄膜層１６の上に保護層１５を接着するものであ
り、接着材から構成される。接着層１４は、平面視において基材層１３に対応する大きさ
を有する。接着層１４である接着材として、合成樹脂やゴム製の粘着シートが用いられる
。合成樹脂としては、例えば、アクリル樹脂や、シリコン樹脂、ポリビニルアルコール樹
脂等が挙げられる。接着層１４の厚みＬ４は、本実施形態では１５０μｍに設定されてい
るが、これに限定されるものではない。なお、接着層１４は接着材に加え、任意の合成樹
脂等の物質や任意の部材を含んでいてもよい。
【0037】
接着層１４は、誘電正接（tanδ）が０．０１８以下の合成樹脂材料からなるものが用
いられることが好ましい。誘電正接は低いほど好ましいが、通常０．０００１以上である
。誘電正接とは、誘電体内での電気エネルギー損失の度合いを表すものであり、誘電正接
が大きい材料ほど電気エネルギー損失は大きくなる。誘電正接が０．０１８以下である接
着層１４を用いることで、電波反射体１１における電波の電気エネルギーの損失が少なく
なり、反射強度をより強くすることができる。
いられることが好ましい。誘電正接は低いほど好ましいが、通常０．０００１以上である
。誘電正接とは、誘電体内での電気エネルギー損失の度合いを表すものであり、誘電正接
が大きい材料ほど電気エネルギー損失は大きくなる。誘電正接が０．０１８以下である接
着層１４を用いることで、電波反射体１１における電波の電気エネルギーの損失が少なく
なり、反射強度をより強くすることができる。
【0038】
また、接着層１４の合成樹脂材料は、電場の周波数に応じて比誘電率が変化するもので
あることが好ましい。比誘電率とは、媒質（本実施形態では合成樹脂材料）の誘電率と真
空の誘電率の比である。電場に応じて比誘電率が変化することで、特定の周波数の電場で
の反射波の強度を高めることができる。比誘電率は、１．５以上、７以下の間で変化する
ことが好ましい。より好ましくは、１．８以上、６．５以下の間で変化することが好まし
い。誘導正接、比誘電率は測定装置（例えば、東洋テクニカ社、型番ＴＴＰＸテーブルト
ップ極低温プローバー、マテリアルインピーダンスアナライザＭＩＡ－５Ｍ）を用いて既
知の方法（例えば、空洞共振器法、同軸共振器法）により測定される。
あることが好ましい。比誘電率とは、媒質（本実施形態では合成樹脂材料）の誘電率と真
空の誘電率の比である。電場に応じて比誘電率が変化することで、特定の周波数の電場で
の反射波の強度を高めることができる。比誘電率は、１．５以上、７以下の間で変化する
ことが好ましい。より好ましくは、１．８以上、６．５以下の間で変化することが好まし
い。誘導正接、比誘電率は測定装置（例えば、東洋テクニカ社、型番ＴＴＰＸテーブルト
ップ極低温プローバー、マテリアルインピーダンスアナライザＭＩＡ－５Ｍ）を用いて既
知の方法（例えば、空洞共振器法、同軸共振器法）により測定される。
【0039】
なお、接着層１４だけでなく、基材層１３及び保護層１５を構成する合成樹脂材料が、
誘電正接が０．０１８以下のものであってもよく、電場に応じて比誘電率が変化するもの
であってもよい。
誘電正接が０．０１８以下のものであってもよく、電場に応じて比誘電率が変化するもの
であってもよい。
【0040】
（保護層１５）
保護層１５は、平面視において基材層１３に対応する大きさを有し、導電体１２を保護
するものであり、保護材から構成される。保護層１５である保護材として、合成樹脂製の
フィルムが用いられる。合成樹脂としては、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート
）、ＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリエステル、ポリフォルムアルデヒ
ド、ポリアミド、ポリフェニレンエーテル、塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニ
ルアセタール、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、アクリル樹脂、フッ素樹脂、ナイロン樹脂、ポリ
アセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂からなる群
から選択される１種以上が挙げられる。保護層１５の厚みＬ５は、本実施形態では５０μ
ｍに設定されているが、これに限定されるものではない。なお、保護層１５には保護材に
加え任意の合成樹脂等の物質や任意の部材を含んでいてもよい。
保護層１５は、平面視において基材層１３に対応する大きさを有し、導電体１２を保護
するものであり、保護材から構成される。保護層１５である保護材として、合成樹脂製の
フィルムが用いられる。合成樹脂としては、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート
）、ＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリエステル、ポリフォルムアルデヒ
ド、ポリアミド、ポリフェニレンエーテル、塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニ
ルアセタール、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、アクリル樹脂、フッ素樹脂、ナイロン樹脂、ポリ
アセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂からなる群
から選択される１種以上が挙げられる。保護層１５の厚みＬ５は、本実施形態では５０μ
ｍに設定されているが、これに限定されるものではない。なお、保護層１５には保護材に
加え任意の合成樹脂等の物質や任意の部材を含んでいてもよい。
【0041】
本実施形態によれば、電波反射体１１はＤ６５標準光源における全光線透過率が６５％
以上であり透明性が高いため、電波反射体１１を居室に用いた場合に、視線が遮られたり
、電波反射体１１の存在が目立って居室の雰囲気や景観を阻害することがなく、景観を良
好に保つことができる。また、電波反射体１１においては、３ＧＨｚ以上、３００ＧＨｚ
以下の周波数の入射波が正規反射したときの反射波の強度が、入射波に対して－３０ｄＢ
以上になる周波数が少なくとも１つ存在するため、反射強度を大きく保った状態で電波を
反射させることができ、空間の広い範囲に電波を届けることができる。このため、波長が
