特開 2024-131696 ウェーハ収納容器洗浄装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024131696

(43)【公開日】2024-09-30

(54)【発明の名称】ウェーハ収納容器洗浄装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/304 20060101AFI20240920BHJP

   H01L 21/683 20060101ALI20240920BHJP

【ＦＩ】

H01L21/304 648E

H01L21/68 N

【審査請求】未請求

【請求項の数】6

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023042116

(22)【出願日】2023-03-16

(71)【出願人】

【識別番号】000002428

【氏名又は名称】芝浦メカトロニクス株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001771

【氏名又は名称】弁理士法人虎ノ門知的財産事務所

(72)【発明者】

【氏名】石原 淳司

(72)【発明者】

【氏名】宮迫 久顕

(72)【発明者】

【氏名】西部 幸伸

【テーマコード（参考）】

5F131

5F157

【Ｆターム（参考）】

5F131BA37

5F131CA12

5F131DA05

5F131DA22

5F131DB52

5F131DB72

5F131DB76

5F131EA06

5F131EC22

5F131GA14

5F131GA15

5F131GA27

5F131GA73

5F131GA76

5F131HA42

5F131HA44

5F157BB23

5F157BB24

5F157BB37

5F157CC21

5F157DC90

(57)【要約】      （修正有）

【課題】洗浄槽で洗浄されるウェーハ収納容器の汚染を抑制するウェーハ収納容器洗浄装置を提供する。
【解決手段】ウェーハ収納容器洗浄装置は、上面に開口部を有し、ウェーハ収納容器２０を内部に収容可能な洗浄槽本体５ａと、洗浄槽本体５ａの開口部を開閉する蓋部５ｂと、シェル２０ａのシェル開口部を下方に向けた状態でシェル２０ａを載置可能な載置部５ｃと、シェル載置状態において、シェル２０ａの内面に洗浄液を吐出する第１の洗浄液吐出部５ｄと、シェル２０ａの外側に設けられ、シェル２０ａの外面に洗浄液を吐出する第２の洗浄液吐出部５ｅと、を備える。第１の洗浄液吐出部５ｄの水平方向に洗浄液を吐出するノズル５ｍの吐出口及び第２の洗浄液吐出部５ｅのノズル５ｏの吐出口は、載置部５ｃにシェル２０ａが載置されていない状態であるシェル非載置状態において、一方の吐出口から他方の吐出口に向かって互いに洗浄液を吐出可能に対向している。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

シェル開口部を有するシェル、及び、前記シェル開口部に装着されるドアを有するウェーハ収納容器を洗浄するウェーハ収納容器洗浄装置であって、
上面に開口部を有し、前記ウェーハ収納容器を内部に収容可能な容器である洗浄槽本体と、
前記洗浄槽本体の前記開口部側に設けられ、前記洗浄槽本体の前記開口部を開閉する蓋部と、
前記洗浄槽本体の内部に設けられ、前記シェルの前記シェル開口部を下方に向けた状態で前記シェルを載置可能な載置部と、
前記載置部により前記シェルが載置された状態であるシェル載置状態において前記シェルの内部に設けられ、前記シェルの内面に洗浄液を吐出する第１の洗浄液吐出部と、
前記シェル載置状態において前記シェルの外側に設けられ、前記シェルの外面に洗浄液を吐出する第２の洗浄液吐出部と、
を備え、
前記第１の洗浄液吐出部の吐出口及び前記第２の洗浄液吐出部の吐出口は、前記載置部により前記シェルが載置されていない状態であるシェル非載置状態において、一方の吐出口から他方の吐出口に向かって互いに洗浄液を吐出可能に対向している、ウェーハ収納容器洗浄装置。

【請求項2】

前記蓋部は、前記ドアを保持する保持機構を有し、
前記シェル載置状態であり、かつ、前記保持機構により前記ドアが保持された状態であるドア保持状態である場合において、前記シェルの外面のうち上面及び前記ドアにおける前記シェルの上面と対向するドア内面に洗浄液を吐出する第３の洗浄液吐出部を更に備え、
前記第１の洗浄液吐出部の吐出口及び前記第３の洗浄液吐出部の吐出口は、前記シェル非載置状態、かつ、前記保持機構により前記ドアが保持されていない状態であるドア非保持状態において、一方の吐出口から他方の吐出口に向かって互いに洗浄液を吐出可能に対向している、請求項１に記載のウェーハ収納容器洗浄装置。

【請求項3】

前記第１の洗浄液吐出部及び前記第２の洗浄液吐出部を制御する制御部を更に備え、
前記制御部は、前記シェル非載置状態において、前記第１の洗浄液吐出部に対して洗浄液を吐出するように前記第２の洗浄液吐出部を制御する、請求項１に記載のウェーハ収納容器洗浄装置。

【請求項4】

前記制御部は、前記第１の洗浄液吐出部に対して洗浄液を吐出するように前記第２の洗浄液吐出部を制御する前に、前記第２の洗浄液吐出部に対して洗浄液を吐出するように前記第１の洗浄液吐出部を制御する、請求項３に記載のウェーハ収納容器洗浄装置。

【請求項5】

前記第１の洗浄液吐出部、前記第２の洗浄液吐出部及び前記第３の洗浄液吐出部を制御する制御部を更に備え、
前記制御部は、前記シェル非載置状態、かつ、前記ドア非保持状態において、前記第１の洗浄液吐出部に対して洗浄液を吐出するように前記第２の洗浄液吐出部及び前記第３の洗浄液吐出部を制御する、請求項２に記載のウェーハ収納容器洗浄装置。

【請求項6】

前記制御部は、前記第１の洗浄液吐出部に対して洗浄液を吐出するように前記第２の洗浄液吐出部及び前記第３の洗浄液吐出部を制御する前に、前記第２の洗浄液吐出部及び前記第３の洗浄液吐出部に対して洗浄液を吐出するように前記第１の洗浄液吐出部を制御する、請求項５に記載のウェーハ収納容器洗浄装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明の実施形態は、ウェーハ収納容器洗浄装置に関する。

【背景技術】

【0002】

ウェーハ（半導体ウェーハ）を収容するＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）やＦＯＳＢ（Front Opening Shipping Box）等のウェーハ収納容器がある。例えば、ＦＯＵＰは、開口部を有するシェルと、開口部に装着されるドアとを備える。シェルの内部には、複数のウェーハを保持するために複数の棚が形成されている。

