特開2026-93847高分子粒子製造装置及び製造方法
発明の名称 高分子粒子製造装置及び製造方法
出願人 パナソニックＩＰマネジメント株式会社 （識別番号 314012076）
特許公開件数ランキング 5 位（1336件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 3 位（1269件）（共同出願を含む）
公報番号 特開-2026-93847
公報発行日 2026年6月9
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2026-93847
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