(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-01-21
(45)【発行日】2022-01-31
(54)【発明の名称】マイクロプレート内の細胞材料をせん断するための超音波システム
(51)【国際特許分類】
H02N 2/02 20060101AFI20220124BHJP
C12M 1/42 20060101ALI20220124BHJP
C12N 1/00 20060101ALI20220124BHJP
H01L 41/09 20060101ALI20220124BHJP
H04R 1/34 20060101ALI20220124BHJP
【FI】
H02N2/02
C12M1/42
C12N1/00 N
H01L41/09
H04R1/34 330A
(21)【出願番号】P 2019560044
(86)(22)【出願日】2018-01-18
(86)【国際出願番号】 US2018014288
(87)【国際公開番号】W WO2018136670
(87)【国際公開日】2018-07-26
【審査請求日】2019-09-18
(32)【優先日】2017-01-20
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(32)【優先日】2018-01-17
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(73)【特許権者】
【識別番号】519263970
【氏名又は名称】マッチスティック・テクノロジーズ・インコーポレイテッド
(74)【代理人】
【識別番号】100108453
【氏名又は名称】村山 靖彦
(74)【代理人】
【識別番号】100110364
【氏名又は名称】実広 信哉
(74)【代理人】
【識別番号】100133400
【氏名又は名称】阿部 達彦
(72)【発明者】
【氏名】トーマス・ジェイ・マトゥーラ
(72)【発明者】
【氏名】ブライアン・イー・マコナフィー
(72)【発明者】
【氏名】グレッグ・ピー・ダーリントン
(72)【発明者】
【氏名】カロル・ボムスツィク
(72)【発明者】
【氏名】アダム・ディー・マックスウェル
【審査官】若林 治男
(56)【参考文献】
【文献】特表2006-505803(JP,A)
【文献】国際公開第2016/011075(WO,A1)
【文献】特表2011-517906(JP,A)
【文献】特開2006-165923(JP,A)
【文献】特開2014-187285(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
H02N 2/02
C12M 1/42
C12N 1/00
H01L 41/09
H04R 1/34
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
増幅された駆動パルスに応答して超音波エネルギーを生成するように構成される少なくとも1つの圧電素子と、
前記少なくとも1つの圧電素子に接合されるレンズ層であって、前記レンズ層が、前記少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものによって作成された超音波エネルギーを前記レンズ層と超音波連通して配置可能なマイクロプレートの複数のウェルに集束させるように構成される、その中に形成される複数のレンズを有し、前記複数のレンズのうちの2つ以上が、前記少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものの上にある、レンズ層と
を備える、圧電素子アレイアセンブリ。
【請求項2】
4つのレンズが前記少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものの上にある、請求項1に記載の圧電素子アレイアセンブリ。
【請求項3】
前記少なくとも1つの圧電素子がジルコン酸チタン酸鉛を含む材料から作られる、請求項1に記載の圧電素子アレイアセンブリ。
【請求項4】
前記レンズ層が、前記少なくとも1つの圧電素子の音響インピーダンスと、前記レンズ層とマイクロプレートとの間に配置可能な結合流体の音響インピーダンスとの間の音響インピーダンスを有する材料から作られる、請求項1に記載の圧電素子アレイアセンブリ。
【請求項5】
細胞材料をせん断するためのシステムであって、前記システムが、
超音波駆動パルスを生成するように構成される信号発生器と、
前記信号発生器に電気的に結合され、前記超音波駆動パルスを増幅するように構成される増幅器と、
増幅された駆動パルスに応答して超音波エネルギーを生成するように構成される少なくとも1つの圧電素子を含む圧電素子アレイと、
