特開 2025-12185 搬送装置、レーザ照射装置、搬送方法、及び有機ＥＬディスプレイ装置の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2025012185

(43)【公開日】2025-01-24

(54)【発明の名称】搬送装置、レーザ照射装置、搬送方法、及び有機ＥＬディスプレイ装置の製造方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/677 20060101AFI20250117BHJP

   H01L 21/268 20060101ALI20250117BHJP

【ＦＩ】

H01L21/68 A

H01L21/268 G

【審査請求】未請求

【請求項の数】25

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023114838

(22)【出願日】2023-07-13

(71)【出願人】

【識別番号】521476506

【氏名又は名称】ＪＳＷアクティナシステム株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100103894

【弁理士】

【氏名又は名称】家入 健

(72)【発明者】

【氏名】藤岡 恭平

(72)【発明者】

【氏名】小田嶋 保

【テーマコード（参考）】

5F131

【Ｆターム（参考）】

5F131AA03

5F131AA21

5F131AA33

5F131BA24

5F131CA12

5F131CA32

5F131DA02

5F131DA33

5F131DA42

5F131DB92

5F131DC12

5F131DC13

5F131DC16

5F131DC19

5F131DC26

5F131EA04

5F131EA14

5F131EA17

5F131EA22

5F131EA23

5F131EA24

5F131EB42

5F131EB43

(57)【要約】

【課題】適切に基板を搬送することができる搬送装置、レーザ照射装置、搬送方法、半導体装置の製造方法を提供することである。
【解決手段】本実施の形態にかかる搬送装置６は、搬送方向に前記基板を移動する搬送ユニットを備え、搬送ユニットが、基板を保持する保持機構と、保持機構が連結されたベルト７０９と、ベルト７０９が掛け回されたプーリ７１６と、プーリ７１６とベルト７０９との接触部分を覆うカバー７１５と、を備え、接触部分で発生した塵を集塵するために、カバー７１５内の空間を排気する排気手段を備えている。
【選択図】図８

【特許請求の範囲】

【請求項1】

レーザ光を基板に照射するために、前記基板を搬送する搬送装置であって、
搬送方向に前記基板を移動する搬送ユニットを備え、
前記搬送ユニットが、
前記基板を保持する保持機構と、
前記保持機構が連結されたベルトと、
前記ベルトが掛け回されたプーリと、
前記プーリを回転させる駆動機構と、
前記プーリと前記ベルトとの接触部分を覆うカバーと、を備え、
前記接触部分で発生した塵を集塵するために、前記カバー内の空間を排気する排気手段を備えた搬送装置。

【請求項2】

前記カバーに取り付けられた集塵機構を備え、
前記集塵機構に前記カバー内の空気を排気するための吸引口が設けられている請求項１に記載の搬送装置。

【請求項3】

前記集塵機構には、前記プーリに向けて気体を噴出する噴出口が設けられている請求項２に記載の搬送装置。

【請求項4】

前記駆動機構の回転軸と直交する平面視において、前記ベルトが巻き回された空間内に前記集塵機構が配置されている請求項２、又は３に記載の搬送装置。

【請求項5】

前記保持機構には、前記ベルトに対して気体を噴出する噴出機構が設けられている請求項１～３のいずれか１項に記載の搬送装置。

【請求項6】

前記基板をその上面で浮上する浮上ユニットをさらに備え、
前記基板上において、前記レーザ光がライン状に形成されたラインビームとなっている請求項１～３のいずれか１項に記載の搬送装置。

【請求項7】

レーザ光を基板に照射するために、前記基板を搬送する搬送装置であって、
搬送方向に前記基板を移動する搬送ユニットを備え、
前記搬送ユニットが、
前記基板を保持する保持機構と、
前記保持機構が連結されたベルトと、
前記ベルトが掛け回されたプーリと、
前記プーリを回転させる駆動機構と、
前記プーリと前記ベルトとの接触部分を覆うカバーと、
前記プーリに気体を噴出する噴出機構と、を備えた搬送装置。

【請求項8】

レーザ光を基板に照射するために、前記基板を搬送する搬送装置であって、
搬送方向に前記基板を移動する搬送ユニットを備え、
前記搬送ユニットが、
前記基板を保持する保持機構と、
前記保持機構が連結されたベルトと、
前記ベルトが掛け回されたプーリと、
前記プーリを回転させる駆動機構と、
前記保持機構に設けられ、前記ベルトに気体を噴出する噴出機構と、を備えた搬送装置。

【請求項9】

レーザ光を基板に照射するために、前記基板を搬送する搬送方法であって、
（Ａ）搬送ユニットが、前記基板を移動するステップを備え、
前記搬送ユニットが、
前記基板を保持する保持機構と、
前記保持機構が連結されたベルトと、
前記ベルトが掛け回されたプーリと、
前記プーリを回転させる駆動機構と、
前記プーリと前記ベルトとの接触部分を覆うカバーと、を備え、
前記接触部分で発生した塵を集塵するために、前記カバー内の空間を排気する搬送方法。

【請求項10】

前記カバーには集塵機構が取り付けられており、
前記集塵機構に前記カバー内の空気を排気するための吸引口が設けられている請求項９に記載の搬送方法。

【請求項11】

前記集塵機構には、前記プーリに向けて気体を噴出する噴出口が設けられている請求項１０に記載の搬送方法。

【請求項12】

前記駆動機構の回転軸と直交する平面視において、前記ベルトが巻き回された空間内に前記集塵機構が配置されている請求項１０、又は１１に記載の搬送方法。

【請求項13】

前記保持機構には、前記ベルトに対して気体を噴出する噴出機構が設けられている請求項９、又は１０に記載の搬送方法。

【請求項14】

浮上ユニットが前記基板をその上面で浮上するステップをさらに備え、
前記基板上において、前記レーザ光がライン状に形成されたラインビームとなっている請求項９～１１のいずれか１項に記載の搬送方法。

【請求項15】

レーザ光を基板に照射するために、前記基板を搬送する搬送方法であって、
（Ａ）搬送ユニットが、前記基板を移動するステップを備え、
前記搬送ユニットが、
前記基板を保持する保持機構と、
前記保持機構が連結されたベルトと、
前記ベルトが掛け回されたプーリと、
前記プーリを回転させる駆動機構と、
前記プーリと前記ベルトとの接触部分を覆うカバーと、
前記プーリに気体を噴出する噴出機構と、を備えている搬送方法。

【請求項16】

レーザ光を基板に照射するために、前記基板を搬送する搬送方法であって、
（Ａ）搬送ユニットが、前記基板を移動するステップを備え、
前記搬送ユニットが、
前記基板を保持する保持機構と、
前記保持機構が連結されたベルトと、
前記ベルトが掛け回されたプーリと、
前記プーリを回転させる駆動機構と、
前記保持機構に設けられ、前記ベルトに気体を噴出する噴出機構と、を備えている搬送方法。

【請求項17】

（ｓ１）基板上に非晶質膜を形成するステップと、
（ｓ２）前記非晶質膜を結晶化して結晶化膜を形成するように、レーザ光を前記基板に照射して、前記非晶質膜をアニールするステップと、を備えた半導体装置の製造方法であって、
前記（ｓ２）アニールするステップは、
（ｓａ）搬送ユニットが、上面視において、搬送方向に前記基板を移動するステップを備え、
前記搬送ユニットが、
前記基板を保持する保持機構と、
前記保持機構が連結されたベルトと、
前記ベルトが掛け回されたプーリと、
前記プーリを回転させる駆動機構と、
前記プーリと前記ベルトとの接触部分を覆うカバーと、を備え、
前記接触部分で発生した塵を集塵するために、前記カバー内の空間を排気する有機ＥＬディスプレイの製造方法。

【請求項18】

前記カバーには集塵機構が取り付けられており、
前記集塵機構に前記カバー内の空気を排気するための吸引口が設けられている請求項１７に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。

【請求項19】

前記集塵機構には、前記プーリに向けて気体を噴出する噴出口が設けられている請求項１８に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。

【請求項20】

前記駆動機構の回転軸と直交する平面視において、前記ベルトが巻き回された空間内に前記集塵機構が配置されている請求項１８、又は１９に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。

【請求項21】

前記保持機構には、前記ベルトに対して気体を噴出する噴出機構が設けられている請求項１７、又は１８に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。

【請求項22】

浮上ユニットが前記基板をその上面で浮上するステップをさらに備え、
前記基板上において、前記レーザ光がライン状に形成されたラインビームとなっている請求項１７～１９のいずれか１項に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。

