特開 2025-91995 流体供給装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2025091995

(43)【公開日】2025-06-19

(54)【発明の名称】流体供給装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/304 20060101AFI20250612BHJP

   H01L 21/306 20060101ALI20250612BHJP

   B08B 3/02 20060101ALI20250612BHJP

【ＦＩ】

H01L21/304 648G

H01L21/304 643C

H01L21/304 648K

H01L21/306 R

B08B3/02 B

【審査請求】未請求

【請求項の数】9

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023207603

(22)【出願日】2023-12-08

(71)【出願人】

【識別番号】000000239

【氏名又は名称】株式会社荏原製作所

(74)【代理人】

【識別番号】100141139

【弁理士】

【氏名又は名称】及川 周

(74)【代理人】

【識別番号】100188592

【弁理士】

【氏名又は名称】山口 洋

(74)【代理人】

【識別番号】100188891

【弁理士】

【氏名又は名称】丹野 拓人

(72)【発明者】

【氏名】青 諭志

【テーマコード（参考）】

3B201

5F043

5F157

【Ｆターム（参考）】

3B201AA01

3B201AB42

3B201BB22

3B201BB32

3B201BB42

3B201BB88

3B201BB92

5F043EE07

5F157AB02

5F157AB33

5F157BB11

5F157BB32

5F157BB42

5F157CB01

5F157CD27

5F157CE25

5F157CF40

5F157CF42

5F157CF44

5F157CF92

5F157DB02

(57)【要約】

【課題】ノズルの位置のずれを精度よく検知できる流体供給装置を提供する。
【解決手段】流体供給装置は、対象物に向けて第１流体を供給する第１ノズルと、検知用の光を発する発光部、および光を受光する受光部を含む光センサと、光を遮らない第１非遮光位置と光を遮る第１遮光位置とに配置可能な第１遮光部材と、受光部による受光量に基づいて第１ノズルの変位を検知する検知部と、を備える。第１遮光部材は、第１ノズルの変位に連動して変位することで第１遮光位置と第１非遮光位置を切り替え可能である。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

対象物に向けて第１流体を供給する第１ノズルと、
検知用の光を発する発光部、および前記光を受光する受光部を含む光センサと、
前記光を遮らない第１非遮光位置と前記光を遮る第１遮光位置とに配置可能な第１遮光部材と、
前記受光部による受光量に基づいて前記第１ノズルの変位を検知する検知部と、を備え、
前記第１遮光部材は、前記第１ノズルの変位に連動して変位することで前記第１遮光位置と前記第１非遮光位置を切り替え可能である、
流体供給装置。

【請求項2】

前記対象物に向けて第２流体を供給する第２ノズルと、
前記光を遮らない第２非遮光位置と前記光を遮る第２遮光位置とに配置可能な第２遮光部材と、をさらに備え、
前記第２遮光部材は、前記第２ノズルの変位に連動して変位することで前記第２遮光位置と前記第２非遮光位置を切り替え可能である、
請求項１記載の流体供給装置。

【請求項3】

前記第１遮光部材に、前記光が通過する第１光通過領域が形成されている、請求項１記載の流体供給装置。

【請求項4】

前記第１光通過領域は、開口または透明窓である、請求項３記載の流体供給装置。

【請求項5】

前記第２遮光部材に、前記光が通過する第２光通過領域が形成されている、請求項２記載の流体供給装置。

【請求項6】

前記第２光通過領域は、開口または透明窓である、請求項５記載の流体供給装置。

【請求項7】

前記光センサは、少なくとも一部が前記第１ノズルと前記第２ノズルとの間の空間に配置されている、
請求項２に記載の流体供給装置。

【請求項8】

前記発光部は前記対象物から離れる方向に前記光を照射する、
請求項１項に記載の流体供給装置。

【請求項9】

前記第１遮光部材の少なくとも一部を覆うカバーをさらに備える、
請求項１～８のうちいずれか１項に記載の流体供給装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、流体供給装置に関する。

【背景技術】

【0002】

対象物に向けて流体を供給する供給装置が用いられている。供給装置は、例えば、半導体ウェハ等の基板に流体（例えば、薬液、リンス液など）を供給するノズルを備える（例えば、特許文献１を参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００２－２１７１５９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

前記装置では、ノズルの位置を正確に定めるのは容易でなかった。ノズルの位置が不正確となると、対象物に対して正しい位置に流体（薬液、リンス液など）を供給することが難しくなることがあった。そのため、ノズルの位置にずれが生じた場合に、このずれを精度よく検知することが求められていた。