複数のレンズであって、前記複数のレンズのうちの2つ以上が、前記少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものの上にあり、前記複数のレンズのうちの単一のものが、超音波エネルギーをマイクロプレートの複数のウェルのうちの単一のものに集束させるように構成される、複数のレンズと
を備える、システム。
【請求項6】
前記少なくとも1つの圧電素子に接合されるレンズ層をさらに備え、前記レンズ層がその中に形成される複数のレンズを有する、請求項5に記載のシステム。
【請求項7】
前記複数のレンズのうちの単一のものが、マイクロプレート内の複数のウェルのうちの単一のものの中に形成される、請求項5に記載のシステム。
【請求項8】
請求項5から7のいずれか一項に記載のシステムであって、システムが、
ハウジング
であって、前記圧電素子アレイが前記ハウジング内に配置されている、ハウジングと、
その中にトランスデューサ流体を流すように構成される流体工学システムと、
前記ハウジング上に配置されるシールであって、前記シールは、その上で
前記マイクロプレートをシール係合で受け入れるように構成されており、それにより、前記圧電素子アレイ、前記ハウジング、および前記シール上にシール係合で受け入れられる
前記マイクロプレートが、前記流体工学システムと流体連通してその中にトランスデューサ流体を含むように構成されるチャンバを画定するシールとを
備える、システム。
【請求項9】
前記少なくとも1つの圧電素子に接合されるレンズ層をさらに備え、前記レンズ層がその中に形成される複数のレンズを有する、請求項8に記載のシステム。
【請求項10】
前記複数のレンズのうちの単一のものが、マイクロプレート内の複数のウェルのうちの単一のものの中に形成される、請求項8に記載のシステム。
【請求項11】
前記シール上でマイクロプレートをシール係合で保持するように構成されるクランプ機構をさらに備える、請求項8に記載のシステム。
【請求項12】
前記ハウジング上に配置される開閉可能な蓋をさらに備える、請求項8に記載のシステム。
【請求項13】
前記蓋の位置を感知するように機械的に構成されるインターロックデバイスをさらに備え、前記インターロックデバイスは、前記蓋が開位置にあるときに前記圧電素子アレイの励起を防止するように構成される、請求項12に記載のシステム。
【請求項14】
前記流体工学システムが、前記ハウジング内に配置され、その中にトランスデューサ流体を受け入れるように構成されるリザーバを含む、請求項8に記載のシステム。
【請求項15】
前記流体工学システムが、前記ハウジング内に配置され、トランスデューサ流体の流れを引き起こすように構成されるポンプをさらに含む、請求項14に記載のシステム。
【請求項16】
前記流体工学システムが、脱泡および脱気サブシステムを含む、請求項8に記載のシステム。
【請求項17】
細胞材料をせん断する方法であって、方法が、
内部に画定される複数のウェル内に細胞材料が配置されるマイクロプレートをハウジング上に配置されるシール上に配置するステップと、
前記マイクロプレートを前記シール上にシール係合でクランプするステップと、
トランスデューサ流体が複数のレンズと流体連通して配置されるように、前記ハウジング内に配置される流体工学システム内
の前記トランスデューサ流体を流すステップと、
超音波エネルギーを生成するために圧電素子のアレイを励起させるステップと、
前記複数のウェル内に配置される前記細胞材料内にキャビテーションが誘発されるように
、圧電素子の前記アレイに結合されたレンズ層内に形成された複数のレンズを用いて超音波エネルギーを前記複数のウェル内に集束させるステップとを含
み、
前記複数のレンズのうちの2つ以上が前記複数の圧電素子のうちの単一のものの上にあり、
前記複数のレンズのうちの単一のものが超音波エネルギーを前記マイクロプレートの前記複数のウェルのうちの単一のものに集束させるように構成される、方法。
【請求項18】
前記複数のレンズのうちの単一のものが前記複数のウェルのうちの単一のものの中に形成される、請求項17に記載の方法。
【請求項19】
前記マイクロプレート内に画定される前記複数のウェル内に細胞材料が配置された前記マイクロプレートを前記ハウジング上に配置された前記シール上に配置する前に前記ハウジング内の蓋を開くステップと、
前記シール上に前記マイクロプレートをシール係合でクランプした後に前記蓋を閉めるステップと
をさらに含む、請求項17に記載の方法。
【請求項20】
トランスデューサ流体を前記流体工学システム内に流すことを可能にし、前記マイクロプレートを前記シール上にシール係合でクランプした後に、前記蓋を閉めることに応答して前記圧電素子のアレイを励起することを可能にするインターロック条件を満たすステップをさらに含む、請求項