【0003】

ところで、半導体素子は、様々な工程を経てウェーハ上に形成される。ウェーハは、工程間を移動する際にウェーハ収納容器内に収容された状態で搬送される。複数の工程で繰り返しウェーハ収納容器が使用されると、ウェーハ収納容器内部（例えばシェル内部）には、パーティクルや化学的な汚染物質が付着することがある。それらの汚染物質がウェーハ収納容器内に収容されているウェーハに再付着すると、結果として半導体素子の歩留まりが低くなる。このため、何度かウェーハ収納容器の使用が繰り返されたら、ウェーハ収納容器を洗浄して清浄な状態に復帰させることが必要である。

【0004】

例えば、ＦＯＵＰを洗浄する技術としては、シェル及びドアを一つの洗浄槽内に収容し、シェル及びドアに対して洗浄及び乾燥を行う装置が提案されている。洗浄及び乾燥済みのシェル及びドアは、洗浄及び乾燥後に洗浄槽内から搬出され、次のシェル及びドアが洗浄槽内に搬入される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２００５－１０９５２３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

上述したように、ウェーハ収納容器内部には、汚染物質が付着している。そのため、ウェーハ収納容器内部を洗浄しているときに、ウェーハ収納容器内部に洗浄液を供給する洗浄液供給部に汚染物質が付着してしまうおそれがある。洗浄液供給部に汚染物質が付着したまま次のウェーハ収納容器を洗浄すると、洗浄液供給部に付着していた汚染物質がそのウェーハ収納容器に付着し、ウェーハ収納容器を汚染してしまうおそれがある。

【0007】

本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、その目的は、ウェーハ収納容器の汚染を抑制することができるウェーハ収納容器洗浄装置を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0008】

上述した課題を解決し、目的を達成するため、本発明の一態様に係るウェーハ収納容器洗浄装置は、シェル開口部を有するシェル、及び、前記シェル開口部に装着されるドアを有するウェーハ収納容器を洗浄するウェーハ収納容器洗浄装置であって、上面に開口部を有し、前記ウェーハ収納容器を内部に収容可能な容器である洗浄槽本体と、前記洗浄槽本体の前記開口部側に設けられ、前記洗浄槽本体の前記開口部を開閉する蓋部と、前記洗浄槽本体の内部に設けられ、前記シェルの前記シェル開口部を下方に向けた状態で前記シェルを載置可能な載置部と、前記載置部により前記シェルが載置された状態であるシェル載置状態において前記シェルの内部に設けられ、前記シェルの内面に洗浄液を吐出する第１の洗浄液吐出部と、前記シェル載置状態において前記シェルの外側に設けられ、前記シェルの外面に洗浄液を吐出する第２の洗浄液吐出部と、を備え、前記第１の洗浄液吐出部の吐出口及び前記第２の洗浄液吐出部の吐出口は、前記載置部により前記シェルが載置されていない状態であるシェル非載置状態において、一方の吐出口から他方の吐出口に向かって互いに洗浄液を吐出可能に対向している。

【発明の効果】

【0009】

本発明の一態様によれば、ウェーハ収納容器の汚染を抑制することができるウェーハ収納容器洗浄装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】図１は、実施形態に係るウェーハ収納容器洗浄装置の概略構成の一例を示す平面図である。

【図2】図２は、実施形態に係る洗浄槽５の構成の一例を模式的に示す図である。

【図3A】図３Ａは、実施形態に係るシェルの搬出時、搬入時及び乾燥時の第３の洗浄液供給部の位置の一例を説明するための図である。

【図3B】図３Ｂは、実施形態に係るシェルの洗浄時の第３の洗浄液供給部の位置の一例を説明するための図である。

【図4】図４は、第１の実施形態に係る制御部の構成の一例を示す図である。

【図5】図５は、実施形態に係るウェーハ収納容器洗浄装置が実行する洗浄槽５における自己洗浄処理の流れを示すフローチャートである。

【発明を実施するための形態】

【0011】

以下、添付図面を参照して、本願の開示するウェーハ収納容器洗浄装置の実施形態を詳細に説明する。なお、本願の開示するウェーハ収納容器洗浄装置は、以下の実施形態により限定されるものではない。また、各実施形態及び各変形例は、矛盾が生じない範囲で適宜組み合わせることができる。なお、以下の実施形態では、洗浄対象のウェーハ収納容器が、ＦＯＵＰである場合を挙げて説明するが、洗浄対象のウェーハ収納容器はこれに限られない。例えば、洗浄対象のウェーハ収納容器は、ＦＯＳＢであってもよい。

【0012】

（実施形態）
図１は、実施形態に係るウェーハ収納容器洗浄装置１の概略構成の一例を示す平面図である。ウェーハ収納容器洗浄装置１は、例えば、半導体ウェーハを製造する工場内に設けられ、ウェーハ収納容器を洗浄する。図１に示すように、ウェーハ収納容器洗浄装置１は、ロードポート２、ロボット３、分解／連結ステージ４、洗浄槽５、真空槽６、アンロードポート７及び制御部８を備える。

【0013】

ロボット３、分解／連結ステージ４、洗浄槽５、真空槽６及び制御部８は、ウェーハ収納容器洗浄装置１のケーシング１ａの内部に設けられている。一方、ロードポート２及びアンロードポート７は、ウェーハ収納容器洗浄装置１のケーシング１ａの内部及び外部に跨って設けられている。

【0014】

ロードポート２は、ロードポート２のケーシング１ａの外部の部分に載置された、洗浄対象となるＦＯＵＰ２０をケーシング１ａの内部に搬入する。ＦＯＵＰ２０は、シェル（ＦＯＵＰ本体）２０ａとドア（蓋）２０ｂとを備える。シェル２０ａは、開口部（シェル開口部）と、半導体ウェーハを収納する収納空間とを有する。収納空間は、シェル開口部よりも内側に存在し、シェル開口部に連通する。ドア２０ｂは、シェル２０ａと分解／連結が可能であり、シェル２０ａと連結した際にはシェル開口部に対して開閉可能な状態で装着される。また、シェル２０ａにはフランジ２０ｃが設けられている。フランジ２０ｃは、ＦＯＵＰ２０がＯＨＴ（Overhead Hoist Transport）やロボット３等により搬送される際に把持（保持）される部分である。

