(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024151964
(43)【公開日】2024-10-25
(54)【発明の名称】製氷装置
(51)【国際特許分類】
F25C 1/00 20060101AFI20241018BHJP
【ＦＩ】
F25C1/00 Z
【審査請求】未請求
【請求項の数】6
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023065817
(22)【出願日】2023-04-13
(71)【出願人】
【識別番号】314012076
【氏名又は名称】パナソニックＩＰマネジメント株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001081
【氏名又は名称】弁理士法人クシブチ国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】中島 規朗
(72)【発明者】
【氏名】北爪 直人
(57)【要約】
【課題】製氷機構のより効率的な洗浄を可能とする製氷装置を提供する。
【解決手段】貯水タンクと、前記貯水タンクから供給される水で氷を生成する製氷機構と、オゾン水を生成するオゾン水生成部と、前記貯水タンク内に貯留する液体を前記オゾン水生成部に供給可能とする供給機構と、を備える製氷装置。
【選択図】図２２
【解決手段】貯水タンクと、前記貯水タンクから供給される水で氷を生成する製氷機構と、オゾン水を生成するオゾン水生成部と、前記貯水タンク内に貯留する液体を前記オゾン水生成部に供給可能とする供給機構と、を備える製氷装置。
【選択図】図２２
【特許請求の範囲】
【請求項1】
貯水タンクと、前記貯水タンクから供給される水で氷を生成する製氷機構と、オゾン水を生成するオゾン水生成部と、前記貯水タンク内に貯留する液体を前記オゾン水生成部に供給可能とする供給機構と、を備える製氷装置。
【請求項2】
前記液体は、前記水、前記オゾン水あるいは前記水と前記オゾン水との混合オゾン水のいずれかである、請求項１に記載の製氷装置。
【請求項3】
前記オゾン水生成部と、フィルターとを有するオゾン水生成装置を備え、
前記オゾン水生成装置は、前記貯水タンク、前記フィルター、前記オゾン水生成部に前記オゾン水を循環させる、請求項１または２に記載の製氷装置。
前記オゾン水生成装置は、前記貯水タンク、前記フィルター、前記オゾン水生成部に前記オゾン水を循環させる、請求項１または２に記載の製氷装置。
【請求項4】
前記フィルターは、活性炭である、請求項３に記載の製氷装置。
【請求項5】
貯水タンクと、前記貯水タンクから供給される水で氷を生成する製氷機構と、を備える製氷装置における洗浄方法であって、
供給機構を用いて前記貯水タンク内に貯留する液体をオゾン水生成部に供給させ、前記オゾン水生成部にオゾン水を生成させる洗浄方法。
供給機構を用いて前記貯水タンク内に貯留する液体をオゾン水生成部に供給させ、前記オゾン水生成部にオゾン水を生成させる洗浄方法。
【請求項6】
前記液体の前記オゾン水生成部への供給を、前記製氷機構による氷の非生成時に実行させる、請求項５に記載の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、製氷装置に関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献１は、製氷機構と、製氷機構で生成した氷を貯蔵する貯氷室と、塩素等を含む液体により上記貯氷室内を殺菌雰囲気に保持する殺菌手段と、を備える、オープンセル型の製氷装置を開示する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２００５－２７４０２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本開示は、洗浄用液体としてオゾン水を使用し、その高オゾン濃度化を図りながら、新たな部品の追加をできるだけ低減させ、限られた配置スペースを有効に活用して、製氷機構のより効率的な洗浄を可能とする製氷装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本開示における製氷装置は、貯水タンクと、貯水タンクから供給される水で氷を生成する製氷機構と、前記製氷機構の洗浄時に動作して製氷機構を洗浄するオゾン水を生成するオゾン生成部と、前記貯水タンクと前記オゾン生成部の間でオゾン水を循環させるオゾン水循環機構と、貯氷タンク内に貯留する液体を前記オゾン生成部に供給可能とする供給機構と、を備える。
【発明の効果】
【0006】
本開示における製氷装置によれば、洗浄用液体としてオゾン水を使用し、その高オゾン濃度化を図りながら、新たな部品の追加が低減され、限られた配置スペースが有効に活用されて、製氷機構のより効率的な洗浄が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【図1】実施の形態１に係る製氷装置の斜視図
【図2】製氷機構の正面図
【図3】製氷機構の斜視図
【図4】実施の形態１に係るオゾン水生成装置の斜視図
【図5】散水器及び吐出パイプの正面断面図
【図6】オゾン水の流れの模式図
【図8】製氷装置の制御系に関わる要部を示すブロック図
【図9】待機状態を示す断面模式図
【図10】排水工程、散水器洗浄工程、及び水皿洗浄工程を示す断面模式図
【図11】貯水工程を示す断面模式図
【図12】第１水タンク洗浄工程及び放置工程を示す断面模式図
【図13】ドレンパン洗浄工程を示す断面模式図
【図14】水皿閉塞工程を示す断面模式図
【図15】すすぎ工程を示す断面模式図
【図16】すすぎ水排水工程を示す断面模式図
【図17】水皿洗浄工程を示す斜視図
【図18】水皿洗浄工程における水皿の拡大側面断面図
【図19】貯水工程における水皿の拡大上面図
【図20】貯水工程における水皿の拡大斜視図
【図21】ドレンパンの上面図
【図22】実施の形態２に係る製氷機構の拡大斜視図
【図23】実施の形態２に係るオゾン水生成装置の拡大側面図
【発明を実施するための形態】
【0008】
（本開示の基礎となった知見等）
発明者らが本開示に想到するに至った当時、製氷装置において、製氷機構と、製氷機構で生成した氷を貯蔵する貯氷室と、塩素等を含む液体により上記貯氷室内を殺菌雰囲気に保持する殺菌手段と、を備える技術があった。このような製氷装置では、製氷機構や、氷を生成するために製氷機構に水（一般的には水道水）を供給する水回路（散水器を含む）に菌等が浸入し繁殖する恐れがある。現状、製氷運転時は製氷をする毎に水が供給されて製氷機構に循環される。さらに、満氷による製氷運転休止時は定期的な水の入替えを行い、また、電源停止による機器停止後の電源作動時は初回洗浄工程で水の入替えを行って製氷機構や水回路の衛生性が容易に損なわれないようにするのが一般的である。これにより、一定の衛生性は確保されている。
しかしながら、ドレンパンや水皿などの、従来の水循環では水が循環しない箇所については、製氷装置の稼働を定期的に停止させて、製氷機構や水回路の洗浄を人手により行う必要があり、その頻度をできるだけ低減させたいという要望があった。この要望に応えるべく、製氷機構のより効率的な洗浄を実現するために、洗浄用液体としてオゾン水を使用し、なおかつその高オゾン濃度化を図りながら、新たな部品の追加をできるだけ低減させ、限られた配置スペースを有効に活用する必要がある。
本開示は、オゾン水の高オゾン濃度化を図りながら、新たな部品の追加をできるだけ低減させ、限られた配置スペースを有効に活用して、製氷機構のより効率的な洗浄を可能とする製氷装置を提供する。