19に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、細胞材料をせん断するための超音波システムに関する。
【背景技術】
【0002】
このセクションにおける記載は、本開示に関連する背景情報を単に提供し、従来技術を構成しない場合がある。
【0003】
サンプル調製は、生体サンプルが分析される前に実行される予備ステップのうちの1つである。サンプル調製は、細胞または細胞よりも小さい断片への材料の分解をしばしば含む。1つの特定の用途は、より小さい断片へのDNAまたはクロマチンの分解(またはせん断)である。超音波は、材料を分解する1つの公知の方法である。いくつかの従来技術のデバイスにおいて、液体槽に入れられ、宝石クリーナに似ているが、はるかにより高い出力レベルの高強度超音波にさらされる試験管内に生体サンプルが配置される。サンプルの不均一な露出を防止するために、試験管は、処理されるときに可変超音波場内を移動させられる。この手法は、機能するが、一度に1つ(または数個)の試験管サンプルを処理することに限定され、それによって、長い処理時間をもたらす。さらに、不均一な超音波場は、一貫したせん断を得るために試験管が移動させられることを必要とするホットスポットとコールドスポットとを作成する場合がある。
【0004】
細胞処理のスループットを増加させるために、いくつかの現在知られているシステムは、マイクロプレート内の細胞サンプルを分析する。当業者によって理解されるように、マイクロプレートは、サンプルが分析のために配置されることが可能なウェルのアレイを含むトレイである。マイクロプレートを使用することの利点は、自動化された機器を用いてそのようなトレイを処理することと、サンプルをある容器から別の容器に移動することなく複数のサンプルを同時に処理することとを含む。
【0005】
マイクロプレート内の細胞サンプルをせん断するための1つの現在知られているシステムは、ウェル内に延びる超音波振動ピンを使用する。しかしながら、これは、様々なウェル間の相互汚染につながる可能性があり、ピンの広範囲な洗浄を必要とする。それはまた、組織サンプルにあまり役に立たない。さらに、結果の品質は、サンプル内のチップの正確な位置に大きく依存する。
【0006】
別の現在知られている手法は、単一のウェルの下に配置され、ウェル内のエネルギーを集束させる大きい超音波トランスデューサを使用する。集束超音波エネルギーは、ウェル内のサンプル材料内にキャビテーションを引き起こすが、1つのウェルのみが一度に処理される。96エレメントマイクロプレートの場合には、すべてのサンプルをせん断する処理時間は、数時間を超える可能性があり、その間、いくつかのサンプルが劣化する場合がある。
【0007】
別の現在知られている手法は、8または12のDNAサンプルの列または行を処理するデバイスを使用するが、クロマチンを処理することができない。このデバイスは、96ウェルのサブセットであり、マイクロプレート全体ではない。
【0008】
マイクロプレート内の細胞材料を処理する別の現在知られている手法は、各ウェルの下に単一の超音波トランスデューサを配置することである。例えば、Hahnらの米国特許第6,699,711号(「Hahn」)を参照されたい。しかしながら、DNAとクロマチンとを含む生体材料を分析することにおける使用のためにHahn特許において記載されているシステムを用いて実験しようとするとき、システムが、トランスデューサを破損させることなくクロマチンをせん断するのに効果がないことがわかった。
【0009】
別の現在知られている手法は、マイクロプレート全体が一度に処理される大きい超音波ホーンを使用する。しかしながら、システムは、低kHz周波数において動作し、不均一な処理をもたらすホット/コールドスポットが存在するので、ウェルは、均一に処理されない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0010】
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【0011】
開示される実施形態は、例示的な圧電素子アレイアセンブリと、圧電素子アレイアセンブリを製造する方法と、細胞材料をせん断するためのシステムおよび方法とを含む。
【0012】
一実施形態において、例示的な圧電素子アレイアセンブリが提供される。圧電素子アレイアセンブリは、増幅された駆動パルスに応答して超音波エネルギーを生成するように構成される少なくとも1つの圧電素子を含む。レンズ層が少なくとも1つの圧電素子に結合される。レンズ層は、少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものによって作成された超音波エネルギーをレンズ層と超音波連通して配置可能なマイクロプレートの複数のウェルに集束させるように構成される、その中に形成される複数のレンズを有し、複数のレンズのうちの2つ以上が、少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものの上にある。