【0015】

例えば、ロードポート２のケーシング１ａの外部の部分には、ＯＨＴによりフランジ２０ｃが把持された状態で搬送されたＦＯＵＰ２０が載置される。例えば、図１に示すように、ＦＯＵＰ２０のドア２０ｂが、ケーシング１ａの開口部１ｂに設けられたシャッター２ａに対向するように、ＦＯＵＰ２０が載置される。このようにしてロードポート２にＦＯＵＰ２０が載置されると、シャッター２ａが上昇する。これにより、開口部１ｂからＦＯＵＰ２０がケーシング１ａの内部に搬入可能な状態となる。すなわち、ＦＯＵＰ２０がウェーハ収納容器洗浄装置１の内部に搬入可能な状態となる。そして、ロードポート２のスライド装置によりＦＯＵＰ２０が、矢印２ｂの方向にスライドされる。これにより、ＦＯＵＰ２０がケーシング１ａの内部に搬入される。スライド装置によるスライドについて説明する。例えば、スライド装置に備えられたピンが、ＦＯＵＰ２０の底部（載置面）に設けられた孔部に挿入されることによりＦＯＵＰ２０の載置面がスライド装置に固定される。この状態で、スライド装置が矢印２ｂの方向へスライドされることによりＦＯＵＰ２０も伴ってスライドされる。これにより、ＦＯＵＰ２０は、ロードポート２のケーシング１ａの内部の所定の部分上に載置された状態となる。このようにしてＦＯＵＰ２０がケーシング１ａの内部に搬入されると、シャッター２ａが下降して、ケーシング１ａの開口部１ｂが閉じられる。スライド装置はピンとともにシャッター２ａの下端（ＦＯＵＰ２０の載置面）よりも低い位置まで降下し、ケーシング１ａの外部の元の位置へ戻る。

【0016】

ロボット３は、ＦＯＵＰ２０のフランジ２０ｃを把持した状態でＦＯＵＰ２０を各部へ搬送する。ロボット３は、ロボットアーム３ａ及びロボットハンド３ｂを備えている。ロボット３は、ロボットハンド３ｂにフランジ２０ｃを把持させた状態で、ロボットアーム３ａを伸縮させたり回転移動させたりすることで、ＦＯＵＰ２０を各部へ搬送する。

【0017】

分解／連結ステージ４は、ＦＯＵＰ２０をシェル２０ａとドア２０ｂとに分解したり、シェル２０ａとドア２０ｂとを連結したりする。分解／連結ステージ４上にはラッチキー４ａが設けられている。このラッチキー４ａがＦＯＵＰ２０のドア２０ｂに形成されたキー穴に挿入された状態で回転することで、ＦＯＵＰ２０がシェル２０ａとドア２０ｂとに分解（分離）されたり、シェル２０ａとドア２０ｂとが連結されたりする。例えば、分解／連結ステージ４には、ケーシング１ａの内部に搬入されたＦＯＵＰ２０がロボット３により搬送される。この場合、分解／連結ステージ４は、ＦＯＵＰ２０をシェル２０ａとドア２０ｂとに分解する。なお、分解は、アンロックと言い換えることができ、連結は、ロックと言い換えることができる。

【0018】

洗浄槽５は、ＦＯＵＰ２０を洗浄する槽である。洗浄槽５は、洗浄部の一例である。図２は、実施形態に係る洗浄槽５の構成の一例を模式的に示す図である。図２に示すように、例えば、洗浄槽５は、洗浄槽本体５ａと、蓋部５ｂと、載置部５ｃと、第１の洗浄液供給部（第１の洗浄液吐出部）５ｄと、第２の洗浄液供給部（第２の洗浄液吐出部）５ｅと、乾燥部５ｆと、第１の排出部５ｇと、第２の排出部５ｈと、第３の洗浄液供給部（第３の洗浄液吐出部）５ｐと、固定部５ｓと、中空部５ｔとを備える。

【0019】

洗浄槽本体５ａは、ＦＯＵＰ２０を内部に収容可能な容器である。洗浄槽本体５ａは、上方に開口部（本体開口部）を有するとともに、本体開口部に連通する洗浄空間を有する。洗浄空間は、本体開口部よりも内部に存在する空間である。ロボット３により、シェル２０ａが、本体開口部を経由して洗浄空間に搬入される。このようにして、シェル２０ａは、洗浄槽本体５ａの内部に搬入される。そして、洗浄槽本体５ａの洗浄空間に設けられた載置部５ｃには、搬入されたシェル２０ａが載置される。載置部５ｃは、洗浄槽本体５ａの内部に設けられ、図２に示すように、シェル２０ａのシェル開口部が下方に向けられた状態でシェル２０ａを載置することが可能な台（載置台）である。載置部５ｃには、位置決めピンが設けられている。位置決めピンにより、シェル２０ａの載置位置が決定される。図２に示すように、載置部５ｃには、複数の貫通孔５ｃ＿１が形成されている。貫通孔５ｃ＿１は、第１の排出部５ｇに連通（接続）している。また、載置部５ｃの中心に開口が設けられている。

【0020】

中空部５ｔは、載置部５ｃの中心に設けられた開口に接続しており、上下方向に延びる軸５ｌを回転軸として、固定部５ｓ周りを回転可能に構成されている。中空部５ｔが回転することにより、連動して、載置部５ｃも回転する。固定部５ｓは、洗浄槽本体５ａに対して固定されている部材である。固定部５ｓは、中空部５ｔが有する中空を上下方向に貫くように設けられており、中空部５ｔが回転可能なように中空部５ｔを支持する。固定部５ｓは、固定の台５ｓ＿１及び固定シャフト５ｓ＿２を備える。

【0021】

固定の台５ｓ＿１の外形は、中空部５ｔが有する中空の外形よりも大きい。このようにすることで、シェル２０ａの内部を洗浄した洗浄液であって、固定の台５ｓ＿１の上面へと流れた洗浄液が中空部５ｔが有する中空内へと流れることを防ぐことができる。また、後述する洗浄槽５における自己洗浄処理において、第１の洗浄液供給部５ｄあるいは第３の洗浄液供給部５ｐを洗浄した洗浄液であって、固定の台５ｓ＿１の上面へと流れた洗浄液が中空部５ｔが有する中空内へと流れることを防ぐことができる。

【0022】

また、固定の台５ｓ＿１の外周に下に向かって伸長する凸部を設けるようにしてもよい。この場合、中空部５ｔの上端を載置部５ｃの上面よりも高い位置に設けることが好ましい。このようにすることで、固定の台５ｓ＿１の凸部と中空部５ｔの上端とでラビリンス構造を形成することができる。その結果、シェル２０ａの内部を洗浄した洗浄水あるいは、自己洗浄処理時に使用された洗浄水が中空部５ｔの中空内へと流れることをより防ぐことができる。なお、中空部５ｔが載置部５ｃの下面と接続される場合、載置部５ｃの開口周辺にその開口を囲うように凸部を設けるようにすればよい。その場合、固定の台５ｓ＿１の外形は、凸部の外形よりも大きくすればよい。