【請求項23】

（ｓ１）基板上に非晶質膜を形成するステップと、
（ｓ２）前記非晶質膜を結晶化して結晶化膜を形成するように、レーザ光を前記基板に照射して、前記非晶質膜をアニールするステップと、を備えた半導体装置の製造方法であって、
前記（ｓ２）アニールするステップは、
（ｓａ）搬送ユニットが、上面視において、搬送方向に前記基板を移動するステップを備え、
前記搬送ユニットが、
前記基板を保持する保持機構と、
前記保持機構が連結されたベルトと、
前記ベルトが掛け回されたプーリと、
前記プーリを回転させる駆動機構と、
前記プーリと前記ベルトとの接触部分を覆うカバーと、
前記プーリに気体を噴出する噴出機構と、を備えている有機ＥＬディスプレイの製造方法。

【請求項24】

（ｓ１）基板上に非晶質膜を形成するステップと、
（ｓ２）前記非晶質膜を結晶化して結晶化膜を形成するように、レーザ光を前記基板に照射して、前記非晶質膜をアニールするステップと、を備えた半導体装置の製造方法であって、
前記（ｓ２）アニールするステップは、
（ｓａ）搬送ユニットが、上面視において、搬送方向に前記基板を移動するステップを備え、
前記搬送ユニットが、
前記基板を保持する保持機構と、
前記保持機構が連結されたベルトと、
前記ベルトが掛け回されたプーリと、
前記プーリを回転させる駆動機構と、
前記保持機構に設けられ、前記ベルトに気体を噴出する噴出機構と、を備えた搬送装置。

【請求項25】

搬送中の基板に、レーザ光を照射するレーザ照射装置であって、
搬送方向に前記基板を移動する搬送ユニットと、
前記基板にレーザ光を照射するレーザ照射部と、を備え、
前記搬送ユニットが、
前記基板を保持する保持機構と、
前記保持機構が連結されたベルトと、
前記ベルトが掛け回されたプーリと、
前記プーリを回転させる駆動機構と、
前記プーリと前記ベルトとの接触部分を覆うカバーと、を備え、
前記接触部分で発生した塵を集塵するために、前記カバー内の空間を排気する排気手段を備えたレーザ照射装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、搬送装置、レーザ照射装置、搬送方法、及び有機ＥＬディスプレイ装置の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、ライン状にレーザ光を基板に照射するレーザ照射装置が開示されている。このレーザ照射装置は、基板を浮上する浮上ユニットと、浮上ユニット上の基板を吸着保持する保持機構と、保持機構を搬送方向に移動する移動機構とを備えている。上面視において、矩形状の浮上ユニットの端辺にそれぞれ移動機構が設けられている。４つの移動機構が基板を循環搬送している。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特許第６８８７２３４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

このようなレーザ照射装置に用いられる搬送装置では、基板を適切に搬送することが望まれる。

【0005】

その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。

【課題を解決するための手段】

【0006】

一実施の形態によれば、搬送装置は、レーザ光を基板に照射するために、前記基板を搬送する搬送装置であって、搬送方向に前記基板を移動する搬送ユニットを備え、前記搬送ユニットが、前記基板を保持する保持機構と、前記保持機構が連結されたベルトと、前記ベルトが掛け回されたプーリと、前記プーリを回転させる駆動機構と、前記プーリと前記ベルトとの接触部分を覆うカバーと、を備え、前記接触部分で発生した塵を集塵するために、前記カバー内の空間を排気する排気手段を備えている。

【0007】

一実施の形態によれば、搬送装置は、レーザ光を基板に照射するために、前記基板を搬送する搬送装置であって、搬送方向に前記基板を移動する搬送ユニットを備え、前記搬送ユニットが、前記基板を保持する保持機構と、前記保持機構が連結されたベルトと、前記ベルトが掛け回されたプーリと、前記プーリを回転させる駆動機構と、前記プーリと前記ベルトとの接触部分を覆うカバーと、前記プーリに気体を噴出する噴出機構と、を備えている。

【0008】

一実施の形態によれば、搬送装置は、レーザ光を基板に照射するために、前記基板を搬送する搬送装置であって、搬送方向に前記基板を移動する搬送ユニットを備え、前記搬送ユニットが、前記基板を保持する保持機構と、前記保持機構が連結されたベルトと、前記ベルトが掛け回されたプーリと、前記プーリを回転させる駆動機構と、前記保持機構に設けられ、前記ベルトに気体を噴出する噴出機構と、を備えている。

【0009】

一実施の形態によれば、搬送方法は、レーザ光を基板に照射するために、前記基板を搬送する搬送方法であって、（Ａ）搬送ユニットが、前記基板を移動するステップを備え、前記搬送ユニットが、前記基板を保持する保持機構と、前記保持機構が連結されたベルトと、前記ベルトが掛け回されたプーリと、前記プーリを回転させる駆動機構と、前記プーリと前記ベルトとの接触部分を覆うカバーと、を備え、前記接触部分で発生した塵を集塵するために、前記カバー内の空間を排気する。

【0010】

一実施の形態によれば、搬送方法は、レーザ光を基板に照射するために、前記基板を搬送する搬送方法であって、（Ａ）搬送ユニットが、前記基板を移動するステップを備え、前記搬送ユニットが、前記基板を保持する保持機構と、前記保持機構が連結されたベルトと、前記ベルトが掛け回されたプーリと、前記プーリを回転させる駆動機構と、前記プーリと前記ベルトとの接触部分を覆うカバーと、前記プーリに気体を噴出する噴出機構と、を備えている。

【0011】

一実施の形態によれば、搬送方法は、レーザ光を基板に照射するために、前記基板を搬送する搬送方法であって、（Ａ）搬送ユニットが、前記基板を移動するステップを備え、前記搬送ユニットが、前記基板を保持する保持機構と、前記保持機構が連結されたベルトと、前記ベルトが掛け回されたプーリと、前記プーリを回転させる駆動機構と、前記保持機構に設けられ、前記ベルトに気体を噴出する噴出機構と、を備えている。

【0012】

一実施の形態によれば、有機ＥＬディスプレイの製造方法は、（ｓ１）基板上に非晶質膜を形成するステップと、（ｓ２）前記非晶質膜を結晶化して結晶化膜を形成するように、レーザ光を前記基板に照射して、前記非晶質膜をアニールするステップと、を備えた半導体装置の製造方法であって、前記（ｓ２）アニールするステップは、（ｓａ）搬送ユニットが、上面視において、搬送方向に前記基板を移動するステップを備え、前記搬送ユニットが、前記基板を保持する保持機構と、前記保持機構が連結されたベルトと、前記ベルトが掛け回されたプーリと、前記プーリを回転させる駆動機構と、前記プーリと前記ベルトとの接触部分を覆うカバーと、を備え、前記接触部分で発生した塵を集塵するために、前記カバー内の空間を排気する。

【0013】

一実施の形態によれば、有機ＥＬディスプレイの製造方法は、（ｓ１）基板上に非晶質膜を形成するステップと、（ｓ２）前記非晶質膜を結晶化して結晶化膜を形成するように、レーザ光を前記基板に照射して、前記非晶質膜をアニールするステップと、を備えた半導体装置の製造方法であって、前記（ｓ２）アニールするステップは、（ｓａ）搬送ユニットが、上面視において、搬送方向に前記基板を移動するステップを備え、前記搬送ユニットが、前記基板を保持する保持機構と、前記保持機構が連結されたベルトと、前記ベルトが掛け回されたプーリと、前記プーリを回転させる駆動機構と、前記プーリと前記ベルトとの接触部分を覆うカバーと、前記プーリに気体を噴出する噴出機構と、を備えている。

【0014】

一実施の形態によれば、有機ＥＬディスプレイの製造方法は、（ｓ１）基板上に非晶質膜を形成するステップと、（ｓ２）前記非晶質膜を結晶化して結晶化膜を形成するように、レーザ光を前記基板に照射して、前記非晶質膜をアニールするステップと、を備えた半導体装置の製造方法であって、前記（ｓ２）アニールするステップは、（ｓａ）搬送ユニットが、上面視において、搬送方向に前記基板を移動するステップを備え、前記搬送ユニットが、前記基板を保持する保持機構と、前記保持機構が連結されたベルトと、前記ベルトが掛け回されたプーリと、前記プーリを回転させる駆動機構と、前記保持機構に設けられ、前記ベルトに気体を噴出する噴出機構と、を備えている。