短く直進性の高い電波であっても、室内の空間内においてできる限り死角空間が生じるの
を抑えることができ、死角空間を少なくするために電波反射体を多数設置する必要がない
。
以上であり透明性が高いため、電波反射体１１を居室に用いた場合に、視線が遮られたり
、電波反射体１１の存在が目立って居室の雰囲気や景観を阻害することがなく、景観を良
好に保つことができる。また、電波反射体１１においては、３ＧＨｚ以上、３００ＧＨｚ
以下の周波数の入射波が正規反射したときの反射波の強度が、入射波に対して－３０ｄＢ
以上になる周波数が少なくとも１つ存在するため、反射強度を大きく保った状態で電波を
反射させることができ、空間の広い範囲に電波を届けることができる。このため、波長が
短く直進性の高い電波であっても、室内の空間内においてできる限り死角空間が生じるの
を抑えることができ、死角空間を少なくするために電波反射体を多数設置する必要がない
。
【0042】
また、電波の正規反射方向に対して±１５度の角度範囲α内の尖度を－０．４以下に設
定した場合には、±１５度の角度範囲α内においては、受信角度位置による反射強度の差
が小さくなり、電波反射体１１が反射した電波を受信部２１が空間の広い範囲で受信可能
である。
定した場合には、±１５度の角度範囲α内においては、受信角度位置による反射強度の差
が小さくなり、電波反射体１１が反射した電波を受信部２１が空間の広い範囲で受信可能
である。
【0043】
さらに、導電体１２を含む導電薄膜層１６が基材層１３により保持され、保護層１５が
接着層１４により接着されている構成とした場合には、電波反射体１１は居室等の壁や柱
に張り付けることができる程度の剛性を備えることができ、貼り付け等の作業がしやすい
。また、保護層１５を備えているため、導電薄膜層１６が傷つくのを防ぐことができる。
接着層１４により接着されている構成とした場合には、電波反射体１１は居室等の壁や柱
に張り付けることができる程度の剛性を備えることができ、貼り付け等の作業がしやすい
。また、保護層１５を備えているため、導電薄膜層１６が傷つくのを防ぐことができる。
【0044】
導電薄膜層１６の表面抵抗値が３．５Ω／□以下である場合には、電波反射体１１は反
射強度を大きく保った状態で電波を反射させることができ、空間の広い範囲に電波を届け
ることができる。また、導電薄膜層１６において、１または複数の線状の導電体１２によ
り囲まれた導電体の無い領域が、所定の間隔を空けて周期的に配置されている場合には、
導電体１２の無い領域１２ａを可視光線等の光線が通過し、電波反射体１１の全光線透過
率が６５％以上とすることができる。
射強度を大きく保った状態で電波を反射させることができ、空間の広い範囲に電波を届け
ることができる。また、導電薄膜層１６において、１または複数の線状の導電体１２によ
り囲まれた導電体の無い領域が、所定の間隔を空けて周期的に配置されている場合には、
導電体１２の無い領域１２ａを可視光線等の光線が通過し、電波反射体１１の全光線透過
率が６５％以上とすることができる。
【0045】
導電薄膜層１６の導電体被覆率が１％以上、１０％以下である場合には、導電体１２が
配置されていない面積の割合が大きく、電波反射体１１の全光線透過率が６５％以上とな
る。
配置されていない面積の割合が大きく、電波反射体１１の全光線透過率が６５％以上とな
る。
【0046】
導電体１２の線幅Ｌ６が、０．１μｍ以上、４．０μｍ以下である場合には、導電体１
２が配置されていない面積の割合が大きく、電波反射体１１の全光線透過率が６５％以上
となる。
２が配置されていない面積の割合が大きく、電波反射体１１の全光線透過率が６５％以上
となる。
【0047】
電波反射体１１の全体の形状が、１辺の長さが２０ｃｍ以上、４００ｃｍ以下の四角形
である場合には、居室内の空間の広い範囲に受信部が受信できる実用的な反射強度で電波
を反射させることができ、居室に電波反射体１１を配置した場合に死角が生じにくい。
である場合には、居室内の空間の広い範囲に受信部が受信できる実用的な反射強度で電波
を反射させることができ、居室に電波反射体１１を配置した場合に死角が生じにくい。
【0048】
（他の実施形態）
図５に本発明の他の実施形態を示す。図５に示す電波反射体１１は、導電薄膜層１６Ａ
、１６Ｂが上下方向に二層に積層されている。基材層１３Ａ上に形成された導電薄膜層１
６Ａと基材層１３Ｂ上に形成された導電薄膜層１６Ｂと配置パターンが平面から見て重な
るように位置合わせされる。なお、導電薄膜層１６Ａ、１６Ｂの配置パターンは平面視に
おいて重なっていなくてもよく、導電薄膜層１６Ａ、１６Ｂは異なる配置パターンで形成
されていてもよい。導電薄膜層１６Ａの上に、基材層１３Ｂの下面が接着層１４Ａにより
貼付けられ、導電薄膜層１６Ｂの上に、接着層１４Ｂにより保護層１５が貼付けられてい
る。
図５に本発明の他の実施形態を示す。図５に示す電波反射体１１は、導電薄膜層１６Ａ
、１６Ｂが上下方向に二層に積層されている。基材層１３Ａ上に形成された導電薄膜層１
６Ａと基材層１３Ｂ上に形成された導電薄膜層１６Ｂと配置パターンが平面から見て重な
るように位置合わせされる。なお、導電薄膜層１６Ａ、１６Ｂの配置パターンは平面視に
おいて重なっていなくてもよく、導電薄膜層１６Ａ、１６Ｂは異なる配置パターンで形成
されていてもよい。導電薄膜層１６Ａの上に、基材層１３Ｂの下面が接着層１４Ａにより
貼付けられ、導電薄膜層１６Ｂの上に、接着層１４Ｂにより保護層１５が貼付けられてい
る。
【0049】
電波反射体１１に入射した電波は、一層目の導電薄膜層１６Ｂにより反射されるが、一
部は導電薄膜層１６Ｂで反射されずに導電薄膜層１６Ｂを通過する。この導電薄膜層１６
Ｂを通過した電波は、二層目の導電薄膜層１６Ａにより反射される。このように、導電体
１２を含む導電薄膜層１６を上下方向に複数積層することで、上層の導電薄膜層１６Ｂを
通過した電波を下層の導電薄膜層１６Ａで反射させることができ、電波反射体１１の反射
強度を導電体１２が一層のみの場合と比べてより大きく保つことができる。さらに、二層
の接着層１４Ａ、１４Ｂを用いているので、誘電正接の値が図２に示す実施形態よりもさ
らに小さくなり、反射強度をさらに大きく保つことができる。その他の構成及び作用は図
２、図３に示す実施形態と同様であるため、対応する構成に同一の符号を付すことで詳細
な説明は省略する。
部は導電薄膜層１６Ｂで反射されずに導電薄膜層１６Ｂを通過する。この導電薄膜層１６