【0023】

蓋部５ｂは、洗浄槽本体５ａの上方（本体開口部側）に設けられており、エアシリンダが動作することにより洗浄槽本体５ａの本体開口部に対して開閉する。蓋部５ｂの内側にはドア２０ｂを吸着して保持することが可能な保持部（保持機構）５ｉが設けられている。

【0024】

本実施形態では、洗浄槽５においてＦＯＵＰ２０の洗浄が行われる場合、ロボット３は、分解／連結ステージ４上のシェル２０ａとドア２０ｂとを別々に洗浄槽５に搬送する。例えば、ロボット３は、シェル２０ａの開口部が下方に向けられた状態で、シェル２０ａを洗浄槽本体５ａの開口部から洗浄槽本体５ａの内部に搬送する。そして、図２に示すように、シェル２０ａは、シェル２０ａの開口部が下方に向けられた状態で、載置部５ｃに載置される。また、ロボット３は、ドア２０ｂの外側の面が蓋部５ｂの保持部５ｉにより保持されるように、ドア２０ｂを保持部５ｉに搬送する。これにより、図２に示すように、蓋部５ｂが閉じられた場合、ドア２０ｂの内側の面（内面）が下方を向くようになる。

【0025】

また、洗浄槽本体５ａの洗浄空間には、第１の洗浄液供給部５ｄ、第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐが設けられている。第１の洗浄液供給部５ｄ、第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐには、シェル２０ａ及びドア２０ｂを洗浄処理する際に用いられる洗浄液（例えばＤＩ水（脱イオン水）等の純水）が供給される。そして、第１の洗浄液供給部５ｄは、シェル２０ａの収納空間（シェル２０ａの内面）に洗浄液を供給（吐出）することにより、収納空間内（シェル２０ａの内面）の洗浄を行う。また、第２の洗浄液供給部５ｅは、シェル２０ａの外側の側面に洗浄液を供給（吐出）することにより、シェル２０ａの外側の側面を洗浄する。また、第３の洗浄液供給部５ｐは、シェル２０ａの外側の上面及び蓋部５ｂの保持部５ｉにより保持されたドア２０ｂの内面に洗浄液を供給（吐出）することにより、シェル２０ａの外側の上面及びドア２０ｂの内面を洗浄する。

【0026】

第１の洗浄液供給部５ｄは、載置部５ｃに載置されたシェル２０ａの収納空間に洗浄液を供給することが可能な位置に設けられている。例えば、第１の洗浄液供給部５ｄは、固定部５ｓにおける台５ｓ＿１の上面から上方向に延びる少なくとも１本の棒状のパイプと、水平方向に延びる少なくとも１本の棒状のパイプと、各パイプに複数設けられたノズル５ｍとを備える。ノズル５ｍは、例えば、二流体ノズルである。ノズル５ｍが二流体ノズルである場合、ノズル５ｍは、空気（気体の一例）と洗浄液とを混合し、空気の流れにより洗浄液を微粒化して、微粒化された洗浄液をシェル２０ａの収納空間に供給する。なお、このようなノズル５ｍは、空気と洗浄液とを混合せずに、洗浄液を収納空間に供給することができる。すなわち、ノズル５ｍは、洗浄液を微粒化せずに、微粒化されていない洗浄液を収納空間に供給することができる。なお、空気および洗浄液は、固定シャフト５ｓ＿２内に設けられた配管であって、前述の固定部５ｓにおける台５ｓ＿１の上面から上方向に延びる棒状のパイプと接続された配管を通り、ノズル５ｍへと供給される。

【0027】

図２に示すように、第１の洗浄液供給部５ｄには、水平方向に洗浄液を吐出するノズル５ｍと、上方向に洗浄液を吐出するノズル５ｍとがある。水平方向に洗浄液を吐出するノズル５ｍは、シェル２０ａの内側の側面の洗浄を行う。上方向に洗浄液を吐出するノズル５ｍは、シェル２０ａの内側の上面の洗浄を行う。すなわち、第１の洗浄液供給部５ｄは、載置部５ｃによりシェル２０ａが載置された状態であるシェル載置状態において、シェル２０ａの内部に設けられ、シェル２０ａの内面に洗浄液を吐出する。

【0028】

第２の洗浄液供給部５ｅは、シェル２０ａの外側の側面に洗浄液を供給することが可能な位置に設けられている。例えば、第２の洗浄液供給部５ｅは、上下方向に延びる少なくとも１本の棒状のパイプと、パイプに複数設けられたノズル５ｏとを備える。ノズル５ｏは、例えば、一流体ノズルである。ノズル５ｏが一流体ノズルである場合、ノズル５ｏは、シェル２０ａの外側の側面に洗浄液を供給する。すなわち、第２の洗浄液供給部５ｅは、上述したシェル載置状態において、シェル２０ａの外側に設けられ、シェル２０ａの外面に洗浄液を吐出する。

【0029】

ここで、本実施形態では、載置部５ｃによりシェル２０ａが載置されていない状態（洗浄槽５内にシェル２０ａが無い状態）であるシェル非載置状態において、第１の洗浄液供給部５ｄの水平方向に洗浄液を吐出するノズル５ｍの吐出口と、第２の洗浄液供給部５ｅのノズル５ｏの吐出口とが、対向している。すなわち、第１の洗浄液供給部５ｄの吐出口及び第２の洗浄液供給部５ｅの吐出口は、上述したシェル非載置状態において、一方の吐出口から他方の吐出口に向かって互いに洗浄液を吐出可能に対向している。

【0030】

第３の洗浄液供給部５ｐは、シェル２０ａの外側の上面及び蓋部５ｂの保持部５ｉにより保持されたドア２０ｂの内面に洗浄液を供給することが可能な位置に設けられている。例えば、第３の洗浄液供給部５ｐは、水平方向に延び、かつ回動可能な少なくとも１本の棒状のパイプと、パイプに複数設けられたノズル５ｒ又はノズル５ｎとを備える。ノズル５ｎは、例えば、ドア２０ｂの内面に向かって吐出するように設けられた、ノズル５ｍと同様の二流体ノズルである。ノズル５ｎが二流体ノズルである場合、ノズル５ｎは、ドア２０ｂの内面に微粒化された洗浄液を供給する。また、ノズル５ｒは、例えば、一流体ノズルである。ノズル５ｒが一流体ノズルである場合、ノズル５ｒは、シェル２０ａの外側の上面に洗浄液を供給する。このように、第３の洗浄液供給部５ｐは、上述したシェル載置状態であり、かつ、蓋部５ｂの保持部５ｉによりドア２０ｂが保持された状態であるドア保持状態である場合において、シェル２０ａの外面のうち上面及びドア２０ｂにおけるシェル２０ａの上面と対向するドア内面に洗浄液を吐出する。