【0005】

本発明は、ノズルの位置のずれを精度よく検知できる流体供給装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明の第１の態様に係る流体供給装置は、対象物に向けて第１流体を供給する第１ノズルと、検知用の光を発する発光部、および前記光を受光する受光部を含む光センサと、前記光を遮らない第１非遮光位置と前記光を遮る第１遮光位置とに配置可能な第１遮光部材と、前記受光部による受光量に基づいて前記第１ノズルの変位を検知する検知部と、を備え、前記第１遮光部材は、前記第１ノズルの変位に連動して変位することで前記第１遮光位置と前記第１非遮光位置を切り替え可能である。

【0007】

本発明の第２の態様に係る流体供給装置は、第１の態様において、前記対象物に向けて第２流体を供給する第２ノズルと、前記光を遮らない第２非遮光位置と前記光を遮る第２遮光位置とに配置可能な第２遮光部材と、をさらに備え、前記第２遮光部材は、前記第２ノズルの変位に連動して変位することで前記第２遮光位置と前記第２非遮光位置を切り替え可能である。

【0008】

本発明の第３の態様に係る流体供給装置は、第１の態様において、前記第１遮光部材に、前記光が通過する第１光通過領域が形成されている。

【0009】

本発明の第４の態様に係る流体供給装置は、第３の態様において、前記第１光通過領域は、開口または透明窓である。

【0010】

本発明の第５の態様に係る流体供給装置は、第２の態様において、前記第２遮光部材に、前記光が通過する第２光通過領域が形成されている。

【0011】

本発明の第６の態様に係る流体供給装置は、第５の態様において、前記第２光通過領域は、開口または透明窓である。

【0012】

本発明の第７の態様に係る流体供給装置は、第２の態様において、前記光センサは、少なくとも一部が前記第１ノズルと前記第２ノズルとの間の空間に配置されている。

【0013】

本発明の第８の態様に係る流体供給装置は、第１～第７の態様うちいずれか１つにおいて、前記発光部は前記対象物から離れる方向に前記光を照射する。

【0014】

本発明の第９の態様に係る流体供給装置は、第１～第８の態様うちいずれか１つにおいて、前記第１遮光部材の少なくとも一部を覆うカバーをさらに備える。

【発明の効果】

【0015】

本発明の一態様によれば、ノズルの位置のずれを精度よく検知できる流体供給装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0016】

【図1】第１実施形態に係る流体供給装置を備えた基板処理装置の構成図である。

【図2】第１実施形態に係る流体供給装置の一部の斜視図である。

【図3】第１実施形態に係る流体供給装置の一部の斜視図である。

【図4】第１実施形態に係る流体供給装置のノズルの断面図である。

【図5】第１実施形態に係る流体供給装置の一部の平面図である。

【図6】第１実施形態に係る流体供給装置の動作を示す説明図である。

【図7】第１実施形態に係る流体供給装置の動作を示す説明図である。

【図8】第１実施形態に係る流体供給装置の動作を示す説明図である。

【図9】第１遮光部材および第２遮光部材の変形例を示す模式図である。

【図10】第２実施形態に係る流体供給装置の一部の斜視図である。

【発明を実施するための形態】

【0017】

以下、本発明に係る流体供給装置について、図面を参照して説明する。

【0018】

［基板処理装置］
図１は、第１実施形態に係る流体供給装置１００を備えた基板処理装置１１０の構成図である。図２は、流体供給装置１００の一部の斜視図である。図３は、流体供給装置１００の一部の斜視図である。図４は、第１ノズル１１および第２ノズル１２の断面図である。図５は、流体供給装置１００の一部の平面図である。

【0019】

図１に示すように、基板処理装置１１０は、例えば、洗浄用の液の存在下で、基板Ｗの中心軸の周りに基板Ｗを自転させながら基板Ｗの表面を洗浄する。基板Ｗとしては、例えば、半導体ウェハ等を挙げることができる。基板処理装置１１０は、例えば、基板洗浄装置である。基板Ｗは、対象物の一例である。

【0020】

基板処理装置１１０は、流体供給装置１００と、基板支持部１１１と、を備える。
基板支持部１１１は、基板Ｗを周方向に回転可能に支持する。基板支持部１１１は、基板Ｗを水平な姿勢で支持することができる。