Ｂを通過した電波は、二層目の導電薄膜層１６Ａにより反射される。このように、導電体
１２を含む導電薄膜層１６を上下方向に複数積層することで、上層の導電薄膜層１６Ｂを
通過した電波を下層の導電薄膜層１６Ａで反射させることができ、電波反射体１１の反射
強度を導電体１２が一層のみの場合と比べてより大きく保つことができる。さらに、二層
の接着層１４Ａ、１４Ｂを用いているので、誘電正接の値が図２に示す実施形態よりもさ
らに小さくなり、反射強度をさらに大きく保つことができる。その他の構成及び作用は図
２、図３に示す実施形態と同様であるため、対応する構成に同一の符号を付すことで詳細
な説明は省略する。
【0050】
なお、図５の実施形態では、基材層１３に形成された導電薄膜層１６が二層に積層され
ているが、三層以上積層されていてもよい。導電薄膜層１６を積層する数が多くなると反
射強度が大きくなるが、電波反射体１１全体の厚みが厚くなるため、全光線透過率、可撓
性が低下する。このため、導電薄膜層１６の積層数は使用用途等に応じて適宜設定される
。
ているが、三層以上積層されていてもよい。導電薄膜層１６を積層する数が多くなると反
射強度が大きくなるが、電波反射体１１全体の厚みが厚くなるため、全光線透過率、可撓
性が低下する。このため、導電薄膜層１６の積層数は使用用途等に応じて適宜設定される
。
【0051】
（他の実施形態）
図６に電波反射体１１の他の実施形態を示す。図６の実施形態においては、電波反射体
１１は導電薄膜層１６と基材層１３とを備え、接着層１４と保護層１５とを備えていない
。この場合、導電薄膜層１６の導電体１２は基材層１３の上面の略全面にシート状の薄膜
として正方形状に形成されている。導電体１２の厚みＬ３は、本実施形態では１０ｎｍと
しているが、これに限定されない。表面抵抗値は、本実施形態では９．８Ω／□である。
図６の実施形態においては、導電体被覆率は、基材層１３の上の導電薄膜層１６が設けら
れている部分における単位面積当たりの導電体１２が占める面積の割合として規定され、
導電体被覆率は１００％となる。本実施形態においては、電波反射体１１の全光線透過率
は７０％である。その他の構成及び作用は図２、図３に示す実施形態と同様であるため、
対応する構成に同一の符号を付すことで詳細な説明は省略する。
図６に電波反射体１１の他の実施形態を示す。図６の実施形態においては、電波反射体
１１は導電薄膜層１６と基材層１３とを備え、接着層１４と保護層１５とを備えていない
。この場合、導電薄膜層１６の導電体１２は基材層１３の上面の略全面にシート状の薄膜
として正方形状に形成されている。導電体１２の厚みＬ３は、本実施形態では１０ｎｍと
しているが、これに限定されない。表面抵抗値は、本実施形態では９．８Ω／□である。
図６の実施形態においては、導電体被覆率は、基材層１３の上の導電薄膜層１６が設けら
れている部分における単位面積当たりの導電体１２が占める面積の割合として規定され、
導電体被覆率は１００％となる。本実施形態においては、電波反射体１１の全光線透過率
は７０％である。その他の構成及び作用は図２、図３に示す実施形態と同様であるため、
対応する構成に同一の符号を付すことで詳細な説明は省略する。
【0052】
なお、本実施形態では導電薄膜層１６は１枚の導電体１２から構成されるが、複数枚の
導電体１２から構成されていてもよい。この場合、複数の導電体１２が基材層１３の上面
の略全面に、所定の間隔を空けて配置される。また、導電体１２の形状は、円形、長方形
、三角形、多角形などであってもよい。
導電体１２から構成されていてもよい。この場合、複数の導電体１２が基材層１３の上面
の略全面に、所定の間隔を空けて配置される。また、導電体１２の形状は、円形、長方形
、三角形、多角形などであってもよい。
【0053】
（使用）
上記のいずれかの電波反射体１１は建築材料３０に含まれて使用されてもよい。建築材
料３０は、例えば図７（Ａ）に示すように、室内や廊下の壁面、天井面、床面、パーティ
ーション用の壁紙、ポスター等の装飾材３０Ａ、電灯カバー用の透明シール等の装飾材３
０Ｂとして、建築物内に取り付けることが可能なものである。電波反射体１１を含んだ装
飾材３０Ａ、３０Ｂを壁面３１や電灯カバー３２に取付けることで、屋外から窓３３等を
介して室内に入った電波を、壁面３１や電灯カバー３２に設けた装飾材３０Ａ、３０Ｂで
反射する。これにより、室内空間Ｓのより広範囲に電波が届き、電波受信の利便性が向上
する。
上記のいずれかの電波反射体１１は建築材料３０に含まれて使用されてもよい。建築材
料３０は、例えば図７（Ａ）に示すように、室内や廊下の壁面、天井面、床面、パーティ
ーション用の壁紙、ポスター等の装飾材３０Ａ、電灯カバー用の透明シール等の装飾材３
０Ｂとして、建築物内に取り付けることが可能なものである。電波反射体１１を含んだ装
飾材３０Ａ、３０Ｂを壁面３１や電灯カバー３２に取付けることで、屋外から窓３３等を
介して室内に入った電波を、壁面３１や電灯カバー３２に設けた装飾材３０Ａ、３０Ｂで
反射する。これにより、室内空間Ｓのより広範囲に電波が届き、電波受信の利便性が向上
する。
【0054】
また、電波反射体１１は建築材料３０の内部に保持されたものとして形成されてもよい
。例えば、建築材料３０である壁面３１そのものや電灯カバー３２そのものが電波反射体
１１で構成されていてもよい。さらに、建築材料３０は室内の壁や電灯カバーに限定され
ず、パーティーション、柱、鴨居、建築物の外壁、窓等であってもよい。例えば、図７（
Ｂ）は室内を平面から見た図であり、電波反射体１１である建築材料３０は部屋の隅の曲
面を有する隅柱３０Ｃとして形成されている。窓３３から入った電波が隅柱３０Ｃに反射
して室内空間Ｓのより広範囲に電波が届く。なお、図７（Ａ）、図７（Ｂ）は建築材料３
０の適用例を示すものであり、実際の電波の反射の範囲を示すものではない。また、電波
反射体１１は建築材料３０に限らず、樹脂などの非導電性材料からなる部材の内部に保持
されて任意の場所で使用されてもよい。
。例えば、建築材料３０である壁面３１そのものや電灯カバー３２そのものが電波反射体
１１で構成されていてもよい。さらに、建築材料３０は室内の壁や電灯カバーに限定され
ず、パーティーション、柱、鴨居、建築物の外壁、窓等であってもよい。例えば、図７（
Ｂ）は室内を平面から見た図であり、電波反射体１１である建築材料３０は部屋の隅の曲
面を有する隅柱３０Ｃとして形成されている。窓３３から入った電波が隅柱３０Ｃに反射
して室内空間Ｓのより広範囲に電波が届く。なお、図７（Ａ）、図７（Ｂ）は建築材料３