【0015】

一実施の形態によれば、有機ＥＬディスプレイの製造方法は、搬送中の基板に、レーザ光を照射するレーザ照射装置であって、搬送方向に前記基板を移動する搬送ユニットと、前記基板にレーザ光を照射するレーザ照射部と、を備え、前記搬送ユニットが、前記基板を保持する保持機構と、前記保持機構が連結されたベルトと、前記ベルトが掛け回されたプーリと、前記プーリを回転させる駆動機構と、前記プーリと前記ベルトとの接触部分を覆うカバーと、を備え、前記接触部分で発生した塵を集塵するために、前記カバー内の空間を排気する排気手段を備えている。

【発明の効果】

【0016】

前記一実施の形態によれば、基板を適切に搬送することができる。

【図面の簡単な説明】

【0017】

【図1】搬送装置の全体構成を示す斜視図である。

【図2】搬送装置の構成を模式的に示すｘｙ平面図である。

【図3】搬送装置を備えたレーザ照射装置の構成を模式的に示すｘｚ平面図である。

【図4】搬送装置を備えたレーザ照射装置の構成を模式的に示すｙｚ平面図である。

【図5】リニアモータを用いた搬送ユニットの構成を模式的に示す上面図である。

【図6】リニアモータを用いた搬送ユニットの構成を模式的に示す側面図である。

【図7】ＡＣサーボモータを用いた搬送ユニットの構成を模式的に示す上面図である。

【図8】ＡＣサーボモータを用いた搬送ユニットの構成を模式的に示す側面図である。

【図9】ＡＣサーボモータとその周辺の構成を示す斜視図である。

【図10】ケースに設置された集塵機構内の構成を示すｘｚ断面図である。

【図11】集塵機構が設置されたケース内の構成を示す上面図である。

【図12】集塵機構の集塵面の構成を示すｙｚ平面図である。

【図13】噴出機構を備えた保持機構の構成を示すｘｚ平面図である。

【図14】レーザ照射装置の全体構成を示す斜視図である。

【図15】搬送ユニットの排気系統を模式的に示す図である。

【図16】レーザ照射システムの製造プロセスで製造された有機ＥＬディスプレイ装置を模式的に示す断面図である。

【図17】有機ＥＬディスプレイ装置の製造プロセスを説明する工程断面図である。

【図18】有機ＥＬディスプレイ装置の製造プロセスを説明する工程断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0018】

以下、図面を参照して本実施の形態にかかる搬送装置、搬送方法、有機ＥＬディスプレイ装置の製造方法について説明する。搬送装置及び搬送方法は、レーザ照射装置に用いられる。なお、以下の説明において、レーザが照射される被処理体をアモルファスシリコン膜付きガラス基板であるとして説明するが、被処理体は、特に限定されるものではない。

【0019】

レーザ照射装置の一例は、基板上に形成されたアモルファスシリコン膜にレーザ光を照射して、ポリシリコン膜を形成するエキシマレーザアニール装置である。したがって、レーザ照射装置は、液晶表示パネルや有機ＥＬ（ElectroLuminescence）表示パネルの製造工程において、ＴＦＴ（Thin Film transistor）アレイ基板を製造するために使用される。すなわち、レーザ照射装置は、ＴＦＴアレイ基板などの半導体装置の製造工程に用いられる。

【0020】

（レーザ照射装置の基本構成）
まず、レーザ照射装置１及び搬送装置６の基本構成について、図１～図４を用いて説明する。図１は、搬送装置６の基本構成を説明するための斜視図である。図２は、搬送装置６の上面図である。図３は、搬送装置６を備えたレーザ照射装置１の構成を示す側面図である。図４は、搬送装置６を備えたレーザ照射装置１の構成を示す側面図である。

【0021】

なお、以下に示す図では、説明の簡略化のため、適宜、ｘｙｚ３次元直交座標系を示している。ｚ方向は鉛直上下方向であり、ｙ方向はライン状のレーザスポットに沿った方向であり、ｘ方向は、搬送方向である。ｘ方向に搬送（スキャン）しながら、ｙ方向に沿ったライン状のレーザ光を基板に照射している。また、ｘ方向とｙ方向は矩形状の被処理体６６の端辺に沿った方向である。

【0022】

浮上ユニット６０は、浮上ユニット６０の表面からガスを噴出するように構成されており、浮上ユニット６０の表面から噴出されたガスが被処理体６６の下面に吹き付けられることで、被処理体６６が浮上する。浮上ユニット６０は架台(不図示)の上に配置されている。

【0023】

また、ｘｙ平面視において矩形状の浮上ユニット６０が６つの領域６０ａ～６０ｆに分割されている。具体的には、浮上ユニット６０が第１の領域６０ａ～第４の領域６０ｄと、照射領域６０ｅと、モニタ領域６０ｆとを備えている。第１の領域６０ａは、‐ｘ側かつ＋ｙ側の角（図２における左上角）を含む矩形状の領域である。第２の領域６０ｂは、＋ｘ側かつ＋ｙ側の角（図２における右上角）を含む矩形状の領域である。第３の領域６０ｃは、＋ｘ側かつ‐ｙ側の角（図２における右下角）を含む矩形状の領域である。第４の領域６０ｄは、‐ｘ側かつ‐ｙ側の角（図２における左下角）を含む矩形状の領域である。

【0024】

照射領域６０ｅは、第１の領域６０ａと第２の領域６０ｂとの間に配置されている。照射領域６０ｅは、レーザ光が照射される領域である。すなわち、照射領域６０ｅにレーザ光１５の照射位置６５が含まれている。モニタ領域６０ｆは、第３の領域６０ｃと第４の領域６０ｄとの間に配置されている。したがって、浮上ユニット６０の＋ｙ側の半分の領域（図２の上半分の領域）は、－ｘ側（図２の左側）から順に、第１の領域６０ａ、照射領域６０ｅ、第２の領域６０ｂとなっている。浮上ユニット６０の‐ｙ側の半分の領域（図２の下半分の領域）は、＋ｘ側から順に、第３の領域６０ｃ、モニタ領域６０ｆ、第４の領域６０ｄとなっている。特許文献１で示したように、搬送装置６は、浮上ユニット６０上において、被処理体６６を循環搬送する。

【0025】

ｘｙ平面視において、第１の領域６０ａ～第４の領域６０ｄはほぼ同じ面積となっていてもよい。ｘｙ平面視において、照射領域６０ｅと、モニタ領域６０ｆとは、ほぼ同じ面積の矩形状となっていてもよい。この場合、第１の領域６０ａと第４の領域６０ｄがｙ方向に並んで配置されている。第２の領域６０ｂと第４の領域６０ｄがｙ方向に並んで配置されている。照射領域６０ｅとモニタ領域６０ｆがｙ方向に並んで配置されている。

【0026】

また、第１の領域６０ａにはアライメント機構６９が設けられている。第４の領域６０ｄには、回転機構６８が設けられている。さらに、第４の領域６０ｄの外側には、補助浮上ユニット６７が設けられている。補助浮上ユニット６７は、第４の領域６０ｄの－ｙ側と－ｘ側にそれぞれ配置されている。回転機構６８、アライメント機構６９、及び補助浮上ユニット６７の動作については後述する。

【0027】

図１に示すように、被処理体６６は、第１の領域６０ａ～第４の領域６０ｄを順次搬送される。すなわち、被処理体６６は、第１の領域６０ａから＋ｘ方向に搬送されると、照射領域６０ｅを通過して、第２の領域６０ｂまで移動する。照射領域６０ｅを通過する際に、被処理体６６にレーザ光が照射される。被処理体６６は第２の領域６０ｂから‐ｙ方向に搬送されると、第３の領域６０ｃまで移動する。

【0028】

被処理体６６が第３の領域６０ｃから‐ｘ方向に搬送されると、モニタ領域６０ｆを通過して、第４の領域６０ｄに移動する。モニタ領域６０ｆでは、レーザ光の照射ムラをモニタする。例えば、モニタ領域６０ｆにおいて、図示しないカメラなどにより、照射ムラをモニタする。被処理体６６が第４の領域６０ｄから＋ｙ方向に搬送されると、第１の領域６０ａに移動する。

【0029】

このように、被処理体６６は、＋ｘ方向、－ｙ方向、－ｘ方向、＋ｙ方向と方向を変えて搬送されていく。換言すると、被処理体６６は、第１の領域６０ａ～第４の領域６０ｄを循環するように搬送される。なお、厳密には、第４の領域６０ｄが被処理体６６の搬入／搬出位置となっているため、被処理体６６は、第４の領域６０ｄ、第１の領域６０ａ、第２の領域６０ｂ、第３の領域６０ｃの順番で搬送されていく。もちろん、搬入／搬出位置は、第４の領域６０ｄに限られるものではない。