【0013】
別の実施形態において、圧電素子アレイアセンブリを製造する例示的な方法が提供される。方法は、増幅された駆動パルスに応答して超音波エネルギーを生成するように構成される少なくとも1つの圧電素子を設けるステップと、少なくとも1つの圧電素子にレンズ層を接合するステップであって、レンズ層が、少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものによって作成された超音波エネルギーをレンズ層と超音波連通して配置可能なマイクロプレートの複数のウェルに集束させるように構成される、その中に形成される複数のレンズを有し、複数のレンズのうちの2つ以上が少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものの上にある、ステップとを含む。
【0014】
別の実施形態において、細胞材料をせん断するための例示的なシステムが提供される。システムは、超音波駆動パルスを生成するように構成される信号発生器を含む。増幅器が、信号発生器に電気的に結合され、超音波駆動パルスを増幅するように構成される。圧電素子アレイは、増幅された駆動パルスに応答して超音波エネルギーを生成するように構成される少なくとも1つの圧電素子と、複数のレンズとを含み、複数のレンズのうちの2つ以上が、少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものの上にあり、複数のレンズのうちの単一のものが、超音波エネルギーをマイクロプレートの複数のウェルのうちの単一のものに集束させるように構成される。
【0015】
別の実施形態において、例示的な方法は、超音波駆動パルスを生成するステップと、超音波駆動パルスを増幅するステップと、増幅された駆動パルスに応答して少なくとも1つの圧電素子を用いて超音波エネルギーを生成するステップと、少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものによって作成される超音波エネルギーを複数のレンズによってマイクロプレートの複数のウェルに集束させるステップとを含み、複数のレンズのうちの2つ以上が、少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものの上にあり、複数のレンズのうちの単一のものが、複数のウェルのうちの単一のものに超音波的に結合される。
【0016】
別の実施形態において、細胞材料をせん断するための別の例示的なシステムが提供される。システムは、タイミング信号を生成するように構成されるコンピュータプロセッサを含む。信号発生器が、タイミング信号に応答して超音波駆動パルスを生成するように構成される。増幅器が、信号発生器に電気的に結合され、超音波駆動パルスを増幅するように構成される。複数の圧電素子が、行および列のアレイにおいて配置される。圧電素子は、増幅された駆動パルスに応答して超音波エネルギーを生成するように構成される。タイミング信号は、複数の圧電素子のうちの隣接するものが同時の駆動パルスおよび時間的に連続する駆動パルスから選択される少なくとも増幅された駆動パルスによって励起されないように生成される。複数のレンズのうちの2つ以上が、複数の圧電素子のうちの単一のものの上にあり、複数のレンズのうちの単一のものが、超音波エネルギーをマイクロプレートの複数のウェルのうちの単一のものに集束させるように構成される。
【0017】
別の実施形態において、細胞材料をせん断するための例示的なシステムが提供される。システムは、ハウジングを含む。信号発生器が、ハウジング内に配置され、超音波駆動パルスを生成するように構成される。増幅器が、ハウジング内に配置され、信号発生器に電気的に結合され、超音波駆動パルスを増幅するように構成される。圧電素子アレイが、ハウジング内に配置される。圧電素子アレイは、増幅された駆動パルスに応答して超音波エネルギーを生成するように構成される少なくとも1つの圧電素子を含む。複数のレンズが、超音波エネルギーをマイクロプレートの複数のウェルに集束させるように構成される。流体工学システムが、その中にトランスデューサ流体を流すように構成される。シールが、ハウジング上に配置される。シールは、シール上にシール係合するように受け入れられる圧電素子アレイ、ハウジング、およびマイクロプレートが、流体工学システムと流体連通してその中にトランスデューサ流体を含むように構成されるチャンバを画定するように、その上にマイクロプレートをシール係合するように受け入れるように構成される。