【0021】

以下の説明において、ＸＹＺ直交座標系を用いる場合がある。Ｘ方向およびＹ方向は、基板Ｗの上面と平行である。Ｘ方向とＹ方向とは互いに直交する。Ｚ方向はＸ方向およびＹ方向に直交する。平面視は、Ｚ方向から見ることである。Ｘ方向およびＹ方向に沿う面を「ＸＹ平面」という。ＸＹ平面は、例えば、水平面である。Ｘ方向およびＺ方向に沿う面を「ＸＺ平面」という。Ｙ方向およびＺ方向に沿う面を「ＹＺ平面」という。Ｘ方向の一方の向きは＋Ｘである。－Ｘは＋Ｘと反対の向きである。－Ｘ側は前側である。＋Ｘ側は後側である。Ｙ方向の一方の向きは＋Ｙである。－Ｙは＋Ｙと反対の向きである。

【0022】

［流体供給装置］（第１実施形態）
図２および図３に示すように、第１実施形態に係る流体供給装置１００は、第１ノズル１１と、第２ノズル１２と、第１遮光部材２１（第１ドグ）と、第２遮光部材２２（第２ドグ）と、光センサ３０と、検知部４０と、支持部５０とを備える。

【0023】

第１ノズル１１は、基板Ｗに、第１供給管（図示略）から供給された洗浄用の液を供給する管状体である。「洗浄用の液」は、薬液であってもよいし、リンス液であってもよい。薬液は、例えば、アンモニア過酸化水素（ＳＣ１）、塩酸過酸化水素（ＳＣ２）、硫酸過酸化水素（ＳＰＭ）、硫酸加水、フッ酸等を含む。リンス液としては、超純水、純水（ＤＩＷ）等が挙げられる。本実施形態では、第１ノズル１１は、薬液（第１流体）を供給する。薬液の噴射方向（供給方向）は、第１ノズル１１の向きによって定められる。

【0024】

第２ノズル１２は、基板Ｗに、第２供給管（図示略）から供給された洗浄用の液を供給する管状体である。本実施形態では、第２ノズル１２は、リンス液（第２流体）を供給する。リンス液の噴射方向（供給方向）は、第２ノズル１２の向きによって定められる。

【0025】

支持部５０は、支持フレーム５８と、第１支持体６１と、第２支持体７１とを備える。支持フレーム５８は、例えば、ＸＺ平面と平行な板状とされている。支持フレーム５８は上下方向に延在する。

【0026】

第１支持体６１は、第１ノズル１１を支持する。第１支持体６１は、第１取付板６３と、第１支持板６４と、を備える。第１取付板６３は、支持フレーム５８と平行である。第１取付板６３は、支持フレーム５８に取り付けられている。第１支持板６４は、第１取付板６３の前端から－Ｙ側に突出する。第１支持板６４は、第１ノズル１１が挿通する挿通孔６４ａを有する。

【0027】

第２支持体７１は、第２ノズル１２を支持する。第２支持体７１は、第２取付板７３と、第２支持板７４とを備える。第２取付板７３は、支持フレーム５８と平行である。第２取付板７３は、支持フレーム５８に取り付けられている。第２支持板７４は、第２取付板７３の前端から－Ｙ側に突出する。第２支持板７４は、第２ノズル１２が挿通する挿通孔７４ａを有する。

【0028】

第１支持体６１と第２支持体７１とは、上下方向（Ｚ方向）に位置を違えて設けられている。第１支持体６１は、第２支持体７１より高い位置にある。

【0029】

第１ノズル１１には、第１保持部６２が取り付けられている。第１保持部６２は、第１支持板６４の前側に配置されて第１ノズル１１を保持する。第１保持部６２は、第１ノズル１１が挿通する挿通孔６２ａを有する。第１保持部６２の側面には、固定具７５，７６によって連結部材６５が取り付けられている。

【0030】

第１遮光部材２１は、延在部２３と、第１遮光部２４とを備える。延在部２３は、取付板１３と、延出板１４とを備える。取付板１３はＸＺ平面と垂直な板状とされている。取付板１３は＋Ｘ側に向かって上昇するように傾斜している。取付板１３は、連結部材６５の上面に重ねられる。取付板１３は、固定具７７，７８によって連結部材６５に取り付けられている。