【0030】

さらには、被処理体６６を反対方向に循環してもよい。例えば、第４の領域６０ｄ、第３の領域６０ｃ、第２の領域６０ｂ、第１の領域６０ａの順番で被処理体６６を搬送してもよい。すなわち、図２の平面図において、搬送方向は、時計回りでもよく、反時計回りでもよい。レーザ照射装置１の処理に応じて、搬送方向を適宜切り替えるようにしてもよい。

【0031】

上記のように、被処理体６６を循環して搬送するため、レーザ照射装置１は、４つの搬送ユニット６１_１～６１_４を備える。搬送ユニット６１_１～６１_４は浮上ユニット６０の外側であって、浮上ユニット６０の各辺の近傍に設けられている。

【0032】

浮上ユニット６０はｘｙ平面視した際の形状が矩形状であり、各々の搬送ユニット６１_１～６１_４は、浮上ユニット６０の各々の辺に沿って被処理体６６を搬送するように設けられている。なお、各搬送ユニット６１＿１～６１＿４は、浮上ユニット６０の各辺の外側に設けられているが、浮上ユニット６０の内側に設けられていてもよい。

【0033】

各搬送ユニット６１＿１～６１＿４は被処理体６６を直進移動する。搬送ユニット６１＿１は被処理体６６を＋ｘ方向に移動させる。これにより、被処理体６６が第１の領域６０ａから第２の領域６０ｂに移動する。搬送ユニット６１＿２は被処理体６６を－ｙ方向に移動させる。これにより、被処理体６６が第２の領域６０ｂから第３の領域６０ｃに移動する。搬送ユニット６１＿３は被処理体６６を－ｘ方向に移動させる。これにより、被処理体６６が第３の領域６０ｃから第４の領域６０ｄに移動する。搬送ユニット６１＿４は被処理体６６を＋ｙ方向に移動させる。これにより、被処理体６６が第４の領域６０ｄから第１の領域６０ａに移動する。

【0034】

具体的には、搬送ユニット６１_１は浮上ユニット６０の＋ｙ方向側の辺に設けられており、保持機構６２_１と移動機構６３_１とを備える。保持機構６２＿１は被処理体６６を吸着保持する。保持機構６２＿１は、多孔質体を備える真空吸着機構を用いて構成することができる。保持機構６２＿１（真空吸着機構）は、排気ポート（不図示）に接続されており、排気ポートはエジェクタや真空ポンプなどに接続されている。よって、保持機構６２＿１にはガスを吸引するための負圧が作用するため、保持機構６２＿１を用いて被処理体６６を保持することができる。

【0035】

また、保持機構６２＿１は吸着動作を行うための昇降機構（図１～図４では不図示）を備えている。昇降機構は、例えば、エアシリンダやモータなどのアクチュエータ等を備えている。例えば、保持機構６２＿１は吸着位置まで上昇した状態で、被処理体６６を吸着する。また、保持機構６２＿１は、吸着を解除した状態で、待機位置まで下降する。

【0036】

本実施の形態では、図４に示すように、保持機構６２＿１は、被処理体６６のレーザ光が照射される面（上面）と逆側の面（下面）、つまり、被処理体６６の浮上ユニット６０と対向する側の面を吸引することで、被処理体６６を保持している。また、保持機構６２＿１は、被処理体６６の＋ｙ方向における端部（つまり、被処理体６６の搬送方向と垂直な方向における端部）を保持している。

【0037】

搬送ユニット６１＿１が備える移動機構６３＿１は保持機構６２＿１と連結されている。移動機構６３＿１は、保持機構６２＿１を搬送方向（ｘ方向）に移動可能に構成されている。搬送ユニット６１＿１（保持機構６２＿１及び移動機構６３＿１）は、浮上ユニット６０の＋ｙ方向の端部側に設けられており、保持機構６２＿１で被処理体６６を保持しつつ、移動機構６３＿１が搬送方向に移動することで被処理体６６が搬送される。

【0038】

図２に示すように、例えば、移動機構６３＿１は浮上ユニット６０の＋ｙ方向の端部を＋ｘ方向に沿ってスライドするように構成されている。移動機構６３＿１が浮上ユニット６０の端部を＋ｘ方向に沿ってスライドすることで、被処理体６６がｘ方向に沿って搬送される。このとき、移動機構６３＿１の移動速度を制御することで、被処理体６６の搬送速度を制御することができる。移動機構６３＿１は、例えば、図示しないモータなどのアクチュエータとリニアガイド機構等を備えている。移動機構６３＿１の構成については後述する。

【0039】

図３、図４に示すように、被処理体６６にはレーザ光１５が照射される。図１、図２では、レーザ光１５が照射される位置を照射位置６５とする。照射位置６５はｙ方向に延びた直線状となる。例えば、レーザ照射装置１はレーザアニール装置であり、この場合はレーザ照射部１４にエキシマレーザ等を用いることができる。レーザ照射部１４は、レーザ光源とシリンドリカルレンズなどの光学系（いずれも不図示）を備えている。レーザ光源から供給されたレーザ光は、シリンドリカルレンズを有する光学系（不図示）においてライン状となる。被処理体６６にはライン状、具体的には焦点がｙ方向に伸びるレーザ光１５（ラインビーム）が照射される（図１参照）。換言すると、被処理体６６上における照射位置６５は被処理体６６の搬送方向（ｘ方向）と垂直な方向（ｙ方向）に伸びている。

【0040】

搬送装置６では、浮上ユニット６０を用いて被処理体６６を浮上させながら、搬送ユニット６１＿１を用いて被処理体６６の下面を保持して、被処理体６６を搬送方向に搬送している。このとき、レーザ照射装置１が備える搬送ユニット６１＿１は、被処理体６６を搬送した際に、平面視において（つまりｚ方向からみて）、搬送ユニット６１＿１が照射位置６５と重畳しない位置を保持して被処理体６６を搬送している。つまり、図２に示すように、被処理体６６を搬送方向に搬送した際に、搬送ユニット６１＿１が被処理体６６を保持する位置（保持機構６２＿１の位置に対応）が、照射位置６５と重畳しないようにしている。

【0041】

このように、保持機構６２_１で被処理体６６を保持しつつ、移動機構６３_１が＋ｘ方向に移動することで、被処理体６６を第１の領域６０ａから第２の領域６０ｂに搬送することができる。搬送ユニット６１＿１による搬送で、被処理体６６が照射領域６０ｅを通過する。よって、被処理体６６が第１の領域６０ａから第２の領域６０ｂに搬送される際にレーザ光１５が被処理体６６に照射される。

【0042】

被処理体６６に対するレーザ光１５の照射位置６５を変えるように、搬送ユニット６１＿１が被処理体６６をｘ方向に移動する。なお、搬送ユニット６１＿１の搬送方向はｘ方向と平行になっているが、ｘ方向から傾いた方向であってもよい。つまり、搬送方向はライン方向から傾いた方向であればよい。

【0043】

搬送ユニット６１_２は浮上ユニット６０の＋ｘ方向側の辺に設けられており、保持機構６２_２と移動機構６３_２とを備える。そして、保持機構６２_２で被処理体６６を保持しつつ、移動機構６３_２が‐ｙ方向側に移動することで、被処理体６６を第２の領域６０ｂから第３の領域６０ｃに搬送することができる。移動機構６３＿２が浮上ユニット６０の端部を－ｙ方向に沿ってスライドすることで、被処理体６６が－ｙ方向に沿って搬送される。

【0044】

搬送ユニット６１_３は浮上ユニット６０の‐ｙ方向側の辺に設けられており、保持機構６２_３と移動機構６３_３とを備える。そして、保持機構６２_３で被処理体６６を保持しつつ、移動機構６３_３が‐ｘ方向に移動することで、被処理体６６を第３の領域６０ｃから第４の領域６０ｄに搬送することができる。搬送ユニット６１＿３による搬送で、被処理体６６がモニタ領域６０ｆを通過する。移動機構６３＿３が浮上ユニット６０の端部を－ｘ方向に沿ってスライドすることで、被処理体６６が－ｘ方向に沿って搬送される。

【0045】

搬送ユニット６１_４は浮上ユニット６０の‐ｘ方向側の辺に設けられており、保持機構６２_４と移動機構６３_４とを備える。そして、保持機構６２_４で被処理体６６を保持しつつ、移動機構６３_４が＋ｙ方向に移動することで、被処理体６６を第４の領域６０ｄから第１の領域６０ａに搬送することができる。移動機構６３＿４が浮上ユニット６０の端部を＋ｙ方向に沿ってスライドすることで、被処理体６６が＋ｙ方向に沿って搬送される。