【0018】
別の実施形態において、細胞材料をせん断する例示的な方法が提供される。方法は、内部に画定される複数のウェル内に細胞材料が配置されるマイクロプレートをハウジング上に配置されるシール上に配置するステップと、マイクロプレートをシール上にシール係合するようにクランプするステップと、トランスデューサ流体が複数のレンズと流体連通状態にされるように、ハウジング内に配置される流体工学システム内にトランスデューサ流体を流すステップと、超音波エネルギーを生成するために圧電素子のアレイを励起させるステップと、複数のウェル内に配置される細胞材料内にキャビテーションが誘発されるように複数のレンズを用いて超音波エネルギーを複数のウェル内に集束させるステップとを含む。
【0019】
さらなる特徴、利点、および適用性の領域は、本明細書で提供される説明から明らかになるであろう。説明および具体的な例は、例示の目的のみを意図するものであり、本開示の範囲を限定することを意図するものではないことが理解されるべきである。
【0020】
本明細書で説明される図面は、例示の目的のみのためのものであり、本開示の範囲をどのように限定することも意図していない。図中の構成要素は、必ずしも一定の比率ではなく、代わりに、開示される実施形態の原理を例示することに重点が置かれている。
【図面の簡単な説明】
【0021】
【
図1A】例示的な圧電素子アレイアセンブリの分解斜視図である。
【
図1B】別の例示的な圧電素子アレイアセンブリの分解斜視図である。
【
図1C】別の例示的な圧電素子アレイアセンブリの分解斜視図である。
【
図1D】別の例示的な圧電素子アレイアセンブリの分解斜視図である。
【
図1E】別の例示的な圧電素子アレイアセンブリの分解斜視図である。
【
図1F】別の例示的な圧電素子アレイアセンブリの分解斜視図である。
【
図2A】圧電素子アレイアセンブリの例示的なアレイの斜視図である。
【
図2B】
図2Aの圧電素子アレイアセンブリのアレイの一部の部分的切り欠きにおける側面図である。
【
図2C】
図2Aの圧電素子アレイアセンブリのアレイの上面図である。
【
図3】細胞材料をせん断するための例示的なシステムの部分的概略形態における分解斜視図である。
【
図4A】例示的なマイクロプレートのウェル内に形成されたレンズの下にある例示的な圧電素子の部分的概略形態における斜視図である。
【
図4B】例示的なマイクロプレートのウェル内に形成されたレンズの下にある
図4Aの圧電素子のアレイの部分的概略形態における端面図である。
【
図4C】マイクロプレートのウェルの詳細の部分的切り欠きにおける斜視図である。
【
図4D】例示的なマイクロプレートのウェル内に形成されたレンズの下にある
図4Aの圧電素子のアレイの部分的概略形態における端面図である。
【
図4E】細胞材料をせん断するための別の例示的なシステムの部分的概略形態における分解斜視図である。
【
図5】細胞材料をせん断するための別の例示的なシステムの部分的概略形態におけるブロック図である。
【
図6】
図5のシステムの流体工学システムの詳細の部分的概略形態における配管図である。
【
図7A】細胞材料をせん断するための例示的なシステムの斜視図である。
【
図7B】
図7Aのシステムの詳細の部分的切り欠きにおける斜視図である。
【
図7C】
図7Aのシステムの詳細の部分的切り欠きにおける斜視図である。
【
図7D】
図7Aのシステムの詳細の部分的切り欠きにおける斜視図である。
【
図7E】
図7Aのシステムの詳細の部分的切り欠きにおける正面図である。
【
図7F】
図7Aのシステムの別の実施形態の詳細の部分的切り欠きにおける正面図である。
【
図8A】
図5のシステムの波形タイミングの詳細を示す図である。
【
図8B】
図5のシステムの波形タイミングの詳細を示す図である。
【
図8C】
図5のシステムの波形タイミングの詳細を示す図である。
【
図8D】
図5のシステムの波形タイミングの詳細を示す図である。
【
図8E】
図5のシステムのさらなる詳細を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0022】
以下の説明は、本質的に単なる例示であり、本開示、用途、または使用を限定することを意図するものではない。
【0023】
以下でさらに詳細に論じるように、開示される実施形態は、例示的な圧電素子アレイアセンブリと、圧電素子アレイアセンブリを製造する方法と、細胞材料をせん断するシステムおよび方法とを含む。概要として、様々な実施形態において、サンプル内に慣性キャビテーションを発生させるために、いくつかのサンプルに十分な量の超音波エネルギーが同時に印加され、それによって、サンプル内のDNAおよびクロマチンの分子結合のいくらかのせん断を生じさせる。
【0024】