発明者らが本開示に想到するに至った当時、製氷装置において、製氷機構と、製氷機構で生成した氷を貯蔵する貯氷室と、塩素等を含む液体により上記貯氷室内を殺菌雰囲気に保持する殺菌手段と、を備える技術があった。このような製氷装置では、製氷機構や、氷を生成するために製氷機構に水（一般的には水道水）を供給する水回路（散水器を含む）に菌等が浸入し繁殖する恐れがある。現状、製氷運転時は製氷をする毎に水が供給されて製氷機構に循環される。さらに、満氷による製氷運転休止時は定期的な水の入替えを行い、また、電源停止による機器停止後の電源作動時は初回洗浄工程で水の入替えを行って製氷機構や水回路の衛生性が容易に損なわれないようにするのが一般的である。これにより、一定の衛生性は確保されている。
しかしながら、ドレンパンや水皿などの、従来の水循環では水が循環しない箇所については、製氷装置の稼働を定期的に停止させて、製氷機構や水回路の洗浄を人手により行う必要があり、その頻度をできるだけ低減させたいという要望があった。この要望に応えるべく、製氷機構のより効率的な洗浄を実現するために、洗浄用液体としてオゾン水を使用し、なおかつその高オゾン濃度化を図りながら、新たな部品の追加をできるだけ低減させ、限られた配置スペースを有効に活用する必要がある。
本開示は、オゾン水の高オゾン濃度化を図りながら、新たな部品の追加をできるだけ低減させ、限られた配置スペースを有効に活用して、製氷機構のより効率的な洗浄を可能とする製氷装置を提供する。
【0009】
以下、図面を参照しながら、実施の形態を詳細に説明する。但し、必要以上に詳細な説明は省略する場合がある。例えば、既によく知られた事項の詳細説明、または、実質的に同一の構成に対する重複説明を省略する場合がある。これは、以下の説明が必要以上に冗長になるのを避け、当業者の理解を容易にするためである。
なお、添付図面および以下の説明は、当業者が本開示を十分に理解するために提供されるのであって、これらにより特許請求の範囲に記載の主題を限定することを意図しない。
なお、添付図面および以下の説明は、当業者が本開示を十分に理解するために提供されるのであって、これらにより特許請求の範囲に記載の主題を限定することを意図しない。
【0010】
（実施の形態１）
以下、図１～図２１を用いて、実施の形態１を説明する。
［１－１．構成］
［１－１－１．製氷ユニットの構成］
図１に示すように、製氷装置洗浄システム１０００は、製氷装置１と、製氷装置１が備える制御装置２００とを備える。
以下、図１～図２１を用いて、実施の形態１を説明する。
［１－１．構成］
［１－１－１．製氷ユニットの構成］
図１に示すように、製氷装置洗浄システム１０００は、製氷装置１と、製氷装置１が備える制御装置２００とを備える。
【0011】
製氷装置１は、上方から製氷ユニット１０、氷貯氷庫１２を順に備える。なお、製氷ユニット１０は、側面及び前面を覆うパネルを省略して示してある。製氷ユニット１０、及び氷貯氷庫１２は、いずれも断熱構造を有しており、箱状に形成される。製氷装置１は、これらの製氷ユニット１０と、氷貯氷庫１２とが組み合わされて、全体として箱状に形成される。
製氷ユニット１０は、所定の寸法、及び形状に成形された氷を製氷するものであり、この製氷ユニット１０は、冷凍システムを有する。
製氷装置１は、製氷ユニット１０で生成された氷を氷貯氷庫１２に貯留する。
製氷ユニット１０は、所定の寸法、及び形状に成形された氷を製氷するものであり、この製氷ユニット１０は、冷凍システムを有する。
製氷装置１は、製氷ユニット１０で生成された氷を氷貯氷庫１２に貯留する。
【0012】
氷貯氷庫１２は、上述の通り、内部に氷を貯留する空間が設けられた氷貯留部として機能する箱状体であり、上面が開放されて製氷ユニット１０の下面に連通する。
【0013】
氷貯氷庫１２の前面には、上下方向に並んで複数の開口２、３が設けられる。
氷貯氷庫１２の前面において、上方側に開口した開口２には、一対のスライド扉２ａによって閉塞される。これらのスライド扉２ａは、氷貯氷庫１２の幅方向にスライドさせることで開閉可能な引き戸である。ユーザは、これらのスライド扉２ａをスライドさせて開放することで、氷貯氷庫１２の内部に貯留された氷を取り出すことが可能である。
また、これらのスライド扉２ａは、ガラスや透明樹脂などの透明な部材により形成される。ユーザは、これらのスライド扉２ａを介して、氷貯氷庫１２の内部を視認可能である。
氷貯氷庫１２の前面において、上方側に開口した開口２には、一対のスライド扉２ａによって閉塞される。これらのスライド扉２ａは、氷貯氷庫１２の幅方向にスライドさせることで開閉可能な引き戸である。ユーザは、これらのスライド扉２ａをスライドさせて開放することで、氷貯氷庫１２の内部に貯留された氷を取り出すことが可能である。
また、これらのスライド扉２ａは、ガラスや透明樹脂などの透明な部材により形成される。ユーザは、これらのスライド扉２ａを介して、氷貯氷庫１２の内部を視認可能である。
【0014】
氷貯氷庫１２の前面において、下方側に開口した開口３には、断熱扉３ａが設けられる。ユーザは、この断熱扉３ａを開放することで、氷貯氷庫１２から貯留された氷を取り出すことが可能である。
【0015】
製氷ユニット１０は、上述の通り、所定の寸法、及び形状に成形された氷を製氷するものである。この製氷ユニット１０が有する冷凍システムは、冷媒を圧縮する圧縮機、凝縮器、膨張機構、及び後述の図３に示す冷却器１８（蒸発器）を配管で環状に接続して構成された冷凍サイクルであり、当該冷却システムには、冷媒が封入される。
該冷凍システムが有する構成の一部は、中仕切り板１７によって仕切られている。
該冷凍システムが有する構成の一部は、中仕切り板１７によって仕切られている。
【0016】
図２は、製氷機構１１の正面図である。なお、図２では、製氷ユニット１０の前面を形成するパネル部材を省略して示す。図３は、製氷機構１１の拡大斜視図である。
製氷室１９は、製氷ユニット１０の内部に設けられ、上述の通り、下面が開放され、同様に上面が開放された氷貯氷庫１２に連通する。
この製氷室１９には、製氷機構１１が収められる。製氷機構１１は、冷却器１８と、製氷セル２１と、水皿２２と、第１水タンク２３と、循環ポンプ２４と、ドレンパン２５と、散水器２６と、開閉機構５０とを備える。
製氷室１９は、製氷ユニット１０の内部に設けられ、上述の通り、下面が開放され、同様に上面が開放された氷貯氷庫１２に連通する。
この製氷室１９には、製氷機構１１が収められる。製氷機構１１は、冷却器１８と、製氷セル２１と、水皿２２と、第１水タンク２３と、循環ポンプ２４と、ドレンパン２５と、散水器２６と、開閉機構５０とを備える。
【0017】
冷却器１８は、製氷装置１の蛇行する冷却管によって形成される。この冷却器１８の冷却管には、圧縮機から吐出された冷媒が流される。
この冷却室１９には、製氷機構１１が収められる。製氷機構１１は、冷却器１８と、製氷セル２１と、水皿２２と、第１水タンク２３と、循環ポンプ２４と、ドレンパン２５と、散水器２６と、開閉機構５０とを備える。製氷機構１１は、氷を生成する。
この冷却室１９には、製氷機構１１が収められる。製氷機構１１は、冷却器１８と、製氷セル２１と、水皿２２と、第１水タンク２３と、循環ポンプ２４と、ドレンパン２５と、散水器２６と、開閉機構５０とを備える。製氷機構１１は、氷を生成する。
【0018】
当該冷却器１８の下方には、複数の製氷セル２１が設けられる。各製氷セル２１は、いずれも下方に向かって開口した箱状に形成される。製氷ユニット１０では、各製氷セル２１に噴射された水が冷却器１８によって冷却されることで氷が形成される。すなわち、各製氷セル２１は、製氷装置１の製氷室として機能する。また、これらの製氷セル２１と上述した冷却器とが製氷装置１の製氷部として機能する。
【0019】
各製氷セル２１の下端には、当該製氷セル２１の下面全体を下方から覆う水皿２２が設けられる。この水皿２２の下端には、第１水タンク２３が固定され、さらに第１水タンク２３の下端には、第１水タンク２３の内部に給水された製氷用水を水皿２２の表面に形成された噴水口から各製氷セル２１に噴射する循環ポンプ２４が設けられる。
【0020】
水皿２２は、製氷ユニット１０の幅方向における一方の端部を回動可能に支持されており、水皿２２と、当該水皿２２に固定された第１水タンク２３と循環ポンプ２４とは、水皿２２の一端を軸に、一体となって上下方向に回動可能に設けられる。以下、水皿２２が各製氷セル２１を覆う位置にあるときを閉状態といい、水皿２２が回動して各製氷セル２１から離間した位置にあるときを開状態という。