０の適用例を示すものであり、実際の電波の反射の範囲を示すものではない。また、電波
反射体１１は建築材料３０に限らず、樹脂などの非導電性材料からなる部材の内部に保持
されて任意の場所で使用されてもよい。
【0055】
（評価試験）
電波反射体１１として実施例１～３を作成し、この実施例１～３と比較例４～６とにつ
いて、景観担保性、死角への電波拡張性について評価試験を行なった。実施例１～３、比
較例４～６の条件および試験結果を表１に示す。ただし、本発明の電波反射体１１は、実
施例１～３に限定されない。
電波反射体１１として実施例１～３を作成し、この実施例１～３と比較例４～６とにつ
いて、景観担保性、死角への電波拡張性について評価試験を行なった。実施例１～３、比
較例４～６の条件および試験結果を表１に示す。ただし、本発明の電波反射体１１は、実
施例１～３に限定されない。
【0056】
（実施例１）
実施例１として作成した電波反射体１１は、図２、図３に示す実施形態と同様の構成を
有する電波反射体１１である。電波反射体１１は平面形状が正方形状であり、一辺の長さ
Ｌ１０を２０ｃｍ、電波反射体１１の厚みＬ１を０．２５ｍｍとした。なお、電波反射体
１１の厚みＬ１は、導電薄膜層１６の厚みＬ３、基材層１３の厚みＬ２、接着層１４の厚
みＬ４、保護層１５の厚みＬ５の合計となる。しかし、導電薄膜層１６の厚みＬ３は基材
層１３、接着層１４、保護層１５の各厚みＬ２、Ｌ４、Ｌ５に比べて非常に薄いため、電
波反射体１１の厚みＬ１に導電薄膜層１６の厚みＬ３は考慮されていない。電波反射体１
１は、３ＧＨｚ以上、３００ＧＨｚ以下の周波数の入射波が反射したときの電波の反射強
度の最大値（以下、「電波反射強度の最大値」ともいう。）が－２０ｄＢ、全光線透過率
が９０％である。基材層１３としてＰＥＴからなる合成樹脂材料シート（東レ社製、ルミ
ラー５０Ｔ６０）を用い、基材層１３の厚みＬ２を５０μｍとした。導電薄膜層１６の導
電体１２は銀（Ａｇ）からなる線状の金属薄膜であり、厚み（膜厚）Ｌ３を５００ｎｍ、
線幅Ｌ６を０．５μｍ、隣り合う導電体１２の間の長さＬ７を６０μｍとした。導電薄膜
層１６の表面抵抗値は１．７Ω／□、導電体被覆率は３．３％である。接着層１４として
、ゴム系接着剤を用いた。詳細には、接着層１４は、冷却管、窒素導入管、温度計、滴下
ロートおよび撹拌装置を備えた反応容器に、ゴム系ポリマー（スチレン－（エチレン－プ
ロピレン）－スチレン型ブロック共重合体５０質量％とスチレン－（エチレン－プロピレ
ン）型ブロック共重合体５０質量％との混合物、スチレン含有率１５％、重量平均分子量
１３万）１００重量部、合成樹脂（三井化学社製、ＦＭＲ－０１５０）４０重量部、軟化
剤（ＪＸ日鉱日石エネルギー社製、ＬＶ－１００）２０重量部、酸化防止剤（ＡＤＥＫＡ
社製、アデカスタブＡＯ－３３０）０．５重量部およびトルエン１５０重量部を仕込み、
４０℃で５時間撹拌したものである。接着層１４の厚みＬ４は１５０μｍとした。接着層
１４の誘導正接は０．０４である。保護層１５としてＰＥＴからなる合成樹脂製シート（
東レ社製、ルミラー５０T６０）を用いた。保護層１５の厚みＬ５を５０μｍとした。
実施例１として作成した電波反射体１１は、図２、図３に示す実施形態と同様の構成を
有する電波反射体１１である。電波反射体１１は平面形状が正方形状であり、一辺の長さ
Ｌ１０を２０ｃｍ、電波反射体１１の厚みＬ１を０．２５ｍｍとした。なお、電波反射体
１１の厚みＬ１は、導電薄膜層１６の厚みＬ３、基材層１３の厚みＬ２、接着層１４の厚
みＬ４、保護層１５の厚みＬ５の合計となる。しかし、導電薄膜層１６の厚みＬ３は基材
層１３、接着層１４、保護層１５の各厚みＬ２、Ｌ４、Ｌ５に比べて非常に薄いため、電
波反射体１１の厚みＬ１に導電薄膜層１６の厚みＬ３は考慮されていない。電波反射体１
１は、３ＧＨｚ以上、３００ＧＨｚ以下の周波数の入射波が反射したときの電波の反射強
度の最大値（以下、「電波反射強度の最大値」ともいう。）が－２０ｄＢ、全光線透過率
が９０％である。基材層１３としてＰＥＴからなる合成樹脂材料シート（東レ社製、ルミ
ラー５０Ｔ６０）を用い、基材層１３の厚みＬ２を５０μｍとした。導電薄膜層１６の導
電体１２は銀（Ａｇ）からなる線状の金属薄膜であり、厚み（膜厚）Ｌ３を５００ｎｍ、
線幅Ｌ６を０．５μｍ、隣り合う導電体１２の間の長さＬ７を６０μｍとした。導電薄膜
層１６の表面抵抗値は１．７Ω／□、導電体被覆率は３．３％である。接着層１４として
、ゴム系接着剤を用いた。詳細には、接着層１４は、冷却管、窒素導入管、温度計、滴下
ロートおよび撹拌装置を備えた反応容器に、ゴム系ポリマー（スチレン－（エチレン－プ
ロピレン）－スチレン型ブロック共重合体５０質量％とスチレン－（エチレン－プロピレ
ン）型ブロック共重合体５０質量％との混合物、スチレン含有率１５％、重量平均分子量
１３万）１００重量部、合成樹脂（三井化学社製、ＦＭＲ－０１５０）４０重量部、軟化
剤（ＪＸ日鉱日石エネルギー社製、ＬＶ－１００）２０重量部、酸化防止剤（ＡＤＥＫＡ
社製、アデカスタブＡＯ－３３０）０．５重量部およびトルエン１５０重量部を仕込み、
４０℃で５時間撹拌したものである。接着層１４の厚みＬ４は１５０μｍとした。接着層
１４の誘導正接は０．０４である。保護層１５としてＰＥＴからなる合成樹脂製シート（
東レ社製、ルミラー５０T６０）を用いた。保護層１５の厚みＬ５を５０μｍとした。
【0057】
実施例１の電波反射体１１の製造方法を説明する。まず、導電体１２の基材層１３への
形成を行なう。金属層として十分な強度を有する５～２００μｍの厚さの銅箔の一方の表
面に、０．０１～３μｍのコア層を電解または無電解めっきなどの方法によって形成する
。そして、コア層の表面に電解または無電解めっきなどの方法によって所定の配置パター
ンの導電薄膜層１６を形成する。次に、導電薄膜層１６の全部を基材層１３で覆う。基材
層１３には粘着剤があらかじめ塗布されている。そして、銅箔およびコア層をエッチング
除去する。これにより導電体１２が基材層１３上に形成される。
形成を行なう。金属層として十分な強度を有する５～２００μｍの厚さの銅箔の一方の表
面に、０．０１～３μｍのコア層を電解または無電解めっきなどの方法によって形成する
。そして、コア層の表面に電解または無電解めっきなどの方法によって所定の配置パター
ンの導電薄膜層１６を形成する。次に、導電薄膜層１６の全部を基材層１３で覆う。基材
層１３には粘着剤があらかじめ塗布されている。そして、銅箔およびコア層をエッチング