【0031】

図３Ａは、実施形態に係るシェル２０ａの搬出時、搬入時及び乾燥時の第３の洗浄液供給部５ｐの位置の一例を説明するための図である。図３Ｂは、実施形態に係るシェル２０ａの洗浄時の第３の洗浄液供給部５ｐの位置の一例を説明するための図である。なお、図３Ａでは、乾燥部５ｆは、実施形態に係るシェル２０ａの搬出時、搬入時における位置を示している。例えば、図２中、シェル２０ａとドア２０ｂとの間に配置されている第３の洗浄液供給部５ｐのノズル５ｒは、シェル２０ａの搬出時、搬入時及び乾燥時には、図３Ａに示すように、シェル２０ａに干渉しない位置（退避位置）に退避している。そして、シェル２０ａが洗浄空間に搬入され、保持部５ｉによりドア２０ｂが保持された状態で蓋部５ｂが閉じられた後に、第３の洗浄液供給部５ｐのノズル５ｒは、図３Ｂに示すように、回動して、載置部５ｃに載置されたシェル２０ａの上方であり、かつ、保持部５ｉにより保持されたドア２０ｂの下方の位置（洗浄位置）に移動する。洗浄が終了すると、第３の洗浄液供給部５ｐのノズル５ｒは、回動して、退避位置に戻る。なお、ノズル５ｎについては、図３Ａ及び図３Ｂにおいて図示されていないが、ノズル５ｒと同様に移動する。

【0032】

本実施形態では、上述したシェル非載置状態であり、かつ、保持部５ｉによりドア２０ｂが保持されていない状態であるドア非保持状態において、第３の洗浄液供給部５ｐのノズル５ｒが洗浄位置に位置している場合、ノズル５ｒの吐出口と上方向に洗浄液を吐出するノズル５ｍの吐出口とが対向している。すなわち、第１の洗浄液供給部５ｄの吐出口及び第３の洗浄液供給部５ｐの吐出口は、上述したシェル非載置状態、かつ、上述したドア非保持状態において、一方の吐出口から他方の吐出口に向かって互いに洗浄液を吐出可能に対向している。

【0033】

乾燥部５ｆは、シェル２０ａの内面、シェル２０ａの外面及びドア２０ｂの内面に熱風（ホットブロー）を供給することが可能な位置に設けられている。例えば、乾燥部５ｆは、上下方向に延びる少なくとも２本の棒状のパイプと、水平方向に延びる少なくとも２本の棒状のパイプと、各パイプに複数設けられたホットブローノズルとを備える。本実施形態においては、シェル２０ａが載置された際に、シェル２０ａの内面に熱風を供給する、固定部５ｓにおける台５ｓ＿１の上面から上方向に延びる少なくとも１本のパイプと、固定部５ｓにおける台５ｓ＿１の上面と接続され、水平方向に延びる少なくとも１本のパイプとが設けられている。また、シェル２０ａの外側部分に熱風を供給する、上下方向に延びる少なくとも１本のパイプと、水平方向に延びていて回動可能な少なくとも１本のパイプが設けられている。これらのパイプに設けられたホットブローノズルは、シェル２０ａの内面、シェル２０ａの外面及びドア２０ｂの内面に熱風を供給する。

【0034】

例えば、図２中、シェル２０ａとドア２０ｂとの間に配置されている乾燥部５ｆは、シェル２０ａの搬出時、搬入時及び洗浄時には、シェル２０ａに干渉しない位置（退避位置）に退避している。そして、洗浄が終了すると、回動して、載置部５ｃに載置されたシェル２０ａの上方であり、かつ、保持部５ｉにより保持されたドア２０ｂの下方の位置（乾燥位置）に移動する。乾燥が終了すると、乾燥部５ｆは、回動して、退避位置に戻る。

【0035】

また、洗浄槽本体５ａは、モータ５ｋを含む第１の回転部を備える。第１の回転部は、シェル２０ａの洗浄中及び乾燥中に、上下方向に延びる軸５ｌを回転軸として、中空部５ｔを回転させることにより載置部５ｃを回転させる。載置部５ｃの回転に伴い、載置部５ｃに載置されたシェル２０ａも回転する。また、蓋部５ｂは、モータ５ｊを含む第２の回転部を備える。第２の回転部は、ドア２０ｂの洗浄中及び乾燥中に、軸５ｌを回転軸として、保持部５ｉを回転させる。保持部５ｉの回転に伴い、保持部５ｉに保持されたドア２０ｂも回転する。よって、ＦＯＵＰ２０の洗浄中には、ＦＯＵＰ２０にまんべんなく洗浄液が供給されることになる。また、ＦＯＵＰ２０の乾燥中には、ＦＯＵＰ２０にまんべんなくホットブローが供給されることになる。また、ホットブローノズルからホットブローを供給することなく、第１の回転部及び第２の回転部による回転によってシェル２０ａ及びドア２０ｂに付着した液体の乾燥を行うようにしても良い。

【0036】

第１の排出部５ｇは、シェル２０ａの収納空間に供給（吐出）された洗浄液を排出する。上述したように、第１の排出部５ｇは、貫通孔５ｃ＿１に連通（接続）している。このため、シェル２０ａの収納空間に供給された洗浄液が、貫通孔５ｃ＿１を経由して、第１の排出部５ｇに流入する。

【0037】

第２の排出部５ｈは、シェル２０ａの外側を経由した洗浄液を排出する。シェル２０ａの外側を経由した洗浄液とは、シェル２０ａの外面及びドア２０ｂの内面に供給（吐出）された洗浄液である。例えば、第２の排出部５ｈは、洗浄槽本体５ａの底部に設けられた排出口である。