【0021】
散水器２６は、水皿２２の幅方向における一方の端部の上方に設けられる。散水器２６は、一端が電磁弁２７と接続されている。電磁弁２７は、水道管２８と接続されている。水道管２８から供給される水は、電磁弁２７を通り、散水器２６に至る。散水器２６は、水皿２２の上に散水し、第１水タンク２３に水を供給する。散水器２６は、管状に形成されている。
【0022】
第１水タンク２３は、後述の第１水位センサ２１３を内部に備える。循環ポンプ２４は、循環ポンプ用第１配管２４Ａによって、第１水タンク２３と接続される。さらに、循環ポンプ２４は、循環ポンプ用第２配管２４Ｂによって、水皿２２と接続される。循環ポンプ２４は駆動すると、循環ポンプ用第１配管２４Ａを介して第１水タンク２３から水を揚水させ、循環ポンプ用第２配管２４Ｂの上部から水皿２２に水を供給する。循環ポンプ２４により水皿２２に供給された水は、その後第１水タンク２３に流れ込む。すなわち、循環ポンプ２４は第１水タンク２３と水皿２２とに水を循環させることができる。
第１水タンク２３、及び循環ポンプ２４の下方には、ドレンパン２５が設けられる。ドレンパン２５は、製氷機構１１のうち、水皿２２及び第１水タンク２３からの排水を受ける。
第１水タンク２３、及び循環ポンプ２４の下方には、ドレンパン２５が設けられる。ドレンパン２５は、製氷機構１１のうち、水皿２２及び第１水タンク２３からの排水を受ける。
【0023】
開閉機構５０は、減速機５１と、支持アーム５２と、ばね部材５３とを備える。
減速機５１は、正逆回転可能なモータであり、当該減速機５１は、開閉機構５０の動力源として機能する。開閉機構５０は、後述の水皿開閉センサ２１１を備える。
減速機５１は、正逆回転可能なモータであり、当該減速機５１は、開閉機構５０の動力源として機能する。開閉機構５０は、後述の水皿開閉センサ２１１を備える。
【0024】
図４は、オゾン水生成装置３９の拡大斜視図である。
オゾン水生成装置３９は、給水電磁弁２９、第２水タンク３０、給水ポンプ３１、オゾン水生成部３２、出口電磁弁３３、及び吐出パイプ３４を備える。なお、説明のため、図４では第２水タンク３０は断面を示している。
吐出パイプ３４は、「吐出器」の一例である。オゾン水生成部３２は、「オゾン水生成部」の一例である。
オゾン水生成装置３９は、給水電磁弁２９、第２水タンク３０、給水ポンプ３１、オゾン水生成部３２、出口電磁弁３３、及び吐出パイプ３４を備える。なお、説明のため、図４では第２水タンク３０は断面を示している。
吐出パイプ３４は、「吐出器」の一例である。オゾン水生成部３２は、「オゾン水生成部」の一例である。
【0025】
給水電磁弁２９、第１配管４０、第２水タンク３０、第２配管４２、給水ポンプ給水ポンプ３１、第３配管４３、オゾン水生成部３２、第４配管４４、出口電磁弁３３、及び吐出パイプ３４はこの順に接続するように形成されている。
【0026】
第２水タンク３０は、フロートスイッチ４１Ａと、排水パイプ４１Ｂとを備える。
洗浄工程の間、給水ポンプ３１は駆動され、第２水タンク３０内に貯留されている水がオゾン水生成部３２に供給される。そして、第２水タンク３０の水位が一定以下になると、フロートスイッチ４１ＡがОＮ状態となり、給水電磁弁２９が開いて、第２水タンク３０オゾン水生成部３２に水が供給される。フロートスイッチ４１Ａは、後述の第２水位センサ２１５を備える。
洗浄工程の間、給水ポンプ３１は駆動され、第２水タンク３０内に貯留されている水がオゾン水生成部３２に供給される。そして、第２水タンク３０の水位が一定以下になると、フロートスイッチ４１ＡがОＮ状態となり、給水電磁弁２９が開いて、第２水タンク３０オゾン水生成部３２に水が供給される。フロートスイッチ４１Ａは、後述の第２水位センサ２１５を備える。
【0027】
排水パイプ４１Ｂは管状に形成されており、排水パイプ４１Ｂの上面に達した水を、ドレンパン２５に向けて排出する。
【0028】
オゾン水生成装置３９は、通電されることにより、供給された水を電気分解してオゾン水を生成し、オゾン水を導出するものである。給水ポンプ３１が駆動されることによって第２水タンク３０から供給される水を、オゾン水生成部３２が電気分解してオゾン水を導出する。
オゾン水は、「洗浄用液体」の一例である。
オゾン水は、「洗浄用液体」の一例である。
【0029】
オゾン水生成装置３９によって生成されるオゾン水のオゾンの濃度は、主にオゾン水生成部３２に供給される水の流量に影響を受ける。すなわち、流量が大きいほど、オゾンの濃度は低下傾向にあり、流量が小さいほど、オゾンの濃度は増加傾向にある。
【0030】
【0031】
図５に示すように、散水器２６の下端には、鉛直下向きに開口し散水器２６の軸方向に沿って配列された複数の第１吐出孔２６ａが形成されている。吐出パイプ３４の下端には、鉛直下向きに開口し吐出パイプ３４の軸方向に沿って配列された複数の第２吐出孔３４ａが形成されている。散水器２６は、吐出パイプ３４と略平行に配置されている。吐出パイプ３４は、散水器２６よりも上方に配置されている。なお、吐出孔３４ａの開口方向は、鉛直下向きのほかに、横向きまたは斜め下向きであってもよい。
【0032】
散水器２６は、散水器２６の軸が、平面視において、吐出パイプ３４の軸と重畳しないように配置されている。吐出パイプ３４は、吐出パイプ３４の軸が、平面視において、散水器２６と重畳するように配置されている。すなわち、第２吐出孔３４ａの鉛直下向きに散水器２６があるように配置されている。平面視とは、図５において上から下に向かう方向に対応する。
なお、散水器２６の軸とは、管状の散水器２６の管軸２６Ｌである。また、吐出パイプ３４の軸とは、管状の吐出パイプ３４の管軸３４Ｌである。吐出パイプ３４は、管軸３４Ｌが散水器２６の管軸２６Ｌから幅Ｍ１だけずらすように配置されている。幅Ｍ１は、散水器２６の管軸２６Ｌから散水器２６の外周端までの半径Ｍ２よりも小さくなるように、散水器２６及び吐出パイプ３４は配置されている。
なお、散水器２６の軸とは、管状の散水器２６の管軸２６Ｌである。また、吐出パイプ３４の軸とは、管状の吐出パイプ３４の管軸３４Ｌである。吐出パイプ３４は、管軸３４Ｌが散水器２６の管軸２６Ｌから幅Ｍ１だけずらすように配置されている。幅Ｍ１は、散水器２６の管軸２６Ｌから散水器２６の外周端までの半径Ｍ２よりも小さくなるように、散水器２６及び吐出パイプ３４は配置されている。
【0033】
図６に示すように、第２吐出孔３４ａから吐出されたオゾン水は、散水器２６の上方に落下し、第１吐出孔２６ａの周縁を経由して滴下する。第２吐出孔３４ａから吐出されたオゾン水のうち、第２吐出孔３４ａから散水器２６の外側面に至るまでの流れは、主に２つ第1流れＤ１ａと、第２流れＤ１ｂとに分けられる。
【0034】
第１流れＤ１ａは、鉛直方向下向きに向かう流れである。第２流れＤ１ｂは、鉛直下向きに向かう第１流れＤ１ａから外れる流れである。
第２流れＤ１ｂが発生する要因の一つとしては、第２吐出孔３４ａの孔径や穿孔角度、バリの有無などの加工ばらつきに起因して、各第２吐出孔３４ａの流体抵抗が異なっていることが考えられる。したがって、散水器２６と吐出パイプ３４とを、できるだけ近づけて配置させることが望ましい。第２流れＤ１ｂのように、鉛直下向きに向かう第１流れＤ１ａから外れる方向への流れが発生したとしても、後述の第４流れＤ３のように、散水器２６の下端において散水器２６の軸方向の流れが発生することにより、第１吐出孔２６aが万遍なく洗浄される。
第２流れＤ１ｂが発生する要因の一つとしては、第２吐出孔３４ａの孔径や穿孔角度、バリの有無などの加工ばらつきに起因して、各第２吐出孔３４ａの流体抵抗が異なっていることが考えられる。したがって、散水器２６と吐出パイプ３４とを、できるだけ近づけて配置させることが望ましい。第２流れＤ１ｂのように、鉛直下向きに向かう第１流れＤ１ａから外れる方向への流れが発生したとしても、後述の第４流れＤ３のように、散水器２６の下端において散水器２６の軸方向の流れが発生することにより、第１吐出孔２６aが万遍なく洗浄される。
