特開2026-2521半導体装置及びその製造方法

発明の名称　半導体装置及びその製造方法

出願人　新電元工業株式会社　（識別番号 2037）

　　　　特許公開件数ランキング 1193 位（4件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 360 位（16件）（共同出願を含む）

出願人　株式会社秋田新電元　（識別番号 591132955）

　　　　特許公開件数ランキング 11067 位（1件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 9036 位（0件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2026-2521

公報発行日　2026年1月8

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2026-2521

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