【0046】

移動機構６３＿２、移動機構６３＿３、及び移動機構６３＿４は、照射位置６５の外側で、被処理体６６を移動する。つまり、移動機構６３＿２、移動機構６３＿３、及び移動機構６３＿４は、照射位置６５と重複していない被処理体６６を移動する。従って、移動機構６３＿２、移動機構６３＿３、及び移動機構６３＿４が被処理体６６を移動しても、被処理体６６にレーザ光１５が照射されない。移動機構６３＿２、移動機構６３＿３、及び移動機構６３＿４は、例えば、図示しないモータなどのアクチュエータとリニアガイド機構等を備えている。移動機構６３＿２、移動機構６３＿３、及び移動機構６３＿４の構成については後述する。

【0047】

保持機構６２＿２、保持機構６２＿３、保持機構６２＿４は、保持機構６２＿１と同様の構成となっており、被処理体６６を吸着する。保持機構６２＿２、６２＿４は、保持機構６２＿１、６２＿３と異なる向きで配置されている。より具体的には、ｘｙ平面視において、保持機構６２＿１、６２＿３は、図２で示したように、ｘ方向を長手方向とする矩形状になっている。また、保持機構６２＿２、６２＿４は、図２で示すように矩形状になっているが、設置方向が９０°異なっている。すなわち、保持機構６２＿１、６２＿３では長手方向がｘ方向、短手方向がｙ方向になっているのに対して、保持機構６２＿２、６２＿４では長手方向がｙ方向、短手方向がｘ方向になっている。保持機構６２＿１～６２＿４は、その移動方向が長手方向となるように設けられている。

【0048】

レーザ照射装置１では、照射位置６５のｙ方向における長さは、被処理体６６のｙ方向における長さの半分程度の長さである。よって、被処理体６６が照射位置６５を通過した際に、被処理体６６のｙ方向の半分の領域にレーザ光が照射される。したがって、被処理体６６が、浮上ユニット６０の上を２回循環するように搬送されていく。このようにすることで、被処理体６６のほぼ全面に、レーザ光が照射される。

【0049】

被処理体６６のほぼ全面にレーザ光を照射する場合は、図１、２に示すように、浮上ユニット６０の第４の領域６０ｄに回転機構６８を設ける。回転機構６８の回転軸はｚ方向と平行になっている。回転機構６８は、被処理体６６の水平面（ｘｙ平面）を保持しながら被処理体６６を１８０度回転させる。つまり、搬送ユニット６１_１を用いて被処理体６６を第１の領域６０ａから第２の領域６０ｂに搬送して被処理体６６にレーザ光１５を照射した後、搬送ユニット６１_２～６１_４を用いて被処理体６６を搬送させつつ、回転機構６８を用いて被処理体６６を１８０度回転させる。そして、再度、搬送ユニット６１_１を用いて被処理体６６を領域６０ａから領域６０ｂに搬送して被処理体６６にレーザ光１５を照射することで、被処理体６６の全面にレーザ光１５を照射することができる。

【0050】

図２に示すように、浮上ユニット６０の外側には、補助浮上ユニット６７が設けられている。補助浮上ユニット６７は、第４の領域６０ｄの－ｘ側及び－ｙ側にそれぞれ配置されている。補助浮上ユニット６７は、浮上ユニット６０と同様に、被処理体６６に対して気体を噴出することで、被処理体６６を浮上する。

【0051】

例えば、回転機構６８が被処理体６６を回転中に、被処理体６６の一部が第４の領域６０ｄからはみ出す。回転中において、第４の領域６０ｄからはみ出す被処理体６６の端部に対して、補助浮上ユニット６７が気体を噴出する。被処理体６６の浮上ユニット６０からはみ出した部分に浮上力が発生する。このようにすることで、被処理体６６を損傷することなく、回転機構６８が被処理体６６を回転させることができる。なお、保持機構６２＿４は、補助浮上ユニット６７と浮上ユニット６０との間を移動する。

【0052】

アライメント機構６９は、保持機構６２＿１等と同様に、多孔質体を介して被処理体６６を吸着して保持する。そして、アライメント機構６９は被処理体６６の位置、及び回転角度を調整する。アライメント機構６９は、ｘ方向の位置（以下、ｘ座標）、ｙ方向の位置（以下、ｙ座標）、ｚ軸周りの回転角度（以下、角度θ）のアライメント動作を行う。例えば、被処理体６６の搬入動作、搬送動作、回転動作によって、被処理体６６の位置や回転角度が微小にずれることがある。アライメント機構６９は、位置や回転角度のずれを補正している。これにより、被処理体６６におけるレーザ光の照射位置を精度よく制御することができる。

【0053】

ここで、搬送ユニット６１＿１の搬送によって、被処理体６６にレーザ光が照射される。従って、搬送ユニット６１＿１の搬送には、高い位置精度が要求される。つまり、レーザ光の照射強度を均一にするためには、搬送ユニット６１＿１の搬送速度を一定にする必要がある。あるいは、レーザ照射中において、被処理体６６の搬送高さを一定にする必要がある。一方、搬送ユニット６１＿２、搬送ユニット６１＿３、搬送ユニット６１＿４の搬送では、被処理体６６にレーザ光が照射されない。搬送ユニット６１＿２、搬送ユニット６１＿３、搬送ユニット６１＿４の搬送には、高い位置精度が要求されない。

【0054】

従って、本実施の形態では、搬送ユニット６１＿１の移動機構６３＿１として、リニアモータが用いられている。一方、搬送ユニット６１＿２～６１＿４の移動機構６３＿２～６３＿４として、ＡＣ（alternating current）サーボモータ及びベルトが用いられている。リニアモータを用いた直動機構は、ＡＣサーボモータ及びベルトを用いた直動機構よりも位置精度が高い。これにより、レーザ光の照射強度を一定にすることができるため、安定したプロセスが可能となる。また、ＡＣサーボモータ及びベルトを用いた直動機構は、リニアモータを用いた直動機構よりも安価である。３つの移動機構６３＿２～６３＿４については、安価な構成で実現することができる。

【0055】

（搬送ユニット６１＿１）
図５、図６を用いて、搬送ユニット６１＿１の移動機構６３＿１について説明する。図５は、搬送ユニット６１＿１の構成を示す上面図である。図６は、搬送ユニット６１＿１の構成を模式的に示す側面図である。

【0056】

搬送ユニット６１＿１は、上記のように、保持機構６２＿１と、移動機構６３＿１と、を備えている。移動機構６３＿１は、リニアモータ６０１と、ガイド機構６０３と、ベース６０６と、ダンパ６０７と、を備えている。リニアモータ６０１は、可動子６０１ａと、固定子６０１ｂとを備えている。保持機構６２＿１は、昇降機構６２１と吸着部６２２とを備えている。

【0057】

ベース６０６は、ガイド機構６０３等を支持するステージである。ガイド機構６０３は、ベース６０６の上に固定されている。ガイド機構６０３は、ｘ方向に沿って延びたレールなどを有するリニアガイドである。ガイド機構６０３にはガイド溝などが形成されていてもよい。ガイド機構６０３は可動子６０１ａの直動移動をガイドする。また、ガイド機構６０３の端部には、ダンパ６０７が取り付けられている。ダンパ６０７は、可動子６０１ａの移動端を規定する。

【0058】

例えば、ガイド機構６０３には、リニアモータ６０１の固定子６０１ｂが取り付けられている。固定子６０１ｂは、例えば、永久磁石を有している。つまり、ｘ方向に沿って、複数の永久磁石が配列されている。例えば、ｘ方向において、Ｎ極とＳ極が一定間隔で交互に繰り返し配列されている。

【0059】

リニアモータ６０１の可動子６０１ａは、電磁石を有している。そして、電磁石に対する電流を制御することで、可動子６０１ａがガイド機構６０３に沿って移動する。可動子６０１ａは、ガイド機構６０３と非接触で直進移動する。リニアモータ６０１の上には、被処理体６６を吸着保持するための保持機構６２＿１が配置されている。

【0060】

移動機構６３＿１が、保持機構６２＿１をｘ方向に移動することができる。このように、搬送ユニット６１＿１がリニアモータ６０１を有する移動機構６３＿１を用いている。よって、搬送ユニット６１＿１が、被処理体６６を精度よく移動することができる。よって、搬送装置６は被処理体６６を適切に搬送することができるため、生産性を向上することができる。

【0061】

また、保持機構６２＿１には昇降機構６２１と吸着部６２２が設けられている。吸着部６２２は、被処理体６６を真空吸着するための多孔質体を有している。昇降機構６２１は、保持機構６２＿１の吸着部６２２を昇降させる。昇降機構６２１は、被処理体６６の受渡しのため、吸着部６２２を昇降させる。昇降機構６２１は、保持機構６２＿２に被処理体６６を受け渡すため、吸着部６２２を昇降させる。また、昇降機構６２１は、被処理体６６を保持機構６２＿４から受け取るため、吸着部６２２を昇降させる。