除去する。これにより導電体１２が基材層１３上に形成される。
【0058】
そして、接着層１４により保護層１５を導電体１２の基材層１３とは反対側に取付ける
。接着層１４を用いて、気泡が入らないよう保護層１５を基材層１３の導電体１２上に貼
付ける。これにより電波反射体１１が製造される。
。接着層１４を用いて、気泡が入らないよう保護層１５を基材層１３の導電体１２上に貼
付ける。これにより電波反射体１１が製造される。
【0059】
（実施例２）
実施例２として作成した電波反射体１１は、実施例１とは電波反射強度の最大値および
電波反射体１１の形状の一辺の長さＬ１０が異なっている。実施例２では、電波反射強度
の最大値は－２８ｄＢであり、一辺の長さＬ１０は１８ｃｍである。その他の構成は実施
例１と同様である。
実施例２として作成した電波反射体１１は、実施例１とは電波反射強度の最大値および
電波反射体１１の形状の一辺の長さＬ１０が異なっている。実施例２では、電波反射強度
の最大値は－２８ｄＢであり、一辺の長さＬ１０は１８ｃｍである。その他の構成は実施
例１と同様である。
【0060】
（実施例３）
実施例３として作成した電波反射体１１は、実施例１、２とは異なり図６に示す実施形
態と同様の構成を有する電波反射体１１である。電波反射体１１は正方形状であり、電波
反射体１１の厚みＬ１を０．０５ｍｍ、一辺の長さＬ１０を２０ｃｍとした。電波反射体
１１は、電波反射強度の最大値が－２８ｄＢ、全光線透過率が７０％である。基材層１３
としてＰＥＴからなる合成樹脂材料シート（東レ社製、ルミラー５０Ｔ６０）を用い、基
材層１３の厚みＬ２を５０μｍとした。導電薄膜層１６の導電体１２は銅からなる金属薄
膜であり、厚み（膜厚）Ｌ３を１０ｎｍとした。導電薄膜層１６の表面抵抗値は６．８Ω
／□、導電体被覆率は１００％である。
実施例３として作成した電波反射体１１は、実施例１、２とは異なり図６に示す実施形
態と同様の構成を有する電波反射体１１である。電波反射体１１は正方形状であり、電波
反射体１１の厚みＬ１を０．０５ｍｍ、一辺の長さＬ１０を２０ｃｍとした。電波反射体
１１は、電波反射強度の最大値が－２８ｄＢ、全光線透過率が７０％である。基材層１３
としてＰＥＴからなる合成樹脂材料シート（東レ社製、ルミラー５０Ｔ６０）を用い、基
材層１３の厚みＬ２を５０μｍとした。導電薄膜層１６の導電体１２は銅からなる金属薄
膜であり、厚み（膜厚）Ｌ３を１０ｎｍとした。導電薄膜層１６の表面抵抗値は６．８Ω
／□、導電体被覆率は１００％である。
【0061】
実施例３における導電体１２の基材層１３への形成は、例えば、ロールｔｏロール方式
のスパッタリング装置を用いている。スパッタリング装置の成膜室に備えられたカソード
に、金属（例えば銅）を含むターゲットを取り付ける。カソードに対して、５％カソード
が隠れる程度の大きさにアースシールドを設ける。スパッタリング装置の成膜室は、真空
ポンプにより排気され、例えば３．０×１０－４Ｐａまで減圧され、また、例えばアルゴ
ンガスが所定の流量（１００ｓｃｃｍ）で供給される。この状態で、基材層１３を例えば
搬送速度０．１ｍ／分、張力１００Nでカソード下に搬送する。カソードに接続されたバ
イポーラ電源から５ｋＷのパルス電力が供給されることで、ターゲットから金属が吐出さ
れて基材層１３の表面に堆積し、これにより金属薄膜が形成される。
のスパッタリング装置を用いている。スパッタリング装置の成膜室に備えられたカソード
に、金属（例えば銅）を含むターゲットを取り付ける。カソードに対して、５％カソード
が隠れる程度の大きさにアースシールドを設ける。スパッタリング装置の成膜室は、真空
ポンプにより排気され、例えば３．０×１０－４Ｐａまで減圧され、また、例えばアルゴ
ンガスが所定の流量（１００ｓｃｃｍ）で供給される。この状態で、基材層１３を例えば
搬送速度０．１ｍ／分、張力１００Nでカソード下に搬送する。カソードに接続されたバ
イポーラ電源から５ｋＷのパルス電力が供給されることで、ターゲットから金属が吐出さ
れて基材層１３の表面に堆積し、これにより金属薄膜が形成される。
【0062】
金属薄膜が所望の厚みで形成されたか否かの評価は例えば以下の手順により行なわれる
。例えば、ナノインデンター（ＨＹＳＩＴＲＯＮ社製、ＴＩ９５０）を用いて、所定の箇
所（本実施形態では約３０か所）に金属薄膜を貫通する圧痕を形成する。レーザー顕微鏡
（ＫＥＹＥＮＣＥ社製、ＶＫ－Ｘ１０００／１０５０）を用いて、圧痕による隙間から金
属薄膜の厚みを計測する。約３０か所の測定値から平均膜厚及び標準偏差を求め、平均膜
厚が所望の厚みＬ３であるか、及び測定値のばらつきが所望の範囲内（例えば、標準偏差
が５以内）であるかを評価する。
。例えば、ナノインデンター（ＨＹＳＩＴＲＯＮ社製、ＴＩ９５０）を用いて、所定の箇
所（本実施形態では約３０か所）に金属薄膜を貫通する圧痕を形成する。レーザー顕微鏡
（ＫＥＹＥＮＣＥ社製、ＶＫ－Ｘ１０００／１０５０）を用いて、圧痕による隙間から金
属薄膜の厚みを計測する。約３０か所の測定値から平均膜厚及び標準偏差を求め、平均膜
厚が所望の厚みＬ３であるか、及び測定値のばらつきが所望の範囲内（例えば、標準偏差
が５以内）であるかを評価する。
【0063】
（比較例４）
比較例４として作成した電波反射体は、実施例１とは以下の点において異なっている。
電波反射体の全光線透過率が６２％である。導電薄膜層１６の導電体１２は銅からなり、
線幅Ｌ６は５μｍ、導電薄膜層１６の表面抵抗値は１．１Ω／□、導電体被覆率は３０．
６％である。その他の構成はその他の構成は実施例１と同様である。
比較例４として作成した電波反射体は、実施例１とは以下の点において異なっている。
電波反射体の全光線透過率が６２％である。導電薄膜層１６の導電体１２は銅からなり、
線幅Ｌ６は５μｍ、導電薄膜層１６の表面抵抗値は１．１Ω／□、導電体被覆率は３０．
６％である。その他の構成はその他の構成は実施例１と同様である。
【0064】
（比較例５）
比較例５として作成した電波反射体は、実施例３とは以下の点において異なっている。
電波反射強度の最大値は、－２０ｄＢ、全光線透過率が６０％である。導電薄膜層１６は
、厚み（膜厚）Ｌ３を１５ｎｍとした。導電薄膜層１６の表面抵抗値は２．８Ω／□であ
る。その他の構成は実施例３と同様である。
比較例５として作成した電波反射体は、実施例３とは以下の点において異なっている。
電波反射強度の最大値は、－２０ｄＢ、全光線透過率が６０％である。導電薄膜層１６は