上記で論じたように、細胞材料をせん断するために超音波を使用することの難しさのうちの1つは、キャビテーションを引き起こすのに十分なレベルに駆動されたときに、いくつかの現在知られているトランスデューサ素子が割れることである。本明細書で開示される主題の様々な実施形態は、トランスデューサ素子の耐久性を改善するトランスデューサ設計の改善に関する。
【0025】
さらに概要として、本明細書に開示される主題の様々な実施形態は、単一の圧電素子からの超音波エネルギーをマイクロプレートの2つ以上のウェルに集束させることができる例示的な圧電素子アレイアセンブリと、そのような圧電素子アレイアセンブリの製造のための例示的な方法とに関する。本明細書に開示される主題の様々な実施形態は、そのような圧電素子アレイアセンブリが用いられ得る、細胞材料をせん断するためのシステムおよび方法にも関する。本明細書に開示される主題の様々な実施形態は、トランスデューサ流体を用いて圧電素子アレイをマイクロプレートに超音波的に結合することに関する現在知られている態様に改善がなされた、細胞材料をせん断するためのシステムおよび方法にも関する。
【0026】
概要が提供されたので、非限定的な例として、限定としてではなく、詳細を以下に記載する。
【0027】
ここで
図1Aを参照すると、例示的な圧電素子アレイアセンブリ10は、単一の圧電素子12からの超音波エネルギーをマイクロプレート(図示せず)の2つ以上のウェルに集束させることができる。様々な実施形態において、圧電素子アレイアセンブリ10は、増幅された駆動パルスに応答して超音波エネルギーを生成するように構成された少なくとも1つの圧電素子12を含む。レンズ層14が圧電素子12に接合される。レンズ層14には、レンズ16が形成される。各レンズ16は、レンズ層12と超音波連通するように配置されたマイクロプレート(
図1Aには図示せず)の1つのウェルに超音波エネルギーを集束させるように構成される。
図1Aに示すように、2つ以上のレンズ16が単一の圧電素子12の上にある。そのため、2つ以上のレンズ16が単一の圧電素子12の上にあるので、圧電素子アレイアセンブリ10は、単一の圧電素子12からの超音波エネルギーをマイクロプレート(
図1Aには図示せず)の2つ以上のウェルに集束させることができる。
【0028】
さらに
図1A参照すると、様々な実施形態において、圧電素子12は、アルミニウム、金、銅などのような導体で両面をコーティングまたはめっきされた、ジルコン酸チタン酸鉛(Pb[Zr(x)Ti(1-x)]O3)(「PZT」)のような圧電基板材料のストリップを含んでもよい。圧電素子12は、マイクロプレートのウェル内にキャビテーションを引き起こすのに十分な電圧信号で駆動されたときに割れを防ぐように選択された幅、長さ、および厚さの寸法を有する。
【0029】
様々な実施形態において、各圧電素子12は、マイクロプレートの単一のウェルの幅に等しい幅と、マイクロプレートの2つ以上のウェルの下にあるように選択された長さとを有してもよい。したがって、2つ以上のレンズ16が任意の単一の圧電素子12の上にあってもよいことが理解されるであろう。したがって、2つ以上のレンズ16が単一の圧電素子12の上にあるので、圧電素子アレイアセンブリ10は、単一の圧電素子12からの超音波エネルギーをマイクロプレート(
図1Aには図示せず)の2つ以上のウェルに集束させることができる。
【0030】
上記で論じたように、いくつかの実施形態において、各圧電素子12は、マイクロプレートの2つ以上のウェルの下にあるように選択された長さを有してもよい。いくつかの実施形態において、
図1Aに示すように、圧電素子12は、マイクロプレートの4つのウェルの下にあるように選択された長さと、単一のウェルの幅に等しい幅とを有してもよい。そのため、レンズ16のうちの4つが単一の圧電素子12の上にある。従来のマイクロプレートの寸法を使用すると、
図1Aに示す圧電素子12の長さおよび幅は、約36×9mmである。
【0031】
様々な実施形態において、レンズ層14は、その上面において形成された凹レンズ16を有する。レンズ16は、圧電素子12が駆動電圧によって励起されると、圧電素子12によって作成された超音波平面波を集束させるように動作する。レンズ16は、平面波をレンズ14の上に配置されたマイクロプレート(図示せず)のウェルに集束させるように成形される。
【0032】
他の実施形態において、特定の用途に対して望まれるように、他のサイズの圧電素子12が使用されることが可能であり、任意の数のレンズ16が圧電素子12の上にあってもよい。例えば、
図1Bを参照すると、いくつかの実施形態において、圧電素子12は、マイクロプレートの2つのウェルの下にあるように選択された長さと、単一のウェルの幅に等しい幅とを有してもよい。そのため、レンズ16のうちの2つが単一の圧電素子12の上にある。別の例として、