【0031】

延出板１４は、前板部１５と、後板部１６とを備える。延出板１４は、ＸＺ平面と平行な板状とされている。前板部１５は、取付板１３の＋Ｙ側の側縁に連設されている。前板部１５は＋Ｘ側に向かって上昇するように傾斜している。後板部１６は、前板部１５の後端から後方（＋Ｘ側）に延出する。

【0032】

第１遮光部２４は、後板部１６の後端から－Ｙ側に突出する。第１遮光部２４は、発光部３１から出射した光の光軸に対して交差する板状とされている。第１遮光部２４は、例えば、ＹＺ平面と平行な板状とされている。

【0033】

第１遮光部２４には、第１光通過領域２１ａが形成されている。第１光通過領域２１ａは、例えば、第１遮光部２４を厚さ方向に貫通する開口（貫通孔）である。第１光通過領域２１ａは、発光部３１から出射した光が通過可能である。第１光通過領域２１ａの形状は特に限定されないが、例えば、円形状である。

【0034】

第１遮光部材２１は、連結部材６５を介して第１保持部６２に取り付けられているため、第１ノズル１１の変位に連動して変位可能である。第１ノズル１１は、例えば、挿通孔６４ａに挿通する箇所（支持箇所）を支点として回動することによって姿勢を変化させることができる。第１遮光部材２１は、第１ノズル１１の変位に伴って、第１ノズル１１と一体的に変位する。

【0035】

第２ノズル１２には、第２保持部７２が取り付けられている。第２保持部７２は、第２支持板７４の前側に配置されて第２ノズル１２を保持する。第２保持部７２は、第２ノズル１２が挿通する挿通孔７２ａを有する。

【0036】

第２保持部７２には、連結部材８０が取り付けられている。連結部材８０は、取付板８１と、延出板８２とを備える。取付板８１は、ＸＺ平面と平行な板状とされている。取付板８１は、固定具８５，８６によって第２保持部７２の側面に取り付けられている。

【0037】

延出板８２は、前板部８３と、後板部８４とを備える。延出板８２はＸＺ平面と垂直な板状とされている。前板部８３は、取付板８１の下縁に連設されている。前板部８３は＋Ｘ側に向かって上昇するように傾斜している。後板部８４は、前板部８３の後端から後方（＋Ｘ側）に延出する。後板部８４の上面には、固定部材８７が設けられている。固定部材８７は、固定具８９によって後板部８４に取り付けられている。

【0038】

第２遮光部材２２は、取り付け部２５と、第１延出部２６と、第２延出部２７と、第２遮光部２８とを備える。取り付け部２５は、固定具８８によって固定部材８７に取り付けられている。取り付け部２５は、ＸＺ平面と平行な板状とされている。第１延出部２６は、取り付け部２５の＋Ｘ側の端から＋Ｙ側に延出する。第２延出部２７は、第１延出部２６の＋Ｙ側の端から下方（－Ｚ側）に延出する。第１延出部２６および第２延出部２７は、ＹＺ平面と平行な板状とされている。

【0039】

第２遮光部２８は、第２延出部２７の下端から－Ｙ側に延出する。第２遮光部２８は、発光部３１から出射した光の光軸に対して交差する板状とされている。第２遮光部２８は、例えば、ＹＺ平面と平行な板状とされている。第２遮光部２８は、後板部８４より低く位置する。

【0040】

第２遮光部２８には、第２光通過領域２２ａが形成されている。第２光通過領域２２ａは、例えば、第２遮光部２８を厚さ方向に貫通する開口（貫通孔）である。第２光通過領域２２ａは、発光部３１から出射した光が通過可能である。第２光通過領域２２ａの形状は特に限定されないが、例えば、円形状である。

【0041】

第１ノズル１１および第２ノズル１２が基準位置にあるとき、第１光通過領域２１ａと第２光通過領域２２ａとは、Ｘ方向から見て少なくとも一部が重なる位置にある。

【0042】

第１光通過領域２１ａの内径と第２光通過領域２２ａの内径とは異なり、Ｘ方向から見て光通過領域２１ａ，２２ａのうち一方が他方を包含していてもよい。第１光通過領域２１ａと第２光通過領域２２ａとは同径であって、Ｘ方向から見て光通過領域２１ａ，２２ａの全域が重なっていてもよい。

【0043】

第２遮光部２８は、第１遮光部材２１の第１遮光部２４に対して＋Ｘ側に位置する。第２遮光部２８は、例えば、第１遮光部２４と平行である。第２遮光部２８は、第１遮光部２４に対して＋Ｘ側に離間していることが望ましい。