【0035】
散水器２６の外側面に至ったオゾン水が、散水器２６の下端に至るまでの流れは第３流れＤ２に分けられる。第３流れＤ２は、第１流れＤ１ａのオゾン水が、そのまま散水器２６の外側面を伝っていき、散水器２６の下端に至る流れである。
【0036】
第２流れＤ１ｂは、第３流れＤ２に合流する場合があり、この場合、第２流れＤ１ｂ及び第３流れＤ２のオゾン水が合わさり、流れの幅が大きくなる傾向にある。
【0037】
第４流れＤ３は、第１吐出孔２６ａが配列されている散水器２６の下部において、散水器２６の軸方向に、または第１吐出孔２６ａの配列方向を始めとする散水器２６の表面に沿って発生する流れである。第４流れＤ３は、複数の第１吐出孔２６ａを通過することが多いため、第１吐出孔２６ａは万遍なく洗浄される。次いで、オゾン水は第５流れＤ４として、水皿２２に向かって落下する。
【0038】
第４流れＤ３は、第４流れＤ３に含まれるオゾン水が多くなると、第５流れＤ４として落下する。第３流れＤ２が幅の大きい流れだと、第４流れＤ３から第５流れＤ４に移行しやすくなる。
【0039】
以上のようにして、オゾン水は第１吐出孔２６ａを洗浄する。
【0040】
図７に示すように、第１吐出孔２６ａは等間隔の幅Ｗ１を空けて形成されている。第２吐出孔３４ａは等間隔の幅Ｗ２を空けて形成されている。幅Ｗ１よりも幅Ｗ２方が小さくなるように形成されている。すなわち、第１吐出孔２６ａの各孔間のピッチよりも、第２吐出孔３４ａの各孔間のピッチの方が狭くなるように形成されている。
【0041】
また、第１吐出孔２６ａの直径よりも、第２吐出孔３４ａの直径のほうが小さく形成されている。
もし、第１吐出孔２６ａの鉛直方向と第２吐出孔３４ａの鉛直方向とが一致していれば、第１吐出孔２６ａと第２吐出孔３４ａとは同じ直径とし、各孔間のピッチも同じとすることができる。しかしながら、先ほど述べた加工ばらつきのほか、組立上の公差・ばらつきがあるため、第１吐出孔２６ａの鉛直方向と第２吐出孔３４ａの鉛直方向とを一致させるのは困難である。また、仮に第１吐出孔２６ａの位置と第２吐出孔３４ａの位置が鉛直方向で合っていたとしても、第２吐出孔３４ａから吐出されて散水器２６の表面を流れるオゾン水が真下に落ちるとは限らない。そのため、第１吐出孔２６ａの各孔間のピッチよりも、第２吐出孔３４ａの各孔間のピッチの方が狭く、第１吐出孔２６ａの直径よりも、第２吐出孔３４ａの直径のほうが小さく形成されている。これにより、第２吐出孔３４ａから吐出されて散水器２６の表面を流れるオゾン水が真下以外に流れても、隣の第２吐出孔３４ａから吐出されて散水器２６の表面を流れるオゾン水と重なり難くなる。
もし、第１吐出孔２６ａの鉛直方向と第２吐出孔３４ａの鉛直方向とが一致していれば、第１吐出孔２６ａと第２吐出孔３４ａとは同じ直径とし、各孔間のピッチも同じとすることができる。しかしながら、先ほど述べた加工ばらつきのほか、組立上の公差・ばらつきがあるため、第１吐出孔２６ａの鉛直方向と第２吐出孔３４ａの鉛直方向とを一致させるのは困難である。また、仮に第１吐出孔２６ａの位置と第２吐出孔３４ａの位置が鉛直方向で合っていたとしても、第２吐出孔３４ａから吐出されて散水器２６の表面を流れるオゾン水が真下に落ちるとは限らない。そのため、第１吐出孔２６ａの各孔間のピッチよりも、第２吐出孔３４ａの各孔間のピッチの方が狭く、第１吐出孔２６ａの直径よりも、第２吐出孔３４ａの直径のほうが小さく形成されている。これにより、第２吐出孔３４ａから吐出されて散水器２６の表面を流れるオゾン水が真下以外に流れても、隣の第２吐出孔３４ａから吐出されて散水器２６の表面を流れるオゾン水と重なり難くなる。
【0042】
さらに、第２吐出孔３４ａより吐出されるオゾン水（洗浄水）一本一本の流量が小さくなり、第２吐出孔３４ａの孔数が多くなるので、散水器２６の外側面を下向きに流れるオゾン水が、第１吐出孔２６ａが配列されている散水器２６の最下部まで流れて来ても、すぐには落下せずに、第４流れＤ３となって、他の流れに合流しやすくなるので、各第１吐出孔２６ａの周縁にオゾン水を行き渡らせることができる。さらに、第２吐出孔３４ａから吐出されるオゾン水の流量が小さくなることで、オゾン濃度は上がるので、洗浄（殺菌）効果が向上する。
【0043】
［１－１－２．制御系の構成］
図８は、製氷装置１の制御系に関わる要部を示すブロック図である。
製氷装置１は、製氷装置１を制御する制御装置２００を備える。
制御装置２００は、制御部２０１、駆動回路２０３、及びセンサ回路２０５を備える。制御部２０１は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）等のプロセッサー、後述する洗浄制御を始めとする、製氷装置１各部を制御するための制御プログラムの格納メモリおよび制御プログラムを実行するためのワークメモリ等を備え、プロセッサーによりプログラムを実行して、ソフトウェアとハードウェアとの協働により製氷装置１の各部を制御する。
図８は、製氷装置１の制御系に関わる要部を示すブロック図である。
製氷装置１は、製氷装置１を制御する制御装置２００を備える。
制御装置２００は、制御部２０１、駆動回路２０３、及びセンサ回路２０５を備える。制御部２０１は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）等のプロセッサー、後述する洗浄制御を始めとする、製氷装置１各部を制御するための制御プログラムの格納メモリおよび制御プログラムを実行するためのワークメモリ等を備え、プロセッサーによりプログラムを実行して、ソフトウェアとハードウェアとの協働により製氷装置１の各部を制御する。
【0044】
駆動回路２０３は、水皿開閉機構モータ２１７、循環ポンプモータ２１９、給水ポンプモータ２２１、給水電磁弁２９、出口電磁弁３３、電磁弁２７、及びオゾン水生成部３２に接続される。
【0045】
駆動回路２０３は、制御部２０１の制御に従って、水皿開閉機構モータ２１７に駆動電流を供給することにより、図３及び図８を参照して、水皿開閉機構モータ２１７により減速機５１を動作させ、開閉機構５０により水皿２２を開閉させる。
【0046】
駆動回路２０３は、制御部２０１の制御に従って、循環ポンプモータ２１９に駆動電流を供給することにより、図３及び図８を参照して、循環ポンプモータ２１９により循環ポンプ２４動作させて、水皿２２を経由し製氷セル２１に吹き付けて、第１水タンク２３の水を循環させる。
【0047】
駆動回路２０３は、制御部２０１の制御に従って、給水ポンプモータ２２１に駆動電流を供給することにより、図４及び図８を参照して、給水ポンプモータ２２１により給水ポンプ３１を動作させ、オゾン水生成部３２に水を供給させる。
【0048】
また、駆動回路２０３は、制御部２０１の制御に従って、給水電磁弁２９、出口電磁弁３３、及び電磁弁２７に駆動電流を供給することにより、各弁を開閉させる。
【0049】
【0050】
センサ回路２０５は、水皿開閉センサ２１１、第１水位センサ２１３、及び第２水位センサ２１５の各センサに接続される。センサ回路２０５は、制御部２０１の制御に従って、各センサの検出状態を取得する。例えば、センサ回路２０５は、各センサに動作用の電力を供給し、各センサが出力する検出信号を取得する。センサ回路２０５は、各センサの検出状態を制御装置２００に出力する。
【0051】
水皿開閉センサ２１１は、水皿２２は開状態、閉状態のうちいずれの状態であるかを検出する。第１水位センサ２１３は、第１水タンク２３の水位が、第１水位センサ２１３がある位置まで上がっているか否かを検出する。第２水位センサ２１５は、第２水タンク３０の水位が、第２水位センサ２１５がある位置まで上がっているか否かを検出する。
【0052】
【0053】