、厚み（膜厚）Ｌ３を１５ｎｍとした。導電薄膜層１６の表面抵抗値は２．８Ω／□であ
る。その他の構成は実施例３と同様である。
【0065】
（比較例６）
比較例６として作成した電波反射体は、実施例３とは以下の点において異なっている。
電波反射強度の最大値は－４０ｄＢ、全光線透過率が８０％である。導電薄膜層１６は、
厚み（膜厚）Ｌ３を２．５ｎｍとした。導電薄膜層１６の表面抵抗値は９．８Ω／□であ
る。その他の構成は実施例３と同様である。
比較例６として作成した電波反射体は、実施例３とは以下の点において異なっている。
電波反射強度の最大値は－４０ｄＢ、全光線透過率が８０％である。導電薄膜層１６は、
厚み（膜厚）Ｌ３を２．５ｎｍとした。導電薄膜層１６の表面抵抗値は９．８Ω／□であ
る。その他の構成は実施例３と同様である。
【0066】
【表1】
【0067】
（反射強度、全光線透過率、表面抵抗値の測定方法）
測定対象物である実施例１～３、比較例５～６（まとめて「試料」とも言う。）の反射
波の強度と反射強度が―３０ｄＢ以上となる周波数の測定は、ＪＩＳＲ１６７９：２００
７に記載された反射量の測定方法に沿って行った。ベクトルネットワークアナライザ（ア
ジレント社製E5061B LF-RF）を用い、受信アンテナとして矩形ホーンアンテナを用いた。
試料と受信アンテナと送信アンテナとは同一平面上に配置し、試料と受信アンテナとの間
の距離および試料と送信アンテナとの間の距離は１ｍとした。試料に対する電波の入射角
θ１、反射角θ２を４５度に設定した。送信アンテナから、周波数を３ＧＨｚから３００
ＧＨｚまで変化させた電波（３ＧＨｚの電波、５ＧＨｚの電波、３０ＧＨｚ以上は３０Ｇ
Ｈｚ刻みに３００ＧＨｚまで（すなわち、３０、６０、９０、１２０・・・３００ＧＨｚ
）の電波）を出力し、各周波数の電波に対する反射強度を測定した。この時、ベクトルネ
ットワークアナライザにて受信アンテナと送信アンテナの同軸ケーブルを直結し、各周波
数における信号レベルを０として校正する。その後再度装置を構成し、測定を行う。試料
の各周波数における反射強度は、０点からの信号レベルの減衰量として測定する。なお電
波の周波数が１０ＧＨｚ以下の場合においては、矩形ホーンアンテナの第一フレネル半径
を考慮し、適宜ミリ波レンズを用いて試料に平面波を照射した。
測定対象物である実施例１～３、比較例５～６（まとめて「試料」とも言う。）の反射
波の強度と反射強度が―３０ｄＢ以上となる周波数の測定は、ＪＩＳＲ１６７９：２００
７に記載された反射量の測定方法に沿って行った。ベクトルネットワークアナライザ（ア
ジレント社製E5061B LF-RF）を用い、受信アンテナとして矩形ホーンアンテナを用いた。
試料と受信アンテナと送信アンテナとは同一平面上に配置し、試料と受信アンテナとの間
の距離および試料と送信アンテナとの間の距離は１ｍとした。試料に対する電波の入射角
θ１、反射角θ２を４５度に設定した。送信アンテナから、周波数を３ＧＨｚから３００
ＧＨｚまで変化させた電波（３ＧＨｚの電波、５ＧＨｚの電波、３０ＧＨｚ以上は３０Ｇ
Ｈｚ刻みに３００ＧＨｚまで（すなわち、３０、６０、９０、１２０・・・３００ＧＨｚ
）の電波）を出力し、各周波数の電波に対する反射強度を測定した。この時、ベクトルネ
ットワークアナライザにて受信アンテナと送信アンテナの同軸ケーブルを直結し、各周波
数における信号レベルを０として校正する。その後再度装置を構成し、測定を行う。試料
の各周波数における反射強度は、０点からの信号レベルの減衰量として測定する。なお電
波の周波数が１０ＧＨｚ以下の場合においては、矩形ホーンアンテナの第一フレネル半径
を考慮し、適宜ミリ波レンズを用いて試料に平面波を照射した。
【0068】
全光線透過率は、Ｄ６５標準光源（ＣＩＥ（国際照明委員会）が規定する標準光源の一
つ）においてＪＩＳＫ ７３７５：２００８に規定された方法に準拠して測定した。
つ）においてＪＩＳＫ ７３７５：２００８に規定された方法に準拠して測定した。
【0069】
表面抵抗値は、実施例１～３、比較例４～６の製造時に導電薄膜層１６が形成されて露
出している状態で、導電薄膜層１６の表面に測定端子を接触させて、ＪＩＳＫ７１９４：
１９９４に規定された四端子法に準拠して測定した。
出している状態で、導電薄膜層１６の表面に測定端子を接触させて、ＪＩＳＫ７１９４：
１９９４に規定された四端子法に準拠して測定した。
【0070】
（評価指標）
景観担保性、死角への電波拡張性の２つの評価指標を設定した。景観担保性は電波反射
体１１の透明性および導電薄膜層１６の導電体１２の配置パターンが視認される度合いを
評価する指標である。透明性は、文字が書かれた紙の上に電波反射体１１を載置し、電波
反射体１１の上側から電波反射体１１を目視した場合に、文字が視認できるか否かを評価
する。また、導電薄膜層１６の導電体１２の配置パターンが視認される度合いは、以下の
ように評価される。電波反射体１１から０．５ｍ離れた位置に光源を配置して光線を電波
反射体１１に照射する。電波反射体１１を挟んで光源とは反対側であって、電波反射体１
１から０．５ｍ離れた位置において、目視で電波反射体１１を観察し、導電体１２の配置
パターンが視認されるか否かを評価する。文字を視認可能であり、かつ、光源としてＬＥ
Ｄ（Light Emitting Diode）、蛍光灯及び白熱球いずれからの光線を照射した場合にお
いても、目視で導電体１２の配置パターンが視認されない場合を「◎」と評価し、文字を
視認可能であり、かつ、ＬＥＤからの光線を照射した場合には目視で導電体１２の配置パ
ターンが視認されるが、蛍光灯からの光線を照射した場合には目視で導電体１２の配置パ
ターンが視認されない場合を「〇」と評価し、文字を視認できないか、光源としてＬＥＤ
、蛍光灯からの光線を照射し、いずれの光線でも目視で導電体１２の配置パターンが視認
される場合を「×」と評価した。
景観担保性、死角への電波拡張性の２つの評価指標を設定した。景観担保性は電波反射
体１１の透明性および導電薄膜層１６の導電体１２の配置パターンが視認される度合いを
評価する指標である。透明性は、文字が書かれた紙の上に電波反射体１１を載置し、電波
反射体１１の上側から電波反射体１１を目視した場合に、文字が視認できるか否かを評価
する。また、導電薄膜層１６の導電体１２の配置パターンが視認される度合いは、以下の
ように評価される。電波反射体１１から０．５ｍ離れた位置に光源を配置して光線を電波
反射体１１に照射する。電波反射体１１を挟んで光源とは反対側であって、電波反射体１