【0044】

第２遮光部材２２は、固定部材８７および連結部材８０を介して第２保持部７２に取り付けられているため、第２ノズル１２の変位に連動して変位可能である。第２ノズル１２は、例えば、挿通孔７４ａに挿通する箇所（支持箇所）を支点として回動することによって姿勢を変化させることができる。第２遮光部材２２は、第２ノズル１２の変位に伴って、第２ノズル１２と一体的に変位する。

【0045】

図４に示すように、第１遮光部２４は、第１ノズル１１（第１支持板６４の挿通孔６４ａに挿通する箇所）までの第１距離と、第２ノズル１２（第２支持板７４の挿通孔７４ａに挿通する箇所）までの第２距離とが同等である位置に設置するのが好ましい。「第１距離と第２距離とが同等」は、例えば、第１距離／第２距離が０．８～１．２の範囲にあることである。第２遮光部２８についても、第１距離と第２距離とが同等であることが好ましい。

【0046】

図３に示すように、光センサ３０は、発光部３１と、受光部３２とを備える。発光部３１は、検知用の光を発する。受光部３２は、発光部３１からの光を受光する。発光部３１および受光部３２は、支持台３３に支持されている。発光部３１は、支持台３３の保持溝３３ａに保持される。受光部３２は、発光部３１は、支持台３３の保持溝３３ｂに保持される。発光部３１は、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）である。受光部３２は、例えば、フォトトランジスタである。

【0047】

受光部３２は、発光部３１に対して＋Ｘ側に離れた位置に設置されている。そのため、発光部３１からの光は、基板Ｗから離れる方向に照射される。
光センサ３０は、Ｘ方向から見て、少なくとも一部が第１ノズル１１と第２ノズル１２との間の空間に配置されていることが望ましい。

【0048】

検知部４０は、受光部３２による受光量に基づいて、第１ノズル１１と第２ノズル１２のうち少なくとも一方の変位を検知する。例えば、受光量が予め定められた設定範囲内であれば、第１ノズル１１と第２ノズル１２の変位は小さい（または変位していない）と判定することができる。受光量が設定範囲の下限値を下回った場合には、第１ノズル１１と第２ノズル１２のうち少なくとも一方が大きく変位したと判定することができる。

【0049】

第１ノズル１１および第２ノズル１２の姿勢が変動すると、流体（薬液、リンス液等）が基板Ｗに吹き付けられる位置が変化する。第１ノズル１１および第２ノズル１２の向きは、例えば、上下（Ｚ方向）に変動できる（図４参照）。第１ノズル１１および第２ノズル１２の向きは、例えば、左右（Ｙ方向）に変動できる（図５参照）。第１ノズル１１および第２ノズル１２の向きが上下に変動すると、第１遮光部２４および第２遮光部２８は概略、上下に変位する。第１ノズル１１および第２ノズル１２の向きが左右に変動すると、第１遮光部２４および第２遮光部２８は概略、左右に変位する。

【0050】

［流体供給装置の使用方法］
図６～図８を参照して、流体供給装置１００の使用方法について説明する。
図６に示すように、第１非遮光位置Ｐ１１は、発光部３１からの光を遮らない第１遮光部材２１の位置である。図７に示すように、第１遮光位置Ｐ２１は、発光部３１からの光を遮る第１遮光部材２１の位置である。第１遮光部材２１は、第１非遮光位置Ｐ１１と第１遮光位置Ｐ２１とを切り替え可能である。

【0051】

図６に示すように、第２非遮光位置Ｐ１２は、発光部３１からの光を遮らない第２遮光部材２２の位置である。図８に示すように、第２遮光位置Ｐ２２は、発光部３１からの光を遮る第２遮光部材２２の位置である。第２遮光部材２２は、第２非遮光位置Ｐ１２と第２遮光位置Ｐ２２とを切り替え可能である。

【0052】

図６に示すように、第１ノズル１１および第２ノズル１２が予め定められた基準位置にあるとき、第１遮光部材２１は第１非遮光位置Ｐ１１にある。第２遮光部材２２は第２非遮光位置Ｐ１２にある。発光部３１からの光は、光通過領域２１ａ，２２ａを通過し、受光部３２に達する。そのため、受光部３２の受光量は予め定められた設定範囲内となる。この場合、検知部４０は、第１ノズル１１と第２ノズル１２の変位が小さい（または変位していない）と判定する。