【0038】

なお、洗浄槽５においてＦＯＵＰ２０の洗浄が完了した場合、ロボット３は、洗浄槽５内のシェル２０ａとドア２０ｂとを別々に真空槽６に搬送する。

【0039】

図１の説明に戻り、真空槽６は、ＦＯＵＰ２０を真空乾燥する槽である。真空槽６の内部には、真空槽６の内部に搬送されたシェル２０ａ及びドア２０ｂを保持する保持部、ハロゲンランプ、及び、真空槽６の内部を真空引きすることができるドライポンプやメカニカルブースターポンプなどの真空ポンプを備える。真空槽６は、保持部によりシェル２０ａ及びドア２０ｂが保持された状態で、真空槽６の内部を真空ポンプにより真空引きしながらハロゲンランプで加温することで、シェル２０ａ及びドア２０ｂを真空乾燥する。

【0040】

なお、真空槽６においてＦＯＵＰ２０の真空乾燥が完了すると、ロボット３は、真空槽６内のシェル２０ａとドア２０ｂとを別々に分解／連結ステージ４上に搬送する。そして、分解／連結ステージ４は、シェル２０ａとドア２０ｂとを連結する。

【0041】

アンロードポート７は、アンロードポート７のケーシング１ａの内部の部分にロボット３により載置された洗浄済みであり真空乾燥済みであるＦＯＵＰ２０をケーシング１ａの外部に搬出する。

【0042】

例えば、アンロードポート７のケーシング１ａの内部の部分には、真空乾燥後に、分解／連結ステージ４おいてシェル２０ａとドア２０ｂとが連結されたＦＯＵＰ２０がロボット３により搬送されて載置される。このようにしてアンロードポート７にＦＯＵＰ２０が載置されると、ケーシング１ａの開口部１ｃに設けられたシャッター７ａが上昇する。これにより、開口部１ｃからＦＯＵＰ２０がケーシング１ａの外部に搬出可能な状態となる。すなわち、ＦＯＵＰ２０がウェーハ収納容器洗浄装置１の外部に搬出可能な状態となる。そして、アンロードポート７のスライド装置（ロードポート２のスライド装置と同様の機構を有する）によりＦＯＵＰ２０が、矢印７ｂの方向にスライドされることにより、ＦＯＵＰ２０がケーシング１ａの外部に搬出される。このようにしてＦＯＵＰ２０がケーシング１ａの外部に搬出されると、シャッター７ａが下降して、ケーシング１ａの開口部１ｃが閉じられる。

【0043】

制御部８は、ウェーハ収納容器洗浄装置１全体の動作を制御する。例えば、制御部８は、ロードポート２、ロボット３、分解／連結ステージ４、洗浄槽５、真空槽６及びアンロードポート７を制御することにより、上述したように、ロードポート２、ロボット３、分解／連結ステージ４、洗浄槽５、真空槽６及びアンロードポート７を動作させる。

【0044】

図４は、実施形態に係る制御部８の構成の一例を示す図である。図４に示すように、制御部８は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）８ａと、ＲＯＭ（Read Only Memory）８ｂと、ＲＡＭ（Random Access Memory）８ｃと、ＨＤＤ（Hard Disk Drive）８ｄと、通信インタフェース８ｅと、を備える。これらは、内部バスを介して接続されている。

【0045】

ＣＰＵ８ａは、ＲＡＭ８ｃの記憶領域を各種の処理に用いられるデータの一時的な保存領域として用いながら、各種の処理を実行する。ＣＰＵ８ａにより実行される処理については後述する。ＲＯＭ８ｂ及びＨＤＤ８ｄには各種の処理を実行するためのプログラムや、各種の処理を実行する際に用いられる各種のデータベースや各種のテーブル等が記憶されている。例えば、ＲＯＭ８ｂ又はＨＤＤ８ｄには、洗浄槽５における自己洗浄処理を実行するためのプログラムが記憶されている。

【0046】

通信インタフェース８ｅは、ウェーハ収納容器洗浄装置１の上述した各部と通信を行うとともに、ウェーハ収納容器洗浄装置１とネットワークを介して接続された外部の装置と通信を行うためのインタフェースである。例えば、通信インタフェース８ｅは、ネットワークインタフェースカードである。

【0047】

次に、本実施形態に係るウェーハ収納容器洗浄装置１が実行する洗浄槽５における自己洗浄処理について説明する。図５は、実施形態に係るウェーハ収納容器洗浄装置１が実行する洗浄槽５における自己洗浄処理の流れを示すフローチャートである。図５に示す自己洗浄処理は、ウェーハ収納容器洗浄装置１のメンテナンスを行う期間に、制御部８が備えるマウスやキーボード、タッチパネル等の入力インタフェースを介して、ユーザから自己洗浄処理を実行するための指示が制御部８に入力された場合に実行される。なお、自己洗浄処理は、洗浄槽５からシェル２０ａ及びドア２０ｂが搬出されており、洗浄槽５内にシェル２０ａ及びドア２０ｂが無い状態で実行される。

【0048】

図５に示すように、制御部８のＣＰＵ８ａは、第３の洗浄液供給部５ｐのノズル５ｒを洗浄位置に移動させる（ステップＳ１０１）。これにより、ノズル５ｒの吐出口と上方向に洗浄液を吐出するノズル５ｍの吐出口とが対向するようになる。

【0049】

次に、ＣＰＵ８ａは、第１の洗浄液供給部５ｄで第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐを洗浄することを開始するように第１の洗浄液供給部５ｄを制御する（ステップＳ１０２）。これにより、第１の洗浄液供給部５ｄの水平方向に洗浄液を吐出するノズル５ｍは、第２の洗浄液供給部５ｅを洗浄することを開始する。また、第１の洗浄液供給部５ｄの上方向に洗浄液を吐出するノズル５ｍは、第３の洗浄液供給部５ｐを洗浄することを開始する。

【0050】

ステップＳ１０２において、ＣＰＵ８ａは、第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐを洗浄する際にノズル５ｍから吐出される洗浄液の流量が、シェル２０ａを洗浄する際にノズル５ｍから吐出される洗浄液の流量よりも多くなるように、第１の洗浄液供給部５ｄを制御する。この理由について説明する。例えば、シェル２０ａの洗浄時にはノズル５ｍから吐出される洗浄液がシェル２０ａの内面まで届けばよい。一方、第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐの洗浄時には、ノズル５ｍから吐出される洗浄液が、シェル２０ａよりも遠い第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐまで届く必要がある。このため、流量を多くすることで、ノズル５ｍから吐出される洗浄液が、第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐまで届くようにしている。

【0051】

次に、ＣＰＵ８ａは、ステップＳ１０２において第１の洗浄液供給部５ｄで第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐを洗浄することを開始してから、第１の洗浄時間が経過したか否かを判定する（ステップＳ１０３）。第１の洗浄時間は、実験又はシミュレーションにより、第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐが十分に洗浄されることが期待できる予め決められた時間である。