１から０．５ｍ離れた位置において、目視で電波反射体１１を観察し、導電体１２の配置
パターンが視認されるか否かを評価する。文字を視認可能であり、かつ、光源としてＬＥ
Ｄ（Light Emitting Diode）、蛍光灯及び白熱球いずれからの光線を照射した場合にお
いても、目視で導電体１２の配置パターンが視認されない場合を「◎」と評価し、文字を
視認可能であり、かつ、ＬＥＤからの光線を照射した場合には目視で導電体１２の配置パ
ターンが視認されるが、蛍光灯からの光線を照射した場合には目視で導電体１２の配置パ
ターンが視認されない場合を「〇」と評価し、文字を視認できないか、光源としてＬＥＤ
、蛍光灯からの光線を照射し、いずれの光線でも目視で導電体１２の配置パターンが視認
される場合を「×」と評価した。
【0071】
死角への電波拡張性は、死角のある建物内において、電波反射体１１により反射された
反射波を受信部２１により十分に受信可能であるか否かを評価する指標である。図８に示
すように、鉄筋コンクリート製の建物内の廊下４０と、廊下４０の延在する方向に直交す
る方向に突出する階段踊場４１とを用いて試験を行った。階段踊場４１は、平面形状が長
方形状であって、廊下４０の側壁４２の開口部４３に連続して設けられており、廊下４０
の幅Ｌ２０は約２ｍ、廊下４０の延在する方向に沿った開口部４３の長さ、すなわち階段
踊場４１の廊下４０の延在する方向に沿う長さＬ２１は約３ｍであり、階段踊場４１の奥
行き（開口部４３から開口部４３に対向する壁までの長さ）Ｌ２２は約２ｍである。
反射波を受信部２１により十分に受信可能であるか否かを評価する指標である。図８に示
すように、鉄筋コンクリート製の建物内の廊下４０と、廊下４０の延在する方向に直交す
る方向に突出する階段踊場４１とを用いて試験を行った。階段踊場４１は、平面形状が長
方形状であって、廊下４０の側壁４２の開口部４３に連続して設けられており、廊下４０
の幅Ｌ２０は約２ｍ、廊下４０の延在する方向に沿った開口部４３の長さ、すなわち階段
踊場４１の廊下４０の延在する方向に沿う長さＬ２１は約３ｍであり、階段踊場４１の奥
行き（開口部４３から開口部４３に対向する壁までの長さ）Ｌ２２は約２ｍである。
【0072】
電波反射体１１は、その重心点が、平面視において、廊下４０の幅方向の中央であって
、側壁４２の開口部４３の廊下４０の延在する方向の中央に位置するように設置される。
電波反射体１１は電波が入射する面が廊下４０の床面に対して垂直になるように立てて設
置される。電波発生源である送信アンテナ４４は、平面視において、電波反射体１１から
距離Ｌ２３離れた廊下４０の幅方向の中央に設置され、距離Ｌ２３は５ｍに設定される。
送信アンテナ４４からの電波を受信する受信アンテナ４５は、平面視において階段踊場４
１の中央に設置される。送信アンテナ４４、受信アンテナ４５、電波反射体１１は、送信
アンテナ４４の重心点と、受信アンテナ４５の重心点と、電波反射体１１の重心点とを含
む平面が、廊下４０の床面に平行となるようにレーザー水準器を用いて設置される。床面
と前記平面との間の距離は１．０ｍである。電波反射体１１の電波が入射する面の向きは
、電波反射体１１への電波の入射角θ１、反射角θ２が４５度となる向きである。
、側壁４２の開口部４３の廊下４０の延在する方向の中央に位置するように設置される。
電波反射体１１は電波が入射する面が廊下４０の床面に対して垂直になるように立てて設
置される。電波発生源である送信アンテナ４４は、平面視において、電波反射体１１から
距離Ｌ２３離れた廊下４０の幅方向の中央に設置され、距離Ｌ２３は５ｍに設定される。
送信アンテナ４４からの電波を受信する受信アンテナ４５は、平面視において階段踊場４
１の中央に設置される。送信アンテナ４４、受信アンテナ４５、電波反射体１１は、送信
アンテナ４４の重心点と、受信アンテナ４５の重心点と、電波反射体１１の重心点とを含
む平面が、廊下４０の床面に平行となるようにレーザー水準器を用いて設置される。床面
と前記平面との間の距離は１．０ｍである。電波反射体１１の電波が入射する面の向きは
、電波反射体１１への電波の入射角θ１、反射角θ２が４５度となる向きである。
【0073】
送信アンテナ４４から２８．５ＧＨｚの周波数の電波を出力し、測定を行った。この時
、ベクトルネットワークアナライザにて受信アンテナ４５と送信アンテナ４４の同軸ケー
ブルを直結し、信号レベルを０として校正する。その後再度装置を構成し、測定を行った
。送信アンテナ４４から電波を出力し、電波反射体１１で反射させ、受信アンテナ４５で
受信する。受信アンテナ４５で受信した電波の反射強度を０点からの信号レベルの減衰量
として測定し、強度が－２５ｄＢ以上の場合を「◎」と評価し、－３０ｄＢ以上の場合を
「〇」と評価し、－３０ｄＢ未満の場合を「×」と評価した。「◎」、「〇」の評価は、
電波の反射強度が使用に実用的な強度であることを意味する。
、ベクトルネットワークアナライザにて受信アンテナ４５と送信アンテナ４４の同軸ケー
ブルを直結し、信号レベルを０として校正する。その後再度装置を構成し、測定を行った
。送信アンテナ４４から電波を出力し、電波反射体１１で反射させ、受信アンテナ４５で
受信する。受信アンテナ４５で受信した電波の反射強度を０点からの信号レベルの減衰量
として測定し、強度が－２５ｄＢ以上の場合を「◎」と評価し、－３０ｄＢ以上の場合を
「〇」と評価し、－３０ｄＢ未満の場合を「×」と評価した。「◎」、「〇」の評価は、
電波の反射強度が使用に実用的な強度であることを意味する。
【0074】
（試験結果）
表１に試験結果を示す。実施例１は、全光線透過率が９０％と高く、文字が視認可能で
、導電体１２の配置パターンが視認されず、景観担保性が「◎」の評価であり、また、死
角への電波拡張性の試験において、受信部２１で受信した電波の反射強度が－２５ｄＢ以
上であり「◎」の評価であった。一方、実施例１、２と同様の構造を有する比較例４は、
導電体の材料が銅であり導電体被覆率が実施例１よりも高く、全光線透過率が６２％と実
施例１よりも低くなるため、死角への電波拡張性は「◎」の評価であるものの景観担保性
が「×」の評価であり、景観担保性において実施例１は比較例４よりも良好であった。
表１に試験結果を示す。実施例１は、全光線透過率が９０％と高く、文字が視認可能で
、導電体１２の配置パターンが視認されず、景観担保性が「◎」の評価であり、また、死
角への電波拡張性の試験において、受信部２１で受信した電波の反射強度が－２５ｄＢ以