図９は、待機状態を示す断面模式図である。待機状態とは、製氷装置１が製氷を止め、水皿２２が閉状態にあるときである。待機状態では、第１水タンク２３は、散水器２６から供給された水Ｌを貯留する。待機状態において、水Ｌは水位ｈ１だけ貯留されている。第１水タンク２３は貯水案内板６４、排水口６０、及び排水案内板６２を備える。
【0054】
図１０は、排水工程、散水器洗浄工程、及び水皿洗浄工程を示す断面模式図である。
散水器洗浄工程では、制御部２０１は減速機５１（図３及び図８参照）を駆動させ、水皿２２を開状態にさせる。また、制御部２０１は、給水ポンプ３１及びオゾン水生成部３２（図３及び図８を参照）を動作させ、吐出パイプ３４からオゾン水を吐出させる。この制御部２０１の制御は、散水器洗浄制御の一例である。また、この制御部２０１による水皿２２の動作の制御は、製氷機構１１の動作の一例である。この工程により、散水器２６は洗浄される。
散水器洗浄工程では、制御部２０１は減速機５１（図３及び図８参照）を駆動させ、水皿２２を開状態にさせる。また、制御部２０１は、給水ポンプ３１及びオゾン水生成部３２（図３及び図８を参照）を動作させ、吐出パイプ３４からオゾン水を吐出させる。この制御部２０１の制御は、散水器洗浄制御の一例である。また、この制御部２０１による水皿２２の動作の制御は、製氷機構１１の動作の一例である。この工程により、散水器２６は洗浄される。
【0055】
水皿洗浄工程では、散水器２６を伝って、矢印Ｄ１１で示すようにオゾン水が落下し、水皿２２にかかる。水皿２２が開状態であるため、オゾン水は水皿２２の上面を矢印Ｄ１２に沿って流れ落ちる。次いで、オゾン水は矢印Ｄ１３で示すように、散水器２６とは反対側の水皿２２端部を流れて、排水口６０を通り、排水案内板６２に案内され、矢印Ｄ１５に沿ってドレンパン２５へと流れ出る。オゾン水は、矢印Ｄ１６で示すように、ドレンパン２５の上面を流れ排水される。この制御部２０１の制御は、水皿洗浄制御の一例である。これにより、主に水皿２２は洗浄される。
【0056】
排水工程では、水皿２２が開く際に第１水タンク２３が傾くことで、水Ｌが貯水案内板６４に案内され矢印Ｄ１４で示すように流れる。次いで、水Ｌは、排水口６０を通り、排水案内板６２に案内され、矢印Ｄ１５で示すように散水器２６からドレンパン２５へと流れ出る。水Ｌは、矢印Ｄ１６で示すように、ドレンパン２５の上面を流れ排水される。
以上の排水工程、散水器洗浄工程、及び水皿洗浄工程は同時に行われる。
以上の排水工程、散水器洗浄工程、及び水皿洗浄工程は同時に行われる。
【0057】
図１１は、貯水工程を示す断面模式図である。
貯水工程では、制御部２０１は減速機５１を駆動させ、水皿２２を閉状態にさせる。制御部２０１は、給水ポンプ３１及びオゾン水生成部３２を動作させ、吐出パイプ３４からオゾン水を吐出させる。オゾン水は、散水器２６と、水皿２２とを経由して、第１水タンク２３に至る。オゾン水は、矢印Ｄ２１で示すように、散水器２６から水皿２２へと流下し、矢印Ｄ２２で示すように、水皿２２の孔２２Ａから第１水タンク２３へと流下する。オゾン水は、第１水タンク２３に貯められる。この制御部２０１の制御は、第１水タンク洗浄制御の一例である。
なお、吐出パイプ３４から散水器２６にオゾン水を吐出して水皿２２を経由してオゾン水を投入するため、第１水タンク２３用の投入口は設けていないが、該投入口を設けてもよい。
貯水工程では、制御部２０１は減速機５１を駆動させ、水皿２２を閉状態にさせる。制御部２０１は、給水ポンプ３１及びオゾン水生成部３２を動作させ、吐出パイプ３４からオゾン水を吐出させる。オゾン水は、散水器２６と、水皿２２とを経由して、第１水タンク２３に至る。オゾン水は、矢印Ｄ２１で示すように、散水器２６から水皿２２へと流下し、矢印Ｄ２２で示すように、水皿２２の孔２２Ａから第１水タンク２３へと流下する。オゾン水は、第１水タンク２３に貯められる。この制御部２０１の制御は、第１水タンク洗浄制御の一例である。
なお、吐出パイプ３４から散水器２６にオゾン水を吐出して水皿２２を経由してオゾン水を投入するため、第１水タンク２３用の投入口は設けていないが、該投入口を設けてもよい。
【0058】
図１２は、第１水タンク洗浄工程及び放置工程を示す断面模式図である。
第１水タンク２３内部には、貯水工程を経て、オゾン水と水Ｌとが混ざった希釈オゾン水ＬＯが貯められる。希釈オゾン水ＬＯは、低濃度のオゾン水である。希釈オゾン水ＬＯの水位ｈ３は、待機状態の水Ｌの水位ｈ１よりも高い。また、希釈オゾン水ＬＯは、上層ほどオゾン水の濃度が大きい傾向にある。希釈オゾン水ＬＯにより、第１水タンク２３の内部は洗浄される。
第１水タンク２３内部には、貯水工程を経て、オゾン水と水Ｌとが混ざった希釈オゾン水ＬＯが貯められる。希釈オゾン水ＬＯは、低濃度のオゾン水である。希釈オゾン水ＬＯの水位ｈ３は、待機状態の水Ｌの水位ｈ１よりも高い。また、希釈オゾン水ＬＯは、上層ほどオゾン水の濃度が大きい傾向にある。希釈オゾン水ＬＯにより、第１水タンク２３の内部は洗浄される。
【0059】
通常、第１水タンク２３は、第１水位センサ２１３が検出される水位まで水が満たされており、該水位は図９に示す水Ｌの水位ｈ１に対応する。第１水タンク洗浄工程では第１水位センサ２１３による検出位置を超える量の水位ｈ３になるように、オゾン水を投入して水位を上げている。
【0060】
本開示に係る第１水タンク２３内をオゾン水で満たすためには、第１水タンク２３が空の状態であると、略１０リットルの水が必要になる。そのため、第１水タンクをオゾン水生成装置３９で生成したオゾン水のみで満たすのには時間がかかる。
洗浄時間が長くなると、また第１水タンク２３をオゾン水で満たすまでに時間がかかると、オゾン水のオゾン濃度が下がっていくため、第１水タンク２３内に水を残して、オゾン水を投入して希釈する方が好ましい。
洗浄時間が長くなると、また第１水タンク２３をオゾン水で満たすまでに時間がかかると、オゾン水のオゾン濃度が下がっていくため、第１水タンク２３内に水を残して、オゾン水を投入して希釈する方が好ましい。
【0061】
あらかじめ第１水タンク２３に水を残しておくことにより、生成されたオゾン水が第１水タンク２３に投入された時の落下による衝撃が、第１水タンク２３が空の時よりも緩和され、第１水タンク２３に投入されたオゾン水のオゾン濃度の低下が抑制される。
【0062】
また、第１水タンク２３内に残った水と、投入されたオゾン水が完全に混合されずに、上層の方がオゾン水の濃度が高くなる傾向があるため、第１水タンク２３の通常水位よりも上の部分は、高い濃度のオゾン水で洗浄ができる。さらに、第１水タンク洗浄工程では第１水位センサ２１３による検出位置を超える量の水位ｈ３として、通常の製氷工程または待機時における水位ｈ１よりも高くすることで、第１水タンク２３の当該水位部分の洗浄を可能としている。
【0063】
また、図１２に示す状態で、放置工程では、各部は所定期間（例えば、１分）放置される。
【0064】
図１３は、ドレンパン洗浄工程を示す断面模式図である。
ドレンパン洗浄工程では、図３及び図８に示すように、制御部２０１は減速機５１を駆動させ、水皿２２を開状態にさせる。水皿２２が開く際に第１水タンク２３が傾くことで、希釈オゾン水ＬＯが貯水案内板６４に案内され矢印Ｄ３１に示す方向に流れる。次いで、希釈オゾン水ＬＯは、排水口６０を通り、排水案内板６２に案内され、矢印Ｄ３２で示すようにドレンパン２５へと流れ出る。希釈オゾン水ＬＯは、矢印Ｄ３３に示す方向に、ドレンパン２５の上面を流れ排水される。この制御部２０１の制御は、ドレンパン洗浄制御の一例である。これにより、ドレンパン２５は洗浄される。
なお、矢印Ｄ３３で示すように流れる希釈オゾン水ＬＯは、図１０で示した矢印Ｄ１６で示すように流れる水よりも、流量が大きい。このため、ドレンパン２５の上面全体が洗浄される。
ドレンパン洗浄工程では、図３及び図８に示すように、制御部２０１は減速機５１を駆動させ、水皿２２を開状態にさせる。水皿２２が開く際に第１水タンク２３が傾くことで、希釈オゾン水ＬＯが貯水案内板６４に案内され矢印Ｄ３１に示す方向に流れる。次いで、希釈オゾン水ＬＯは、排水口６０を通り、排水案内板６２に案内され、矢印Ｄ３２で示すようにドレンパン２５へと流れ出る。希釈オゾン水ＬＯは、矢印Ｄ３３に示す方向に、ドレンパン２５の上面を流れ排水される。この制御部２０１の制御は、ドレンパン洗浄制御の一例である。これにより、ドレンパン２５は洗浄される。