【0052】

第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐを洗浄することを開始してから、第１の洗浄時間が経過していない場合（ステップＳ１０３：Ｎｏ）、ＣＰＵ８ａは、再び、ステップＳ１０３の判定を行う。一方、第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐを洗浄することを開始してから、第１の洗浄時間が経過した場合（ステップＳ１０３：Ｙｅｓ）、ＣＰＵ８ａは、第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐの洗浄を終了するように、第１の洗浄液供給部５ｄを制御する（ステップＳ１０４）。すなわち、ＣＰＵ８ａは、第１の洗浄液供給部５ｄのノズル５ｍからの洗浄液の吐出を停止するように第１の洗浄液供給部５ｄを制御する。このようにして、第１の洗浄液供給部５ｄは、第１の洗浄時間、第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐを洗浄する。

【0053】

次に、ＣＰＵ８ａは、第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐで第１の洗浄液供給部５ｄを洗浄することを開始するように第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐを制御する（ステップＳ１０５）。これにより、第２の洗浄液供給部５ｅのノズル５ｏは、第１の洗浄液供給部５ｄの全部分のうち、水平方向に洗浄液を吐出するノズル５ｍを含む部分を洗浄することを開始する。また、第３の洗浄液供給部５ｐのノズル５ｒは、第１の洗浄液供給部５ｄの全部分のうち、第１の洗浄液供給部５ｄの上方向に洗浄液を吐出するノズル５ｍを含む部分を洗浄することを開始する。

【0054】

ステップＳ１０５において、ＣＰＵ８ａは、第１の洗浄液供給部５ｄを洗浄する際にノズル５ｏ、５ｒから吐出される洗浄液の流量が、シェル２０ａを洗浄する際にノズル５ｏ、５ｒから吐出される洗浄液の流量よりも多くなるように、第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐを制御する。この理由は、第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐを洗浄する際にノズル５ｍから吐出される洗浄液の流量が、シェル２０ａを洗浄する際にノズル５ｍから吐出される洗浄液の流量よりも多くなる上述した理由と同様の理由である。

【0055】

次に、ＣＰＵ８ａは、ステップＳ１０５において第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐで第１の洗浄液供給部５ｄを洗浄することを開始してから、第２の洗浄時間が経過したか否かを判定する（ステップＳ１０６）。第２の洗浄時間は、実験又はシミュレーションにより、第１の洗浄液供給部５ｄが十分に洗浄されることが期待できる予め決められた時間である。

【0056】

第１の洗浄液供給部５ｄを洗浄することを開始してから、第２の洗浄時間が経過していない場合（ステップＳ１０６：Ｎｏ）、ＣＰＵ８ａは、再び、ステップＳ１０６の判定を行う。一方、第１の洗浄液供給部５ｄを洗浄することを開始してから、第２の洗浄時間が経過した場合（ステップＳ１０６：Ｙｅｓ）、ＣＰＵ８ａは、第１の洗浄液供給部５ｄの洗浄を終了するように、第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐを制御する（ステップＳ１０７）。すなわち、ＣＰＵ８ａは、第２の洗浄液供給部５ｅのノズル５ｏ及び第３の洗浄液供給部５ｐのノズル５ｒからの洗浄液の吐出を停止するように第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐを制御する。このようにして、第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐは、第２の洗浄時間、第１の洗浄液供給部５ｄを洗浄する。

【0057】

そして、ＣＰＵ８ａは、第３の洗浄液供給部５ｐのノズル５ｒを退避位置に移動させ（ステップＳ１０８）、自己洗浄処理を終了する。

【0058】

以上、本実施形態に係るウェーハ収納容器洗浄装置１について説明した。本実施形態では、制御部８は、ステップＳ１０５で、上述したシェル非載置状態において、第１の洗浄液供給部５ｄに対して洗浄液を吐出するように第２の洗浄液供給部５ｅを制御する。より具体的には、制御部８は、ステップＳ１０５で、上述したシェル非載置状態、かつ、上述したドア非保持状態において、第１の洗浄液供給部５ｄに対して洗浄液を吐出するように第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐを制御する。これにより、第１の洗浄液供給部５ｄに付着された汚染物質を第１の洗浄液供給部５ｄから取り除くことができる。このため、自己洗浄処理後に、洗浄槽５で洗浄されるＦＯＵＰ２０の汚染を抑制することができる。

【0059】

また、本実施形態では、制御部８は、第１の洗浄液供給部５ｄに対して洗浄液を吐出するように第２の洗浄液供給部５ｅを制御する前に、ステップＳ１０２で、第２の洗浄液供給部５ｅに対して洗浄液を吐出するように第１の洗浄液供給部５ｄを制御する。より具体的には、制御部８は、第１の洗浄液供給部５ｄに対して洗浄液を吐出するように第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐを制御する前に、ステップＳ１０２で、第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐに対して洗浄液を吐出するように第１の洗浄液供給部５ｄを制御する。これにより、特に、第１の洗浄液供給部５ｄの上方にある第３の洗浄液供給部５ｐから汚染物質を含んだ洗浄液が第１の洗浄液供給部５ｄにたれてくることにより第１の洗浄液供給部５ｄに汚染物質が付着した場合であっても、その後に、第１の洗浄液供給部５ｄが洗浄されるので、第１の洗浄液供給部５ｄが汚染されることを抑制することができる。そして、この点からも、自己洗浄処理後に、洗浄槽５で洗浄されるＦＯＵＰ２０の汚染を抑制することができる。

【0060】

なお、シェル２０ａの内部を洗浄しているときに、固定部５ｓに接続された乾燥部５ｆにも汚染物質が付着してしまうおそれがある。そのため、自己洗浄処理において、ＣＰＵ８ａは、第３の洗浄液供給部５ｐを揺動させることで、第１の洗浄液供給部５ｄに加えて上述した固定部５ｓに接続された乾燥部５ｆのホットブローノズルを洗浄してもよい。これにより、ホットブローノズルに付着した汚染物質がＦＯＵＰ２０に付着することを抑制することができる。ひいては、ＦＯＵＰ２０の汚染を抑制することができる。