【0062】

（搬送ユニット６１＿２～６１＿４）
搬送ユニット６１＿２～６１＿４は、リニアモータの代わりにＡＣサーボモータを駆動機構として用いている。以下、搬送ユニット６１＿２～６１＿４を代表して、搬送ユニット６１＿３の構成について、図７～図９を用いて説明する。図７は、搬送ユニット６１＿３の構成を示す上面図である。図８は、搬送ユニット６１＿３の構成を示す側面図である。図９は、搬送ユニット６１＿３の駆動部の構成を拡大して示す斜視図である。

【0063】

搬送ユニット６１＿３は、保持機構６２＿３と、移動機構６３＿３とを備えている。移動機構６３＿３は、ガイド機構７０３と、可動部７０４と、ベース７０６と、ＡＣサーボモータ７１１と、プーリ７１６とを備えている。さらに、移動機構６３＿３は、カバー７１５と排気フランジ７１４とを備えている。保持機構６２＿３は、昇降機構７２１と吸着部７２２とを備えている。

【0064】

ベース７０６は、ガイド機構７０３等を支持するステージである。ガイド機構７０３は、ベース７０６の上に固定されている。ガイド機構７０３は、ｘ方向に沿って延びたレールなどを有するリニアガイドである。ガイド機構７０３は、ガイド溝などを有していてもよい。また、ガイド機構７０３の端部には、ダンパ７０７が取り付けられている。ダンパ７０７は、可動部７０４の移動端を規定する。

【0065】

ガイド機構７０３は、可動部７０４を摺動可能に保持している。ガイド機構７０３は可動部７０４の直動移動をガイドする。可動部７０４は、ベルト７０９の上面に取り付けられている。さらに、可動部７０４の上には、保持機構６２＿３が取り付けられている。保持機構６２＿３は、可動部７０４を介して、ベルト７０９と連結されている。よって、保持機構６２＿３は可動部７０４とともにｘ方向に往復移動する。

【0066】

ベルト７０９はタイミングベルト等であり、ｘ方向に沿って設けられている。図１０に示すように、ベルト７０９の両端には、プーリ７１６が取り付けられている。ベルト７０９は、例えば、無端ベルト等であり、ｘｚ平面視において、リング状に形成されている。リング状のベルト７０９の内側には、２つのプーリ７１６が配置されている。ベルト７０９は、無端ベルト以外のベルトであってもよい。

【0067】

２つのプーリ７１６がｘ方向に離れて配置されている。プーリ７１６の回転軸はｙ方向と平行になっている。図９に示すように、ベルト７０９は、プーリ７１６に掛け回されている。２つのプーリ７１６の間において、ベルト７０９は、ｘ方向と平行になっている。ベルト７０９は、例えば、歯付きベルト、平ベルトとなっている。プーリ７１６は、例えば、歯付きプーリ、平プーリとなっている。

【0068】

一方のプーリ７１６には、ＡＣサーボモータ７１１の回転軸７１１ａが連結されている。ＡＣサーボモータ７１１がプーリ７１６を回転させると、ベルト７０９が回転する。ベルト７０９の回転動作にしたがって、可動部７０４がｘ方向に移動する。可動部７０４は２つのプーリ７１６の間をｘ方向にスライド移動する。これにより、保持機構６２＿２がｘ方向に往復移動するため、被処理体６６を－ｘ方向に搬送することができる。

【0069】

また、保持機構６２＿３には昇降機構７２１と吸着部７２２が設けられている。吸着部７２２は、被処理体６６を真空吸着するための多孔質体を有している。昇降機構７２１は、保持機構６２＿３の吸着部７２２を昇降させる。昇降機構７２１は、被処理体６６の受渡しのため、吸着部７２２を昇降させる。昇降機構７２１は、保持機構６２＿２から被処理体６６を受け取るため、吸着部７２２を昇降させる。また、昇降機構７２１は、被処理体６６を保持機構６２＿４に受け渡すため、吸着部７２２を昇降させる。

【0070】

このように、移動機構６３＿２は、ＡＣサーボモータ７１１と、ベルト７０９とを用いて、被処理体６６を移動している。これにより、搬送装置６は、安価な構成で、被処理体６６を搬送することができる。搬送装置６は被処理体６６を適切に搬送することができるため、生産性を向上することができる。

【0071】

なお、移動機構６３＿２、６３＿４は、基本的な構成は、移動機構６３＿３と同様であるため、詳細な説明を省略する。移動機構６３＿２、６３＿４も、移動機構６３＿３と同様にＡＣサーボモータ７１１とベルト７０９とを用いている。移動機構６３＿２、６３＿４は、移動方向がｙ方向になっている点が移動機構６３＿３と異なっている。したがって、ガイド機構７０３、ベルト７０９、ＡＣサーボモータ７１１等の向きを９０度変えて設置すれば良い。

【0072】

プーリ７１６の回転に伴って、ベルト７０９とプーリ７１６との接触部分から粉塵が発生することがある。そこで、本実施の形態では、－ｘ側におけるベルト７０９の端部には、カバー７１５が設けられている。つまり、プーリ７１６とベルト７０９の接触部分はカバー７１５で覆われている。図９に示すように、カバー７１５は回転軸７１１ａやベアリングなどを収容するケースとなる。カバー７１５がベルト７０９の端部を覆うことで、粉塵による汚染を防止することができる。被処理体６６に粉塵が付着するのを防ぐことができる。

【0073】

カバー７１５には、開口部７１５ａと排気フランジ７１４が設けられている。ベルト７０９は、カバー７１５の開口部７１５ａから取り出されている。カバー７１５において、開口部７１５ａの反対側には、排気フランジ７１４が設けられている。排気フランジ７１４は、カバー７１５の内部空間に繋がっている排気ポートとなる。排気フランジ７１４には、後述するように、配管が接続されている。ここでは、開口部７１５aがカバー７１５の＋ｘ側に配置され、排気フランジ７１４がカバー７１５の－ｘ側に配置されている。

【0074】

さらに、カバー７１５には、集塵機構７６０が取り付けられている。集塵機構７６０は、カバー７１５の内側に配置されている。具体的には、集塵機構７６０は、プーリ７１６に面するように、ベルト７０９の内側の空間７０９ａに配置されている。集塵機構７６０は、プーリ７１６の＋ｘ側に配置されている。ｘ方向において、排気フランジ７１４と集塵機構７６０の間に、プーリ７１６が配置されている。

【0075】

なお、ｘｚ平面視において、空間７０９ａは、ベルト７０９が巻き回されることで形成された空間である。ｘｚ面視において、空間７０９ａは、ベルト７０９で囲まれている。空間７０９ａの上下はベルト７００によって規定される。空間７０９ａは、移動機構６３＿３の移動方向であるｘ方向を長手方向としている。集塵機構７６０には、プーリ７１６とベルト７０９の接触部分で発生したパーティクル（塵）を除去する。

【0076】

（集塵機構）
集塵機構７６０の構成について、図１０、図１１、図１２を参照して説明する。図１９は、集塵機構７６０の構成を示すｘｚ断面図である。図１１は集塵機構７６０が設けられたカバー７１５内の構成を模式的に示す上面図である。図１１では，ベルト７０９が省略されている。図１２は、集塵機構７６０のプーリ７１６側の面（集塵面７６３とする）を示すｙｚ平面図である。

【0077】

集塵機構７６０には、供給用継手７７１と排気用継手７７２とが連結されている。排気用継手７７２は集塵面７６３と反対側の面に取り付けられている。排気用継手７７２には、外部に気体を排出するための排気管となるチューブ(不図示)などが接続される。これにより、カバー７１５内の空気を集塵機構７６０から外部に排出することができる。供給用継手７７１は、外部から気体を供給するための供給管となるチューブ(不図示)などが接続される。これにより、外部から気体を集塵機構７６０に供給することができる。

【0078】

図１０に示すように、集塵機構７６０の内部には、噴出空間７６１と、排気空間７６２とが形成されている。噴出空間７６１と、排気空間７６２とはそれぞれの分離した空間である。集塵機構７６０は、２つの噴出空間７６１と１つの排気空間７６２を備えている。排気空間７６２の上下に噴出空間７６１が配置されている。集塵機構７６０は、金属ブロックや樹脂成型品などで形成されている。