なお、矢印Ｄ３３で示すように流れる希釈オゾン水ＬＯは、図１０で示した矢印Ｄ１６で示すように流れる水よりも、流量が大きい。このため、ドレンパン２５の上面全体が洗浄される。
【0065】
図１４は、水皿閉塞工程を示す断面模式図である。
水皿閉塞工程では、図３及び図８に示すように、制御部２０１は減速機５１を駆動させ、水皿２２を閉状態にさせる。この工程での希釈オゾン水ＬＯの水位ｈ４は、図１１で示す、排水工程後の水Ｌの水位ｈ２と略同一である。
水皿閉塞工程では、図３及び図８に示すように、制御部２０１は減速機５１を駆動させ、水皿２２を閉状態にさせる。この工程での希釈オゾン水ＬＯの水位ｈ４は、図１１で示す、排水工程後の水Ｌの水位ｈ２と略同一である。
【0066】
図１５は、すすぎ工程を示す断面模式図である。
すすぎ工程では、制御部２０１は、電磁弁２７を開状態にし、散水器２６から水を吐出させる。吐出された水は、矢印Ｄ４１に示すように水皿２２に流れ込む。散水器２６から水皿２２へと流下した水は、矢印Ｄ４２で示すように、水皿２２の孔２２Ａ（図１７、図１９参照）から第１水タンク２３へと流下する。また、制御部２０１は、循環ポンプ２４を駆動させ、第１水タンク２３内部の水を循環させる。循環ポンプ２４によって、第１水タンク２３内部の水は、矢印Ｄ４３で示すように循環ポンプ用第２配管２４Ｂを介して水皿２２の上部へと揚水されたのち、再び第１水タンク２３に流れ、これが繰り返されて循環する。すすぎ工程では、水皿閉塞工程のオゾン水を含む希釈オゾン水ＬＯは、散水器２６から供給される水により希釈され、更に循環ポンプ２４により攪拌される。
通常、循環ポンプ２４は、製氷機構１１が氷を生成時に、第１水タンク２３内の水を水皿２２に供給するときに駆動する。すすぎ工程では、第１水タンク２３内の希釈オゾン水ＬＯを汲み上げ、第１水タンク２３の上部、及び、水皿２２の下側の下面から再び第１水タンク２３内に希釈オゾン水ＬＯを落下させることで循環させる。循環ポンプ２４による循環と、水皿２２から第１水タンク２３への落下に伴う衝撃により、第１水タンク２３内のオゾン水のオゾン濃度は低下する。
この制御部２０１の制御は、すすぎ制御の一例である。すすぎ工程では、以上の動作により、第１水タンク２３内に貯留されているオゾン水のオゾン濃度を低下させている。さらに、オゾン水のオゾン濃度の低下に伴い、製氷室や貯氷室などにオゾンガスが充満している空間が形成されるため、製氷装置１の内部、特に製氷ユニット１０の全体において除菌効果を得ることが可能である。
すすぎ工程では、制御部２０１は、電磁弁２７を開状態にし、散水器２６から水を吐出させる。吐出された水は、矢印Ｄ４１に示すように水皿２２に流れ込む。散水器２６から水皿２２へと流下した水は、矢印Ｄ４２で示すように、水皿２２の孔２２Ａ（図１７、図１９参照）から第１水タンク２３へと流下する。また、制御部２０１は、循環ポンプ２４を駆動させ、第１水タンク２３内部の水を循環させる。循環ポンプ２４によって、第１水タンク２３内部の水は、矢印Ｄ４３で示すように循環ポンプ用第２配管２４Ｂを介して水皿２２の上部へと揚水されたのち、再び第１水タンク２３に流れ、これが繰り返されて循環する。すすぎ工程では、水皿閉塞工程のオゾン水を含む希釈オゾン水ＬＯは、散水器２６から供給される水により希釈され、更に循環ポンプ２４により攪拌される。
通常、循環ポンプ２４は、製氷機構１１が氷を生成時に、第１水タンク２３内の水を水皿２２に供給するときに駆動する。すすぎ工程では、第１水タンク２３内の希釈オゾン水ＬＯを汲み上げ、第１水タンク２３の上部、及び、水皿２２の下側の下面から再び第１水タンク２３内に希釈オゾン水ＬＯを落下させることで循環させる。循環ポンプ２４による循環と、水皿２２から第１水タンク２３への落下に伴う衝撃により、第１水タンク２３内のオゾン水のオゾン濃度は低下する。
この制御部２０１の制御は、すすぎ制御の一例である。すすぎ工程では、以上の動作により、第１水タンク２３内に貯留されているオゾン水のオゾン濃度を低下させている。さらに、オゾン水のオゾン濃度の低下に伴い、製氷室や貯氷室などにオゾンガスが充満している空間が形成されるため、製氷装置１の内部、特に製氷ユニット１０の全体において除菌効果を得ることが可能である。
【0067】
図１６は、すすぎ水排水工程を示す断面模式図である。
すすぎ水排水工程では、制御部２０１は減速機５１を駆動させ、水皿２２を開状態にさせる。水皿２２が開く際に第１水タンク２３が傾くことで、前述のすすぎ工程における希釈オゾン水ＬＯが貯水案内板６４に案内され流れ、排水口６０を通り、排水案内板６２に案内され、ドレンパン２５へと流れ出る。すすぎ工程と、すすぎ水排水工程とを所定回数（例えば、二回）繰り返すことで、第１水タンク２３内はオゾンを溶存しない水で満たされる。この制御部２０１の制御は、すすぎ制御の一例である。
すすぎ水排水工程では、制御部２０１は減速機５１を駆動させ、水皿２２を開状態にさせる。水皿２２が開く際に第１水タンク２３が傾くことで、前述のすすぎ工程における希釈オゾン水ＬＯが貯水案内板６４に案内され流れ、排水口６０を通り、排水案内板６２に案内され、ドレンパン２５へと流れ出る。すすぎ工程と、すすぎ水排水工程とを所定回数（例えば、二回）繰り返すことで、第１水タンク２３内はオゾンを溶存しない水で満たされる。この制御部２０１の制御は、すすぎ制御の一例である。
【0068】
なお、オゾン水からオゾンガスが出ることで、先にも述べた製氷装置１の内部、特に製氷ユニット１０、氷が氷貯氷庫１２に落下する時に、氷が接触する中仕切り板１７（図１及び２参照）、及び氷貯氷庫１２内の除菌効果も期待できる。散水器２６を経由して水皿２２や第１水タンク２３内を洗浄する際にもオゾンガスが出ることで、第１水タンク２３の上面または水皿２２の水回路内または冷却器１８にもオゾンガスによる洗浄が可能となる。また、ドレンパン２５に排水される時に出たオゾンガスで、第１水タンク２３の側面やドレンパン２５の縁部分にも洗浄効果を与えることができる。
【0069】
図１７は、水皿洗浄工程における水皿２２の斜視図である。図１０を用いて説明したように、水皿洗浄工程では、オゾン水は水皿２２の上面を矢印Ｄ１２で示すように流れ落ちる。次いで、オゾン水は矢印Ｄ１３で示すように流れて、排水口６０を通り、排水案内板６２に案内され、矢印Ｄ１５で示すようにドレンパン２５へと流れ出る。
【0070】
図１８は、水皿洗浄工程における水皿２２の拡大側面断面図である。図１０を用いて説明したように、排水工程では、水皿２２が開く際に第１水タンク２３が傾くことで、水Ｌが貯水案内板６４に案内され矢印Ｄ１４で示すように流れる。次いで、水Ｌは、排水口６０を通り、排水案内板６２に案内され、矢印Ｄ１５で示すようにドレンパン２５へと流れ出る。水Ｌは、矢印Ｄ１６で示すように、ドレンパン２５の上面を流れ排水される。
【0071】
図１９は、貯水工程における水皿２２の拡大上面図である。図２０は、貯水工程における水皿２２の拡大斜視図である。
水皿２２は、製氷セル２１との対向面から第１水タンク２３との対向面へと貫通する複数の孔２２Ａを備える。図１１を用いて説明したように、貯水工程では、吐出パイプ３４からオゾン水が吐出される。オゾン水は、水皿２２が閉じている時は、製氷セル２１に覆われている孔２２Ａからはオゾン水はほとんど抜けて行かず、製氷セル２１に覆われていない水皿２２のスペースＳに溜まっていき、そのスペースＳに設けられた孔２２Ａを通じて第１水タンク２３に供給される。
水皿２２は、製氷セル２１との対向面から第１水タンク２３との対向面へと貫通する複数の孔２２Ａを備える。図１１を用いて説明したように、貯水工程では、吐出パイプ３４からオゾン水が吐出される。オゾン水は、水皿２２が閉じている時は、製氷セル２１に覆われている孔２２Ａからはオゾン水はほとんど抜けて行かず、製氷セル２１に覆われていない水皿２２のスペースＳに溜まっていき、そのスペースＳに設けられた孔２２Ａを通じて第１水タンク２３に供給される。