【0053】

図７に示すように、第１ノズル１１の姿勢が基準位置から変動したとき、第１遮光部２４の位置は変わり、第１光通過領域２１ａも変位する。図７では、第１遮光部材２１は、発光部３１からの光を遮る第１遮光位置Ｐ２１にある。受光部３２の受光量が予め定められた設定範囲を下回った場合、検知部４０は、第１ノズル１１と第２ノズル１２の少なくとも一方の変位が大きいと判定する。

【0054】

図８に示すように、第２ノズル１２の姿勢が基準位置から変動したとき、第２遮光部２８の位置は変わり、第２光通過領域２２ａも変位する。図８では、第２遮光部材２２は、発光部３１からの光を遮る第２遮光位置Ｐ２２にある。受光部３２の受光量が予め定められた設定範囲を下回った場合、検知部４０は、第１ノズル１１と第２ノズル１２の少なくとも一方の変位が大きいと判定する。

【0055】

流体供給装置１００は、基板Ｗに対して流体（薬液、リンス液等）が吹き付けられる位置が基準位置から、予め定められた設定値以上、変化したときに、検知部４０がノズル１１，１２の変位を検知できることが望ましい。光通過領域２１ａ，２２ａの内径は、この変位を検知できるように定めることができる。

【0056】

［実施形態の流体供給装置が奏する効果］
流体供給装置１００では、第１遮光部材２１は、第１ノズル１１の変位に連動して変位することで第１非遮光位置Ｐ１１と第１遮光位置Ｐ２１とを切り替え可能である。そのため、利用者が第１ノズル１１に誤って触れることなどによって第１ノズル１１が変位したときに、第１ノズル１１の変位を精度よく検知できる。

【0057】

流体供給装置１００では、第１遮光部材２１の変位を光センサ３０で検知できるため、ノズルの画像に基づいて変位を検知する場合とは異なり、撮像装置などの大掛かりな構成は不要であり、装置構成を簡略化できる。流体供給装置１００は、装置構成の簡略化により、装置の小型化および低コスト化の点で有利となる。

【0058】

流体供給装置１００では、第２遮光部材２２は、第２ノズル１２の変位に連動して変位することで第２非遮光位置Ｐ１２と第２遮光位置Ｐ２２とを切り替え可能である。そのため、第２ノズル１２が変位したときに、第２ノズル１２の変位を精度よく検知できる。流体供給装置１００では、１つの光センサ３０を用いて第１ノズル１１および第２ノズル１２の変位を検知できるため、省スペース化が可能である。よって、装置構成を簡略にするとともに、装置の小型化を図ることができる。

【0059】

流体供給装置１００では、第１遮光部材２１（第１遮光部２４）に、開口である第１光通過領域２１ａが形成されている。そのため、第１遮光部２４がＹＺ平面に沿ういずれの方向（例えば、上下および左右方向）に変位した場合でも、この変位を検知できる。よって、第１ノズル１１の変位の検知精度を高めることができる。

【0060】

流体供給装置１００では、第２遮光部材２２（第２遮光部２８）に、開口である第２光通過領域２２ａが形成されている。そのため、第２遮光部２８がＹＺ平面に沿ういずれの方向に変位した場合でも、この変位を検知できる。よって、第２ノズル１２の変位の検知精度を高めることができる。

【0061】

光センサ３０は、少なくとも一部が第１ノズル１１と第２ノズル１２との間の空間に配置されていると、省スペース化の点で好適である。
発光部３１は、基板Ｗから離れる方向に光を照射する構成であると、基板Ｗが検知用の光による影響（例えば、基板Ｗの表面の酸化）を受けるのを回避できる。

【0062】

図４に示すように、第１遮光部２４および第２遮光部２８は、第１ノズル１１からの距離と第２ノズル１２からの距離とが同等であると、第１ノズル１１の変位による第１光通過領域２１ａの位置ずれ量と、第２ノズル１２の変位による第２光通過領域２２ａの位置ずれ量とを同等にすることができる。そのため、第１ノズル１１の変位と第２ノズル１２の変位とをいずれも精度よく検知できる。

【0063】

［第１遮光部材および第２遮光部材の変形例］
図９は、第１遮光部材２１および第２遮光部材２２の変形例を示す模式図である。
図９に示すように、第１遮光部材２１Ａは、第１光通過領域２１ａに、透明材料で形成された窓部４１（透明窓）が形成されている。第２遮光部材２２Ａは、第２光通過領域２２ａに、透明材料で形成された窓部４２（透明窓）が形成されている。窓部４１，４２は、例えば、ガラス、プラスチックなどで形成される。