【0079】

噴出空間７６１は、供給用継手７７１に接続された空間である。さらに噴出空間７６１には、集塵面７６３側に噴出口７６５（図１２参照）が設けられている。つまり、噴出口７６５は噴出空間７６１を介して、供給用継手７７１に接続されている。供給用継手７７１から供給された気体は、噴出空間７６１を通って、噴出口７６５から排出される。これにより、プーリ７１６に気体を吹き付けることができる。プーリ７１６の外周面に付着したパーティクルを取ることができる。

【0080】

排気空間７６２は、排気用継手７７２に接続された空間である。さらに排気空間７６２には、集塵面７６３側に吸引口７６６（図１２参照）が設けられている。つまり、吸引口７６６は排気空間７６２を介して、排気用継手７７２に接続されている。吸引口７６６から吸引された気体は、排気空間７６２を通って、排気用継手７７２に到達する。これにより、気体が図示しない排気管などを通って、後述するチャンバの外側に排出される。よって、集塵機構７６０がカバー７１５内の塵を除去することができる。

【0081】

プロセス中あるいはメンテナンス中において、噴出口７６５から気体を噴出するとともに、吸引口７６６から気体を吸引する。噴出口７６５から気体を噴出することで、プーリ７１６に気体が吹き付けられる。プーリ７１６に付着したパーティクルがプーリ７１６から離れて、カバー７１５内の空間を浮遊する。そして、空間中を浮遊したパーティクルが吸引口７６６又は排気フランジ７１４から吸引される。このようにすることで、カバー７１５内で発生したパーティクルを効率良く、外側に排出することができる。よって、被処理体６６の汚染を防止することができ、レーザ照射プロセスの生産性を向上することができる。

【0082】

図１２に示すように、ｙｚ平面視において、吸引口７６６はｙ方向を長手方向とする長円形状に形成されている。そして、吸引口７６６の周辺には、複数の噴出口７６５が設けられている。吸引口７６６の上に３つの噴出口７６５がｙ方向に沿って配置されている。また、吸引口７６６の下に３つの噴出口７６５がｙ方向に沿って配置されている。図１０に示すように、噴出口７６５は斜め方向に設けられている。よって、斜め上方又は斜め下方から、プーリ７１６の外周面に気体が吹き付けられる。そして、上下に配置された噴出口７６５の間に、吸引口７６６が集塵機構７６０配置されている。

【0083】

集塵機構７６０は、噴出口７６５を備えているため、プーリ７１６に気体を噴出する噴出機構として機能する。吸引口７６６はｘ方向に気体を吸引する。このようにすることで、集塵機構７６０が効率良く、プーリ７１６に付着した粉塵を効率良く除去することができる。

【0084】

なお、上記の説明では、集塵機構７６０が噴出口７６５、及び吸引口７６６を備えていたが、集塵機構７６０は、噴出口７６５、及び吸引口７６６の一方のみを備えていても良い。集塵機構７６０が噴出口７６５のみを備える場合、浮遊するパーティクルが排気フランジ７１４から排出するようにしてもよい。あるいは、カバー７１５のその他の箇所に排気フランジ７１４や吸引口７６６を設置しても良い。集塵機構７６０は、吸引口７６６のみを備える場合、ケース内のパーティクルが吸引口７６６から外部に排出するようにしてもよい。集塵機構７６０は、吸引口７６６を備える場合、排気フランジ７１４を省略してもよい。

【0085】

（噴出機構）
さらに、本実施の形態では、保持機構６２＿３に、気体を噴出する噴出機構が設けられていても良い。図１３を用いて、気体を噴出する噴出機構について説明する。図１３は、保持機構６２＿３の構成を示すｘｚ平面図である。

【0086】

保持機構６２＿３は噴出機構７８０を備えている。ここでは、可動部７０４に、３つの噴出機構７８０が取り付けられている。それぞれの噴出機構７８０は継手７８２と噴出部７８３とを備えている。継手７８２はチューブなどのガス配管が接続される。噴出部７８３は下方に向けて気体を噴出する噴出口を備えている。噴出部７８３と継手７８２とは、噴出機構７８０内で接続している。よって、継手７８２から供給された気体が噴出部７８３から下方に噴出される。

【0087】

噴出部７８３は、ベルト７０９に向けて、気体を噴出する。これにより、ベルト７０９に付着したパーティクルを取り除くことができる。ここでは、ベルト７０９で形成された空間７０９ａに向けて気体が噴出される。つまり、巻き回されたベルト７０９の下側の部分の上面に気体が吹き付けられる。
なお、噴出機構７８０によるパーティクルの除去は、メンテナンス中のみに行うことが好ましい。つまり、レーザ照射プロセス中や、被処理体６６が搬送装置６で搬送されている間は、噴出機構７８０が気体を噴出しないようにする。このようにすることで、搬送中の被処理体６６にパーティクルが付着することを防ぐことができる。

【0088】

（配管系統）
図１４、及び図１５を用いて、配管系統について説明する。図１４は、レーザ照射装置１の全体構成を示す斜視図である。図１５は、噴出機構７８０と集塵機構７６０に接続される配管系統の構成を模式的に示す図である。図１４、図１５に示すように、レーザ照射装置１はチャンバ７３０と架台７３１と排気手段７４２とガス供給手段７４４とを備えている。チャンバ７３０は、レーザ照射部１４（図１４，図１５では不図示）及び搬送装置６の全体を囲むように配置されている。架台７３１は、チャンバ７３０や搬送装置６などを支持している。

【0089】

図１５に示すように、チャンバ７３０内には、配管７４０と、配管７４６とが設けられている。配管７４０、７４６は、チャンバ７３０の外側まで引き回されている。そして、配管７４０は、チャンバ７３０の外側において、排気手段７４２に接続されている。排気手段７４２は、排気ポンプなどであり、気体をチャンバ７３０の外側まで排出する。配管７４０には集塵フィルタなどが設けられていても良い。なお、図１５では、移動機構６３＿３についての構成について説明するが、他の移動機構６３＿２、６３＿４についても同様の構成を用いることができる。

【0090】

配管７４０は２つの配管７４０ａ、７４０ｂに分岐されている。配管７４０ａは、チャンバ７３０内のガスをチャンバ７３０の外側に排出する排気管となる。配管７４０ａは、集塵機構７６０の排気用継手７７２に接続されている。したがって、集塵機構７６０の吸引口７６６から気体とともにパーティクルを吸引することができる。これによりプーリ７１６とベルト７０９との接触部分で発生した塵を効果的に除去することができる。よって、被処理体に塵が付着することを防ぐことができ、高い生産性でレーザ照射プロセスを実行することができる。

【0091】

配管７４０ｂは排気フランジ７１４に接続されている。したがって、カバー７１５内のパーティクルがチャンバ７３０の外側に排出される。カバー７１５で発生した塵を効果的に除去することができる。よって、被処理体に塵が付着することを防ぐことができ、高い生産性でレーザ照射プロセスを実行することができる。なお、配管７４０ａと配管７４０ｂとが同じ系統から分岐された分岐配管となっていたが、別系統の配管であっても良い。

【0092】

配管７４６は、チャンバ７３０の外側において、ガス供給手段７４４に接続されている。プロセス中又はメンテナンス中に、ガス供給手段７４４は、ガスボンベやコンプレッサなどを備えており、窒素ガスや空気などの清浄なガスを配管７４６に供給する。配管７４６は２つの配管７４６ａ、７４６ｂに分岐されている。

【0093】

配管７４６ａは、集塵機構７６０の供給用継手７７１に接続されている。配管７４６からのガスが、集塵機構７６０に供給される。プロセス中又はメンテナンス中に、集塵機構７６０の噴出口７６５からプーリ７１６に向けてガスを噴出することができる。これにより、プーリ７１６に付着したパーティクルを取り除くことができる。

【0094】

このようにすることで、カバー７１５内で発生した粉塵をチャンバの７３０外側に排出することができる。よって、被処理体６６の汚染を防止することができ、レーザ照射プロセスの生産性を向上することができる。

【0095】

また、配管７４６は、噴出機構７８０の継手７８２に接続されている。配管７４６からのガスが、噴出機構７８０に供給される。プロセス中以外において、噴出機構７８０の噴出部７８３から、ベルト７０９に向けてガスを噴出することができる。これにより、ベルト７０９に付着したパーティクルがベルト７０９から除去される。

【0096】

なお、搬送装置６の浮上ユニット１０は気体を上方に向けて噴出している。よって，チャンバ内では、風邪が下から上に向かって吹いている。気体が処理室の壁に当たることで、側面や隙間から風が下に流れている、浮上ユニット１０とチャンバ７３０の隙間等から落ちてくる。ベルト７０９から取り除かれたパーティクルは浮上ユニット１０からの気体とともに、下に落ちてくる。よって、パーティクルが被処理体６６等に付着することができるため、レーザ照射プロセスを安定して実行することができる。