【0072】
図２１は、ドレンパン２５の上面図である。
ドレンパン２５は、ドレンパン２５に流れ込む液体をドレンパン排水口２５Ｃへ案内する案内リブ２５Ａを３つ備える。ドレンパン２５は、谷部２５Ｂに向かって傾斜するように形成されている。谷部２５Ｂは、ドレンパン２５に流れ込む液体をドレンパン排水口２５Ｃへ案内する。
ドレンパン２５は、ドレンパン２５に流れ込む液体をドレンパン排水口２５Ｃへ案内する案内リブ２５Ａを３つ備える。ドレンパン２５は、谷部２５Ｂに向かって傾斜するように形成されている。谷部２５Ｂは、ドレンパン２５に流れ込む液体をドレンパン排水口２５Ｃへ案内する。
【0073】
図１３を用いて説明したように、ドレンパン洗浄工程では、希釈オゾン水ＬＯは、矢印Ｄ３３で示すように、ドレンパン２５の上面を流れ、排水される。これにより、ドレンパン２５は洗浄される。矢印Ｄ３３で示すように流れる希釈オゾン水ＬＯの流量は、ドレンパン２５の隅部まで希釈オゾン水ＬＯが行き渡るように設定されている。
【0074】
また、制御部２０１は、貯氷工程においても電磁弁２７、給水電磁弁２９、出口電磁弁３３、給水ポンプモータ２２１、オゾン水生成部３２を制御して、通常の貯氷工程における水位よりも高い水位のオゾン水を第１水タンク２３に投入してもよい。その制御方法にはいくつかが考えられるが、例えば以下のような制御が考えられる。
１）ポンプモータ２２１の駆動時間でオゾン水の投入量を制御する。
２）流量計を設けて所定量に達するまでポンプモータ２２１を駆動する。
３）第1水タンク２３に、新たにもしくは置き換えで水位センサを設けて、水位を検出する。
また、すすぎ工程では、制御部２０１は、第１水位センサ２１３から出力される第１水タンクの水位に基づいて、所定の水位になるように電磁弁２７を制御する。
１）ポンプモータ２２１の駆動時間でオゾン水の投入量を制御する。
２）流量計を設けて所定量に達するまでポンプモータ２２１を駆動する。
３）第1水タンク２３に、新たにもしくは置き換えで水位センサを設けて、水位を検出する。
また、すすぎ工程では、制御部２０１は、第１水位センサ２１３から出力される第１水タンクの水位に基づいて、所定の水位になるように電磁弁２７を制御する。
【0075】
［１－３．効果］
以上説明したように、製氷装置洗浄システム１０００は、複数の部材に除菌水を吐出することなく、最小限のデバイスを活用してシステムを構成できることで、各部材の衛生性を確保することができる。
以上説明したように、製氷装置洗浄システム１０００は、複数の部材に除菌水を吐出することなく、最小限のデバイスを活用してシステムを構成できることで、各部材の衛生性を確保することができる。
【0076】
（実施の形態２）
次に、実施の形態２について説明する。
実施の形態２の説明では、実施の形態１の製氷装置１の各部の構成要素と同じ構成要素については、同一の符号を付して詳細な説明を適宜に省略する。
次に、実施の形態２について説明する。
実施の形態２の説明では、実施の形態１の製氷装置１の各部の構成要素と同じ構成要素については、同一の符号を付して詳細な説明を適宜に省略する。
【0077】
【0078】
オゾン水生成装置１３９は、供給管１１０、フィルター１１２、第５配管１１４、給水ポンプ３１、第３配管４３、オゾン水生成部３２、第４配管４４、出口電磁弁３３、及び吐出パイプ３４を備え、この順に接続される。これらは、「供給機構」の一例である。すなわち、オゾン水は、第１水タンク２３、フィルター１１２、オゾン水生成部３２、第１水タンク２３の順に循環することができる。
【0079】
供給管１１０は、第１水タンク２３と、第１水タンク２３の下部に設けられた接続部１１０Ａを介して接続される。第１水タンク２３から供給される水は、供給管１１０からフィルター１１２に流れる。フィルター１１２は、液体に溶存する気体を採取できるフィルターであればよい。フィルター１１２として、例えば、活性炭製のフィルターが好適である。
【0080】
フィルター１１２を通過した水は、第５配管１１４を経由して給水ポンプ３１に至る。その他の構成の説明は、実施の形態１におけるオゾン水生成装置３９と同様である。
実施の形態２は、実施の形態１の構成から、第２水タンク３０、給水電磁弁２９等が省略された構成である。
実施の形態２は、実施の形態１の構成から、第２水タンク３０、給水電磁弁２９等が省略された構成である。
【0081】
オゾン水生成装置１３９は、例えば、第１水タンク洗浄工程において、第１水タンク２３内の希釈オゾン水ＬＯを利用してオゾン水を生成する。
オゾン水をオゾン水生成部３２に供給することは、電極の劣化等の観点から不適である。
オゾン水生成装置１３９は、接続部１１０Ａと給水ポンプ３１との間にフィルター１１２を備えるため、オゾン水のオゾン濃度を低下させてからオゾン水生成部３２に水を供給できる。
オゾン水をオゾン水生成部３２に供給することは、電極の劣化等の観点から不適である。
オゾン水生成装置１３９は、接続部１１０Ａと給水ポンプ３１との間にフィルター１１２を備えるため、オゾン水のオゾン濃度を低下させてからオゾン水生成部３２に水を供給できる。
【0082】
また、第１水タンク２３内の水は製氷運転時に０度に近い水温になっている。オゾン水のオゾン濃度は水温が低いほど大きくなるため、第１水タンク２３内の水によってオゾン水を生成することで、製氷装置洗浄システム１０００の洗浄効果を上げることができる。
【0083】
［２－２．動作］
実施の形態２における貯水工程では、制御部２０１は、第１水位センサ２１３から出力される第１水タンク２３の水位に基づいて、水位が所定の水位になるように給水電磁弁２７、出口電磁弁３３、ポンプモータ２２１、オゾン水生成部３２を制御する。
供給管１１０、フィルター１１２、第５配管１１４、給水ポンプ３１、第３配管４３、オゾン水生成部３２、第４配管４４、出口電磁弁３３、及び吐出パイプ３４で構成される供給機構を用いて、第１水タンク２３内に貯留する液体をオゾン水生成部３２に供給させ、オゾン水生成部３２にオゾン水を生成させる。該液体は、水Ｌ、オゾン水あるいは水とオゾン水との混合オゾン水である希釈オゾン水ＬＯのいずれかである。
すなわち、供給機構によって、第１水タンク２３内に貯留する液体をオゾン水生成部３２に供給させ、オゾン水生成部３２にオゾン水を生成させる。また、液体のオゾン水生成部への供給は、製氷機構１１による氷の非生成時に実行される。
その他は、実施の形態２においても、実施の形態１と同様な動作をする。
実施の形態２における貯水工程では、制御部２０１は、第１水位センサ２１３から出力される第１水タンク２３の水位に基づいて、水位が所定の水位になるように給水電磁弁２７、出口電磁弁３３、ポンプモータ２２１、オゾン水生成部３２を制御する。
供給管１１０、フィルター１１２、第５配管１１４、給水ポンプ３１、第３配管４３、オゾン水生成部３２、第４配管４４、出口電磁弁３３、及び吐出パイプ３４で構成される供給機構を用いて、第１水タンク２３内に貯留する液体をオゾン水生成部３２に供給させ、オゾン水生成部３２にオゾン水を生成させる。該液体は、水Ｌ、オゾン水あるいは水とオゾン水との混合オゾン水である希釈オゾン水ＬＯのいずれかである。
すなわち、供給機構によって、第１水タンク２３内に貯留する液体をオゾン水生成部３２に供給させ、オゾン水生成部３２にオゾン水を生成させる。また、液体のオゾン水生成部への供給は、製氷機構１１による氷の非生成時に実行される。
その他は、実施の形態２においても、実施の形態１と同様な動作をする。
【0084】
［２－３．効果］
【0085】
以上説明したように、実施の形態２における製氷装置１は、第１貯水タンク２３と、第１水タンク２３から供給される水で氷を生成する製氷機構１１と、オゾン水を生成するオゾン水生成部３２と、第１水タンク２３内に貯留する液体をオゾン水生成部３２に供給可能とする供給機構と、を備える。
【0086】