図1Cを参照すると、いくつかの実施形態において、圧電素子12は、マイクロプレートの6つのウェルの下にあるように選択された長さと、単一のウェルの幅に等しい幅とを有してもよい。そのため、レンズ16のうちの6つが単一の圧電素子12の上にある。別の例として、
図1Dを参照すると、いくつかの実施形態において、圧電素子12は、マイクロプレートの8つのウェルの下にあるように選択された長さと、単一のウェルの幅に等しい幅とを有してもよい。そのため、レンズ16のうちの8つが単一の圧電素子12の上にある。別の例として、
図1Eを参照すると、いくつかの実施形態において、圧電素子12は、マイクロプレートの12個のウェルの下にあるように選択された長さと、単一のウェルの幅に等しい幅とを有してもよい。そのため、レンズ16のうちの12個が単一の圧電素子12の上にある。しかしながら、2つ以上のレンズ16が単一の圧電素子12の上にあること以外、単一の圧電素子12の上にあってもよいレンズ16の数に対する他の制限は、意図されておらず、推測されるべきではない。さらに、圧電素子12の幅に対する制限は、意図されず、2×2、2×4、3×4などのような、特定の用途に対して望まれる任意の幅を有してもよい。
【0033】
各実施形態において、圧電素子12は、ストリップ内に引き起こされる応力が単一のウェルの面積よりも大きい面積にわたって広がるように、マイクロプレート内の2つ以上のウェルに超音波エネルギーを送達するようにサイズ決めされる。一実施形態において、圧電素子12の厚さは、500kHzと2MHzとの間で選択された周波数において超音波エネルギーを生成するように選択される。
【0034】
ここで
図1Fを参照すると、レンズ層14のインピーダンスに応じて、いくつかの実施形態において、オプションの整合層18が圧電素子12とレンズ層14との間に配置されてもよい。様々な実施形態において、整合層18は、システムの動作周波数において1/4波長の厚さを有し、限定はしないがエポキシのような接着剤を用いて、圧電素子12の上面とレンズ層14の底部とに接着される。オプションの整合層18は、上記で論じたような任意のサイズの圧電素子12とともに使用されてもよいことが理解されるであろう。
【0035】
様々な実施形態において、整合層18は、省略されてもよい。例えば、いくつかの実施形態において、レンズ層14は、圧電素子12のインピーダンスと、レンズ層14とマイクロプレートのウェルとの間に超音波連通するように配置される、限定はしないが水またはゲルのような結合流体(図示せず)のインピーダンスとの間の音響インピーダンスを有する材料から作られる。そのような実施形態において、整合層18は、適切に省略される。いくつかの実施形態において、レンズ層14は、グラファイト、ホウケイ酸ガラス母材内のフッ素金雲母マイカなどのような適切な材料から作られてもよい。
【0036】
ここで
図2A~
図2Cを参照すると、圧電素子アレイアセンブリ10a、10b、10c、10d...10lの実施形態が、96ウェルマイクロプレート(図示せず)のすべてのウェルに超音波エネルギーを送達するために行および列のアレイ20内に配置される。様々な実施形態において、より大きい数またはより小さい数の圧電素子アレイアセンブリ10が、異なるサイズのマイクロプレートを収容するために使用されることが可能であることが理解されるであろう。圧電素子アレイアセンブリ10a、10b、10c...10lは、4つのレンズ16が各圧電素子アレイアセンブリ10の上にあるようにサイズ決めされているように示されているが、様々な実施形態において、圧電素子アレイアセンブリ10は、(
図1A~
図1Eに示すように)2つ以上のレンズ16が各圧電素子アレイアセンブリ10の上にあるように、望まれるようにサイズ決めされてもよいことも理解されるであろう。様々な実施形態において、圧電素子アレイアセンブリ10は、好ましくは、マイクロプレート(図示せず)の下の圧電素子アレイアセンブリ10の配置を維持するフレーム(図示せず)内に保持される。いくつかの実施形態において、圧電素子12のサイズは、ラップアラウンド電極(図示せず)が電線を圧電素子12に接続するために使用されることを可能にするために、レンズ層14のサイズよりもわずかに大きくてもよい。
【0037】
図3を参照すると、様々な実施形態において、細胞材料が超音波エネルギーでせん断される例示的なシステム環境への導入として、信号発生器22が、増幅器24によって増幅される駆動信号を生成し、各圧電素子12が、増幅器24に電気的に接続される。様々な実施形態において、駆動信号は、生成される音響エネルギーがウェル内の細胞材料内に慣性キャビテーションを引き起こすのに十分であるように(約400Vのような)十分な電圧レベルに増幅される(限定はしないが10~50マイクロ秒などのような)パルスの短いバーストのような波形であってもよい。いくつかの実施形態において、バーストは、サンプルおよび結合流体の加熱を低減するために、時間において間隔を空けられる。