上であり「◎」の評価であった。一方、実施例１、２と同様の構造を有する比較例４は、
導電体の材料が銅であり導電体被覆率が実施例１よりも高く、全光線透過率が６２％と実
施例１よりも低くなるため、死角への電波拡張性は「◎」の評価であるものの景観担保性
が「×」の評価であり、景観担保性において実施例１は比較例４よりも良好であった。
【0075】
実施例２は、実施例１と比較して電波反射体１１の一辺の長さＬ１０が短く設定されて
いるが、全光線透過率が９０％と高く、文字が視認可能で、導電体１２の配置パターンが
視認されず、景観担保性が「◎」の評価であった。死角への電波拡張性の試験において、
実施例２は、電波の反射強度が－３０ｄＢ以上であり「○」の評価であった。一方、比較
例４においては上述のように景観担保性が「×」の評価であり、景観担保性において実施
例２は比較例４よりも良好であった。
いるが、全光線透過率が９０％と高く、文字が視認可能で、導電体１２の配置パターンが
視認されず、景観担保性が「◎」の評価であった。死角への電波拡張性の試験において、
実施例２は、電波の反射強度が－３０ｄＢ以上であり「○」の評価であった。一方、比較
例４においては上述のように景観担保性が「×」の評価であり、景観担保性において実施
例２は比較例４よりも良好であった。
【0076】
実施例３は、導電薄膜層１６の厚みが小さく全光線透過率が７０％と高く、景観担保性
が「○」の評価であり、また、死角への電波拡張性において、電波の反射強度が－３０ｄ
Ｂ以上であり「○」の評価であった。一方、実施例３と同様の構造を有する比較例５は、
導電薄膜層１６の厚みが実施例３よりも大きく、全光線透過率が６０％となり、死角への
電波拡張性は「◎」の評価であるものの、景観担保性が「×」の評価であった。また実施
例３と同様の構造を有する比較例６は、導電薄膜層１６の厚みが実施例３よりも小さく、
景観担保性が「○」の評価であるものの、電波反射強度は小さく死角への電波拡張性は「
×」の評価であった。
が「○」の評価であり、また、死角への電波拡張性において、電波の反射強度が－３０ｄ
Ｂ以上であり「○」の評価であった。一方、実施例３と同様の構造を有する比較例５は、
導電薄膜層１６の厚みが実施例３よりも大きく、全光線透過率が６０％となり、死角への
電波拡張性は「◎」の評価であるものの、景観担保性が「×」の評価であった。また実施
例３と同様の構造を有する比較例６は、導電薄膜層１６の厚みが実施例３よりも小さく、
景観担保性が「○」の評価であるものの、電波反射強度は小さく死角への電波拡張性は「
×」の評価であった。
【0077】
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるも
のではなく、本発明の趣旨を逸脱しない限りにおいて種々の変更が可能である。実施形態
として記載され又は図面に示されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等
は、本発明の範囲をこれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。
のではなく、本発明の趣旨を逸脱しない限りにおいて種々の変更が可能である。実施形態
として記載され又は図面に示されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等
は、本発明の範囲をこれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。
【符号の説明】
【0078】
１１ 電波反射体
１２ 導電体
１３ 基材層
１４ 接着層
１５ 保護層
１６ 導電薄膜層
Ｌ６ 導電体の線幅
Ｌ１０ 電波波反射体の１辺の長さ
１２ 導電体
１３ 基材層
１４ 接着層
１５ 保護層
１６ 導電薄膜層
Ｌ６ 導電体の線幅
Ｌ１０ 電波波反射体の１辺の長さ
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【手続補正書】
【提出日】2023-03-06
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
電波を反射させるための導電体を含む電波反射体であって、 ＪＩＳＲ１６７９：２００７に記載された測定方法に沿って測定した場合に、３ＧＨｚ以上、３００ＧＨｚ以下の周波数の入射波が正規反射したときの反射波の強度が、前記入射波に対して－３０ｄＢ以上になる周波数が少なくとも１つ存在し、
Ｄ６５標準光源における全光線透過率が６５％以上である、電波反射体。
Ｄ６５標準光源における全光線透過率が６５％以上である、電波反射体。
【請求項2】
前記導電体を含む導電薄膜層と、前記導電薄膜層を保持する基材を含む基材層と、前記導電薄膜層を保護するための保護材を含む保護層と、前記導電薄膜層と前記保護材を含む層とを接着するための接着材を含む接着層とを有し、
前記基材層、前記導電薄膜層、前記接着層、前記保護層の順に積層されている、請求項１に記載の電波反射体。
前記基材層、前記導電薄膜層、前記接着層、前記保護層の順に積層されている、請求項１に記載の電波反射体。
【請求項3】
前記導電薄膜層は、表面抵抗値が３．５Ω／□以下であり、厚みが３００ｎｍ以下である、請求項２に記載の電波反射体。
【請求項4】
前記導電薄膜層は、１または複数の線状の前記導電体により囲まれた導電体の無い領域が、所定の間隔を空けて周期的に配置されている、請求項２または３に記載の電波反射体。
【請求項5】
前記導電薄膜層において、単位面積当たりの前記導電体が占める面積の割合として規定される導電体被覆率が１％以上、１０％以下である、請求項４記載の電波反射体。
【請求項6】
前記導電体の線幅は、０．１μｍ以上、４．０μｍ以下である、請求項４又は５に記載の電波反射体。
【請求項7】
全体の形状が、１辺の長さが２０ｃｍ以上の多角形である、請求項１～６のいずれか１項に記載の電波反射体。
【請求項8】
前記入射波の入射方向と前記反射波の反射方向とを含む仮想の平面において、前記反射波の受信角度位置を、正規反射方向に対して－１５度以上、＋１５度以下の角度範囲で変化させた時の、前記各受信角度位置における前記反射波の強度の分布の尖度が－０．４以下となる周波数が少なくとも一つ存在する、請求項１～７のいずれか１項記載の電波反射体。
【請求項9】
前記接着層は合成樹脂材料からなり、誘電正接が０．０１８以下である請求項２に記載の電波反射体。
【請求項10】
前記合成樹脂材料は、電場の周波数に応じて比誘電率が変化する、請求項９に記載の電波反射体。