【0061】

また、自己洗浄処理において、ＣＰＵ８ａが第３の洗浄液供給部５ｐを揺動させる場合、複数の第１の洗浄液供給部５ｄは、固定部５ｓの台５ｓ＿１の外縁近傍に設けられてもよい。すなわち、第１の洗浄液供給部５ｄ同士が離れた位置に設けられるようにしてもよい。第３の洗浄液供給部５ｐを揺動させることで、第１の洗浄液供給部５ｄ同士が離れた位置に設けられていたとしても、複数の第１の洗浄液供給部５ｄは、第３の洗浄液供給部５ｐによって洗浄される。また、複数の第１の洗浄液供給部５ｄを固定部５ｓの台５ｓ＿１の外縁近傍に設けることで、第２の洗浄液供給部５ｅとの距離が短くなる。したがって、自己洗浄処理時にノズル５ｍあるいはノズル５ｏから吐出される洗浄液の流量の増加量を抑制することができる。

【0062】

なお、固定部５ｓの台５ｓ＿１の外縁近傍とは、中空部５ｔの外縁よりも第１の洗浄液供給部５ｄを構成する棒状のパイプの直径と同じ長さ分、内側の位置から固定部５ｓの台５ｓ＿１の外縁までの範囲である。また、第１の洗浄液供給部５ｄを構成する棒状のパイプは、上方向だけでなく、水平方向にも伸びる形状でもよい。例えば、第１の洗浄液供給部５ｄを構成する棒状のパイプは、固定部５ｓの台５ｓ＿１の外縁近傍に無く、ノズル５ｍが固定部５ｓの台５ｓ＿１の外縁近傍にある場合も、複数の第１の洗浄液供給部５ｄを固定部５ｓの台５ｓ＿１の外縁近傍に設けることに含まれる。

【0063】

また、固定部５ｓ上には、第２の洗浄液供給部５ｅに対向する第１の洗浄液供給部５ｄだけでなく、シェル２０ａの外側の側面に熱風を供給する乾燥部５ｆに対向する第１の洗浄液供給部５ｄがさらに設けられてもよい。この場合、固定部５ｓ上の乾燥部５ｆは、第１の洗浄液供給部５ｄ同士の間に設けるようにすればよい。このようにすることで、シェル２０ａの外側の側面にホットブローを供給する乾燥部５ｆも自己洗浄処理時に洗浄することができる。

【0064】

また、第１の排出部５ｇよりも後段の洗浄液が廃液として流れる流路に、パーティクルカウンタが設けられていてもよい。パーティクルカウンタは、所定の時間間隔で、所定の単位容量（例えば１０ｍｌ）の廃液に含まれるパーティクルの数を計測する。そして、ＣＰＵ８ａは、ステップＳ１０６の判定に代えて、パーティクルカウンタにより所定の単位容量の廃液に含まれるパーティクルの数が計測される度にパーティクルの数が閾値未満であるか否かを判定してもよい。そして、ＣＰＵ８ａは、パーティクルの数が閾値未満でない場合には、再び、パーティクルの数が閾値未満であるか否かを判定する。そして、ＣＰＵ８ａは、パーティクルの数が閾値未満である場合に、ステップＳ１０７に移行してもよい。

【0065】

また、次々とウェーハ収納容器洗浄装置１に洗浄対象のＦＯＵＰ２０が搬入される場合について説明する。この場合、ＣＰＵ８ａは、真空槽６において真空乾燥が開始される時間（時刻）Ｔ１と、洗浄槽５においてシェル２０ａとドア２０ｂの洗浄が終了する時間Ｔ２とを比較し、時間Ｔ１から時間Ｔ２を減じた時間Ｔ３（Ｔ１－Ｔ２）が、自己洗浄処理に要する時間Ｔ４よりも長い場合には、洗浄槽５からシェル２０ａとドア２０ｂを搬出した上で、自己洗浄処理を自動的に実行してもよい。なお、洗浄槽５においてシェル２０ａとドア２０ｂの洗浄が終了する時間Ｔ２には、洗浄槽５内のシェル２０ａとドア２０ｂが洗浄槽５内から搬出される時間も含まれる。

【0066】

前述の通り、自己洗浄処理を自動的に実行する場合、洗浄槽５から搬出されたシェル２０ａとドア２０ｂは、真空槽６における別のＦＯＵＰ２０の真空乾燥が終わるまでの間、分解／連結ステージ４上に搬送され、分解／連結ステージ４において待機する。このようにすることで、ロボット３は、自己洗浄処理の間、他のＦＯＵＰ２０を搬送することができる。なお、ロボット３を他のＦＯＵＰ２０の搬送に使用できなくなるが、洗浄槽５から搬出されたドア２０ｂは、分解／連結ステージ４上に搬送され、洗浄槽５から搬出されたシェル２０ａは、ロボット３に把持されたまま待機するようにしてもよい。また、シェル２０ａが分解／連結ステージ４上に搬送され、ドア２０ｂがロボット３に把持されたまま待機するようにしてもよい。

【0067】

また、自己洗浄処理は、ユーザがマウスやキーボード、タッチパネル等の入力インタフェースを操作して、洗浄槽５内の各構成要素を動作させることによって実行されるようにしてもよい。つまり、自己洗浄処理が制御部８の制御のもとで行われないようにしてもよい。

【0068】

また、ステップＳ１０２において、ノズル５ｍから吐出される洗浄液の流量が、シェル２０ａを洗浄する際にノズル５ｍから吐出される洗浄液の流量と同じであってもよい。例えば、ノズル５ｍから吐出される洗浄液が、第２の洗浄液供給部５ｅ及び第３の洗浄液供給部５ｐまで届く流量を予め求めておく。そして、求めた流量でシェル２０ａを洗浄するようにしてもよい。

【0069】

また、ステップＳ１０５において、第１の洗浄液供給部５ｄを洗浄する際にノズル５ｏ、５ｒから吐出される洗浄液の流量が、シェル２０ａを洗浄する際にノズル５ｏ、５ｒから吐出される洗浄液の流量と同じであってもよい。例えば、ノズル５ｏ、５ｒから吐出される洗浄液が、第１の洗浄液供給部５ｄまで届く流量を予め求めておく。そして、求めた流量でシェル２０ａを洗浄するようにしてもよい。

【0070】

以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更、組み合わせを行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

【符号の説明】

【0071】

１ ウェーハ収納容器洗浄装置
５ 洗浄槽
５ａ 洗浄槽本体
５ｂ 蓋部
５ｃ 載置部
５ｄ 第１の洗浄液供給部
５ｅ 第２の洗浄液供給部
５ｐ 第３の洗浄液供給部

【図1】

【図2】

【図3A】

【図3B】

【図4】

【図5】