【0064】

［流体供給装置］（第２実施形態）
図１０は、第２実施形態に係る流体供給装置２００の一部の斜視図である。
流体供給装置２００は、第１カバー１２０（カバー）と、第２カバー１３０（カバー）とを備える点で、流体供給装置１００（図２参照）と異なる。
第１カバー１２０は、発光部３１および受光部３２を覆う。第１カバー１２０は、支持台３３の外面に取り付けられる。

【0065】

第２カバー１３０は、前板１３１と、側板１３２と、後板１３３と、を備える。第２カバー１３０は、遮光部材２１，２２の少なくとも一部（詳しくは、遮光部２４，２８）（図２参照）を覆う。前板１３１、側板１３２および支持台３３は、連結部材８０の後板部８４の下面から垂下する。

【0066】

前板１３１は、ＹＺ平面と平行とされている。前板１３１は、第１遮光部２４に比べて前方（－Ｘ側）に位置する。前板１３１は、Ｘ方向から見て光通過領域２１ａ，２２ａを包含する大きさとされている。側板１３２は、前板１３１の－Ｙ側の端から＋Ｘ側に延出する。側板１３２は、ＸＺ平面と平行とされている。側板１３２は、遮光部２４，２８（図２参照）に対して外側方（－Ｙ側）に位置する。側板１３２は、Ｙ方向から見て光通過領域２１ａ，２２ａを包含する。後板１３３は、側板１３２の＋Ｘ側の端から＋Ｙ側に延出する。後板１３３は、ＹＺ平面と平行とされている。後板１３３は、第２遮光部２８に比べて後方（＋Ｘ側）に位置する。後板１３３は、Ｘ方向から見て光通過領域２１ａ，２２ａを包含する。

【0067】

流体供給装置２００は、遮光部材２１，２２の少なくとも一部（詳しくは、遮光部２４，２８）を覆う第２カバー１３０を備える。そのため、流体（例えば、洗浄用の液）の飛沫が光通過領域２１ａ，２２ａに付着することによる誤検知を抑制することができる。

【0068】

なお、本発明の技術的範囲は前記実施形態に限定されず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
流体供給装置において供給される「流体」は液体が好ましいが、流体は液体に限定されない。例えば、流体は気体であってもよい。流体は、気液混合物であってもよい。流体は、液体と固体とを含む固液混合物であってもよい。

【0069】

図２に示す流体供給装置１００は、２つのノズルを有するが、ノズルの数は特に限定されない。ノズルの数は１でもよいし、複数（２以上の任意の数）であってもよい。例えば、流体供給装置は、薬液を供給する複数のノズルと、リンス液を供給する１つのノズルとを備えていてもよい。

【0070】

図３に示す第１遮光部材２１および第２遮光部材２２の光通過領域２１ａ，２２ａは開口であるが、光通過領域は第１遮光部材および第２遮光部材の周縁に形成された凹部であってもよい。
第１遮光位置Ｐ２１は、発光部３１からの光の少なくとも一部を遮る第１遮光部材２１の位置であってよい。第２遮光位置Ｐ２２は、発光部３１からの光の少なくとも一部を遮る第２遮光部材２２の位置であってよい。
光センサ３０は、第１遮光部材２１と第２遮光部材２２のうち少なくとも一方が遮光位置となったときにこれを検知する構成であるが、光センサは、第１遮光部材と第２遮光部材のうち少なくとも一方が非遮光位置となったときにこれを検知する構成であってもよい。

【0071】

その他、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上記した実施形態における構成要素を周知の構成要素に置き換えることは適宜可能であり、また、上記した実施形態や変形例を適宜組み合わせてもよい。

【符号の説明】

【0072】

１１…第１ノズル、１２…第２ノズル、２１…第１遮光部材、２１ａ…第１光通過領域、２２…第２遮光部材、２２ａ…第２光通過領域、３０…光センサ、３１…発光部、３２…受光部、４０…検知部、４１，４２…窓部（透明窓）、１００，２００…流体供給装置、１３０…第２カバー（カバー）、Ｐ１１…第１非遮光位置、Ｐ１２…第２非遮光位置、Ｐ２１…第１遮光位置、Ｐ２２…第２遮光位置、Ｗ…基板（対象物）

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】