【0097】

上記の搬送装置６を用いた搬送方法は、例えば、以下のステップを備えていてもよい。
（Ａ）搬送ユニットが、前記基板を移動するステップ。

【0098】

（有機ＥＬディスプレイ）
上記のポリシリコン膜を有する半導体装置は、有機ＥＬ（ElectroLuminescence）ディスプレイ用のＴＦＴ（Thin Film transistor）アレイ基板に好適である。すなわち、ポリシリコン膜は、ＴＦＴのソース領域、チャネル領域、ドレイン領域を有する半導体層として用いられる。

【0099】

以下、本実施の形態にかかる半導体装置を有機ＥＬディスプレイディスプレイに適用した構成について説明する。図１６は、有機ＥＬディスプレイの画素回路を簡略化して示す断面図である。図１６に示す有機ＥＬディスプレイ３００は、各画素ＰＸにＴＦＴが配置されたアクティブマトリクス型の表示装置である。

【0100】

有機ＥＬディスプレイ３００は、基板３１０、ＴＦＴ層３１１、有機層３１２、カラーフィルタ層３１３、及び封止基板３１４を備えている。図１６では、封止基板３１４側が視認側となるトップエミッション方式の有機ＥＬディスプレイを示している。なお、以下の説明は、有機ＥＬディスプレイの一構成例を示すものであり、本実施の形態は、以下に説明される構成に限られるものではない。例えば、本実施の形態にかかる半導体装置は、ボトムエミッション方式の有機ＥＬディスプレイに用いられていてもよい。

【0101】

基板３１０は、ガラス基板又は金属基板である。基板３１０の上には、ＴＦＴ層３１１が設けられている。ＴＦＴ層３１１は、各画素ＰＸに配置されたＴＦＴ３１１ａを有している。さらに、ＴＦＴ層３１１は、ＴＦＴ３１１ａに接続される配線（図示を省略）等を有している。ＴＦＴ３１１ａ、及び配線等が画素回路を構成する。

【0102】

ＴＦＴ層３１１の上には、有機層３１２が設けられている。有機層３１２は、画素ＰＸごとに配置された有機ＥＬ発光素子３１２ａを有している。さらに、有機層３１２には、画素ＰＸ間において、有機ＥＬ発光素子３１２ａを分離するための隔壁３１２ｂが設けられている。

【0103】

有機層３１２の上には、カラーフィルタ層３１３が設けられている。カラーフィルタ層３１３は、カラー表示を行うためのカラーフィルタ３１３ａが設けられている。すなわち、各画素ＰＸには、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、又はＢ（青色）に着色された樹脂層がカラーフィルタ３１３ａとして設けられている。

【0104】

カラーフィルタ層３１３の上には、封止基板３１４が設けられている。封止基板３１４は、ガラス基板などの透明基板であり、有機層３１２の有機ＥＬ発光素子の劣化を防ぐために設けられている。

【0105】

有機層３１２の有機ＥＬ発光素子３１２ａに流れる電流は、画素回路に供給される表示信号によって変化する。よって、表示画像に応じた表示信号を各画素ＰＸに供給することで、各画素ＰＸでの発光量を制御することができる。これにより、所望の画像を表示することができる。

【0106】

有機ＥＬディスプレイ等のアクティブマトリクス型表示装置では、１つの画素ＰＸに、１つ以上のＴＦＴ（例えば、スイッチング用ＴＦＴ、又は駆動用ＴＦＴ）が設けられている。そして、各画素ＰＸのＴＦＴには、ソース領域、チャネル領域、及びドレイン領域を有する半導体層が設けられている。本実施の形態にかかるポリシリコン膜は、ＴＦＴの半導体層に好適である。すなわち、上記の製造方法により製造したポリシリコン膜をＴＦＴアレイ基板の半導体層に用いることで、ＴＦＴ特性の面内ばらつきを抑制することができる。よって、表示特性の優れた表示装置を高い生産性で製造することができる。

【0107】

＜半導体装置の製造工程＞
本実施の形態にかかるレーザ照射装置を用いた半導体装置の製造方法は、ＴＦＴアレイ基板の製造に好適である。ＴＦＴを有する半導体装置の製造方法について、図１７、図１８を用いて説明する。図１７、図１８は半導体装置の製造工程を示す工程断面図である。以下の説明では、逆スタガード（inverted staggered）型のＴＦＴを有する半導体装置の製造方法について説明する。図１７、図１８では、半導体製造方法におけるポリシリコン膜の形成工程を示している。なお、その他の製造工程については、公知の手法を用いることができるため、説明を省略する。

【0108】

図１７に示すように、ガラス基板４０１上に、ゲート電極４０２が形成されている。ゲート電極４０２の上に、ゲート絶縁膜４０３が形成されている。ゲート絶縁膜４０３の上に、アモルファスシリコン膜４０４を形成する。アモルファスシリコン膜４０４は、ゲート絶縁膜４０３を介して、ゲート電極４０２と重複するように配置されている。例えば、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法により、ゲート絶縁膜４０３とアモルファスシリコン膜４０４とを連続成膜する。

【0109】

そして、アモルファスシリコン膜４０４にレーザ光Ｌ１を照射することで、図１８に示すように、ポリシリコン膜４０５が形成される。すなわち、図３等で示したレーザ照射装置１によって、アモルファスシリコン膜４０４を結晶化する。これにより、シリコンが結晶化したポリシリコン膜４０５がゲート絶縁膜４０３上に形成される。ポリシリコン膜４０５は、上記したポリシリコン膜に相当する。

【0110】

本実施の形態にかかる半導体装置の製造方法は、以下のステップを有していてもよい。
（ｓ１）基板上に非晶質膜を形成するステップ。
（ｓ２）前記非晶質膜を結晶化して結晶化膜を形成するように、ライン状のレーザ光を前記基板に照射して、前記非晶質膜をアニールするステップ。
そして、ｓ２のステップで、上記の搬送装置を用いた搬送方法で、基板となる被処理体６６を搬送する。

【0111】

さらに、上記の説明では、本実施の形態にかかるレーザアニール装置が、アモルファスシリコン膜にレーザ光を照射してポリシリコン膜を形成するものとして説明したが、アモルファスシリコン膜にレーザ光を照射してマイクロクリスタルシリコン膜を形成するものであってもよい。さらには、アニールを行うレーザ光はエキシマレーザに限定されるものではなく、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ等であってもよい。また、本実施の形態にかかる方法は、シリコン膜以外の薄膜を結晶化するレーザアニール装置に適用することも可能である。すなわち、非晶質膜にレーザ光を照射して、結晶化膜を形成するレーザアニール装置であれば、本実施の形態にかかる方法は適用可能である。本実施の形態にかかるレーザアニール装置によれば、結晶化膜付き基板を適切に改質することができる。

【0112】

なお、本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。

【符号の説明】

【0113】

１ レーザ照射装置
６ 搬送装置
１４ レーザ照射部
１５ レーザ光
６１_１～６１_４ 搬送ユニット
６２_１～６２_４ 保持機構
６３_１～６３_４ 移動機構
６０ａ 第１の領域
６０ｂ 第２の領域
６０ｃ 第３の領域
６０ｄ 第４の領域
６０ｅ 照射領域
６０ｆ モニタ領域
６５ 照射位置
６６ 被処理体
６７ 補助浮上ユニット
６８ 回転機構
６９ アライメント機構
３００ 有機ＥＬディスプレイ
３１１ ＴＦＴ層
３１１ａ ＴＦＴ
３１２ 有機層
３１２ａ 有機ＥＬ発光素子
３１２ｂ 隔壁
３１３ カラーフィルタ層
３１３ａ カラーフィルタ（ＣＦ）
３１４ 封止基板
ＰＸ 画素
６０１ リニアモータ
６０１ａ 可動子
６０１ｂ 固定子
６０３ ガイド機構
６０６ ベース
６０７ ダンパ
６２１ 昇降機構
６２２ 吸着部
７０３ ガイド機構
７０４ 可動部
７０６ ベース
７０９ ベルト
７１１ ＡＣサーボモータ
７１４ 排気フランジ
７１５ カバー
７１６ プーリ
７３０ チャンバ
７４０ 配管
７４２ 排気手段
７４４ ガス供給手段
７４６ 配管
７６０ 集塵機構
７６１ 噴出空間
７６２ 排気空間
７６３ 集塵面
７６５ 噴出口
７６６ 吸引口
７７１ 供給用継手
７７２ 排気用継手
７８０ 噴出機構
７８２ 継手
７８３ 噴出部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】