これによれば、洗浄用液体としてオゾン水を使用し、その高オゾン濃度化を図りながら、新たな部品の追加が低減され、限られた配置スペースが有効に活用されて、製氷機構１１のより効率的な洗浄が可能となる。
【0087】
また、該液体は、水Ｌ、オゾン水あるいは水とオゾン水との混合オゾン水の一例である希釈オゾン水ＬＯのいずれかであってもよい。
【0088】
これによれば、オゾン水生成部３２に供給される液体の種類に限らずにオゾン水を生成できるため、洗浄効率が向上する。
【0089】
また、オゾン水生成部３２と、フィルター１１２とを有するオゾン水生成装置１３９を備え、オゾン水生成装置１３９は、第１水タンク２３、フィルター１１２、オゾン水生成部３２に前記オゾン水を循環させてもよい。
【0090】
これによれば、オゾンを含む希釈オゾン水ＬＯの溶存するオゾン成分を採取できる。そのため、オゾン水生成部３２の劣化を抑制できる。
【0091】
フィルター１１２は、活性炭であってもよい。
【0092】
これによれば、オゾンを含む希釈オゾン水ＬＯの溶存するオゾン成分を採取できる。そのため、オゾン水生成部３２の劣化を抑制できる。
【0093】
第１水タンク２３と、第１水タンク２３から供給される水で氷を生成する製氷機構１１と、を備える製氷装置１における洗浄方法であって、供給機構を用いて第１水タンク２３内に貯留する液体をオゾン水生成部３２に供給させ、オゾン水生成部３２にオゾン水を生成させる洗浄方法。
【0094】
これによれば、洗浄用液体としてオゾン水を使用し、その高オゾン濃度化を図りながら、新たな部品の追加が低減され、限られた配置スペースが有効に活用されて、製氷機構のより効率的な洗浄が可能となる。
【0095】
また、さらに、洗浄方法は、該液体のオゾン水生成部３２への供給を、製氷機構１１による氷の非生成時に実行させてもよい。
【0096】
これによれば、製氷機構１１や水回路の洗浄を人手により行う頻度をできるだけ低減させることができる。
【0097】
（他の実施の形態）
以上のように、本出願において開示する技術の例示として、実施の形態１および２を説明した。しかしながら、本開示における技術は、これに限定されず、変更、置き換え、付加、省略などを行った実施の形態にも適用できる。また、上記実施の形態で説明した各構成要素を組み合わせて、新たな実施の形態とすることも可能である。
以上のように、本出願において開示する技術の例示として、実施の形態１および２を説明した。しかしながら、本開示における技術は、これに限定されず、変更、置き換え、付加、省略などを行った実施の形態にも適用できる。また、上記実施の形態で説明した各構成要素を組み合わせて、新たな実施の形態とすることも可能である。
【0098】
例えば、除菌水としてオゾン水を例示したが、除菌水は、洗浄剤を混ぜた水や、塩素水であってもよい。
また、セル式の製氷機構１１を例示して説明したが、オーガ式、流下式等の各種の製氷機構を採用してもよい。
また、セル式の製氷機構１１を例示して説明したが、オーガ式、流下式等の各種の製氷機構を採用してもよい。
【0099】
図９から図１６に示した動作の工程は、動作の理解を容易にするために、主な工程の内容に応じて分割したものであり、工程の分割の仕方や名称によって、動作が限定されることはない。工程の内容に応じて、さらに多くの工程に分割してもよい。また、１つの工程がさらに多くの工程を含むように分割してもよい。また、その工程の順番は、本開示の趣旨に支障のない範囲で適宜に入れ替えてもよい。
【0100】
（付記）
以上の実施の形態の記載により、下記の技術が開示される。
以上の実施の形態の記載により、下記の技術が開示される。
【0101】
（技術１）貯水タンクと、前記貯水タンクから供給される水で氷を生成する製氷機構と、オゾン水を生成するオゾン水生成部と、前記貯水タンク内に貯留する液体を前記オゾン水生成部に供給可能とする供給機構と、を備える製氷装置。
これによれば、洗浄用液体としてオゾン水を使用し、その高オゾン濃度化を図りながら、新たな部品の追加が低減され、限られた配置スペースが有効に活用されて、製氷機構のより効率的な洗浄が可能となる。
これによれば、洗浄用液体としてオゾン水を使用し、その高オゾン濃度化を図りながら、新たな部品の追加が低減され、限られた配置スペースが有効に活用されて、製氷機構のより効率的な洗浄が可能となる。
【0102】
（技術２）前記液体は、前記水、前記オゾン水あるいは前記水と前記オゾン水との混合オゾン水のいずれかである、技術１に記載の製氷装置。
これによれば、第１水タンクからオゾンを含む水が供給された場合でも、フィルターにより溶存するオゾン成分を採取できる。そのため、オゾンデバイスの劣化を抑制できる。
これによれば、第１水タンクからオゾンを含む水が供給された場合でも、フィルターにより溶存するオゾン成分を採取できる。そのため、オゾンデバイスの劣化を抑制できる。
【0103】
（技術３）前記オゾン水生成部と、フィルターとを有するオゾン水生成装置を備え、前記オゾン水生成装置は、前記貯水タンク、前記フィルター、前記オゾン水デバイスに前記オゾン水を循環させる、技術１または技術２に記載の製氷装置。
これによれば、オゾンを含む混合オゾン水の溶存するオゾン成分の採取できる。そのため、オゾン水生成部の劣化を抑制できる。
これによれば、オゾンを含む混合オゾン水の溶存するオゾン成分の採取できる。そのため、オゾン水生成部の劣化を抑制できる。
【0104】
（技術４）前記フィルターは、活性炭である、技術２に記載の製氷機。
これによれば、オゾンを含む混合オゾン水の溶存するオゾン成分の採取できる。そのため、オゾン水生成部の劣化を抑制できる。
これによれば、オゾンを含む混合オゾン水の溶存するオゾン成分の採取できる。そのため、オゾン水生成部の劣化を抑制できる。
【0105】
（技術５）貯水タンクと、前記貯水タンクから供給される水で氷を生成する製氷機構と、を備える製氷装置における洗浄方法であって、供給機構を用いて前記貯水タンク内に貯留する液体をオゾン水生成部に供給させ、前記オゾン水生成部にオゾン水を生成させる洗浄方法。
これによれば、洗浄用液体としてオゾン水を使用し、その高オゾン濃度化を図りながら、新たな部品の追加が低減され、限られた配置スペースが有効に活用されて、製氷機構のより効率的な洗浄が可能となる。
これによれば、洗浄用液体としてオゾン水を使用し、その高オゾン濃度化を図りながら、新たな部品の追加が低減され、限られた配置スペースが有効に活用されて、製氷機構のより効率的な洗浄が可能となる。
【0106】
（技術６）前記液体の前記オゾン水生成部への供給を、前記製氷機構による氷の非生成時に実行させる、技術５に記載の洗浄方法。
これによれば、製氷機構や水回路の洗浄を人手により行う頻度をできるだけ低減させることができる。
これによれば、製氷機構や水回路の洗浄を人手により行う頻度をできるだけ低減させることができる。
【産業上の利用可能性】
【0107】
本開示は、除菌水を用いて洗浄する製氷装置に適用可能である。
【符号の説明】
【0108】
１ 製氷装置
１０ 製氷機
１１ 製氷機構
１２ 氷塊貯氷庫
１８ 冷却器
２１ 製氷セル
２２ 水皿
２３ 第１水タンク（貯水タンク）
２４ 循環ポンプ
２５ ドレンパン
２６ 散水器
３０ 第２水タンク
３２ オゾンデバイス
３４ 吐出パイプ（吐出器）
３９、１３９ オゾン水生成装置
４２ 第２配管
５０ 開閉機構
１１０ 供給管（配管）
１１２ フィルター
２００ 制御装置
１０００ 製氷装置洗浄システム
１０ 製氷機
１１ 製氷機構
１２ 氷塊貯氷庫
１８ 冷却器
２１ 製氷セル
２２ 水皿
２３ 第１水タンク（貯水タンク）
２４ 循環ポンプ
２５ ドレンパン
２６ 散水器
３０ 第２水タンク
３２ オゾンデバイス
３４ 吐出パイプ（吐出器）
３９、１３９ オゾン水生成装置
４２ 第２配管
５０ 開閉機構
１１０ 供給管（配管）
１１２ フィルター
２００ 制御装置
１０００ 製氷装置洗浄システム
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】