【0038】
いくつかの実施形態において、各圧電素子12は、個別に増幅器24に電気的に接続されてもよい。いくつかの他の実施形態において、圧電素子12は、並列に電気的に接続されてもよい。いくつかのそのような実施形態において、隣接する圧電素子12は、増幅器24に並列に電気的に接続されてもよい。他のそのような実施形態において、並列電気接続は、励起されたときに隣接する圧電素子12が振動しないように、圧電素子12のパターンにわたって間隔を空けて配置されてもよい。
【0039】
加えて
図4A~
図4Eを参照すると、他の実施形態において、レンズ16は、圧電素子12に接合されたレンズ層において形成される代わりに、マイクロプレートのウェル210内に形成されてもよい。
図4A、
図4B、および
図4Dに示すように、そのような実施形態において、圧電素子アレイ10は、圧電素子12を含む。レンズ16の各1つは、マイクロプレート(図示せず)のウェル210のうちの単一のものの中に形成される。
【0040】
図4Cに示すように、そのような実施形態において、ウェル210の底部は、超音波エネルギーをウェル210に集束させるレンズ16として成形されることが可能であり、そのため、(
図1A~
図1F、
図2A~
図2C、および
図3に示すように)圧電素子12とマイクロプレートの底部との間の別個の集束レンズ16を必要としなくてもよい。
図4Cに示すように、ウェル210は、その中に一体的に形成されたレンズ16を有する。
図4Cおよび
図4Dに示すように、結合材料、すなわち、トランスデューサ流体117(以下で説明する)が、ウェル210の底部と圧電素子12との間に配置される。様々な実施形態において、ウェル210の底部は、超音波エネルギーをウェル210の内部に集束させるレンズ16として作用するように凹形状を有してもよい。ウェル210は、その所望の形状においてレンズ16を形成し、超音波エネルギーをウェル210の所望の部分に集束させるために、射出成形されてもよいことが理解されるであろう。ウェル210内の細胞材料が、ウェル210内で発生する慣性キャビテーションのためにせん断されることも理解されるであろう。
【0041】
ここで
図4Eを参照すると、いくつかの実施形態において、信号発生器22は、増幅器24によって増幅される駆動信号を生成し、各圧電素子12は、増幅器24に電気的に接続される。そのような実施形態において、レンズ16の各1つは、マイクロプレート(図示せず)のウェル210の単一のものの中に形成される。
【0042】
例示的なシステム環境への導入が述べられたので、様々な例示的なシステム環境の実施形態について、非限定的な例として説明する。
【0043】
ここで、
図5を参照すると、様々な実施形態において、細胞材料をせん断するための例示的なシステム100が提供される。これらの実施形態のうちのいくつかにおいて、システム100は、2つ以上のレンズ16が単一の圧電素子12の上にある圧電素子アレイアセンブリ10の様々な実施形態を含む(
図1A~
図1F、
図2A~
図2C、および
図4A~
図4D)。システム100の他の実施形態は、2つ以上のレンズ16が単一の圧電素子12の上にある圧電素子アレイアセンブリ10のような、および、1つのレンズのみが単一の圧電素子の上にある圧電素子アレイアセンブリのような、任意の適切な圧電素子アレイアセンブリを必要に応じて使用してもよい。
【0044】
図5をさらに参照すると、概要として与えると、いくつかの実施形態において、システム100は、2つ以上のレンズ16が単一の圧電素子12の上にある圧電素子アレイアセンブリ10の様々な実施形態を含む。そのような実施形態において、システム100は、タイミング信号104を生成するように構成されるコンピュータプロセッサ102を含む。信号発生器106が、タイミング信号104に応答して超音波駆動パルス108を生成するように構成される。増幅器110が、信号発生器106に電気的に結合され、超音波駆動パルス108を増幅するように構成される。圧電素子12が、(限定はしないが、
図2A~
図2Cに示すアレイ20、または
図4Bおよび
図4Dに示す圧電素子10のアレイのような)行および列のアレイ112において配置される。様々な実施形態において、アレイ112は、1×Nアレイを含んでもよく、いくつかの他の実施形態において、(限定はしないが、2×2、2×4、3×3などのような)>1×Nアレイを含んでもよいことが理解されるであろう。圧電素子12は、増幅された駆動パルス114に応答して超音波エネルギーを生成するように構成される。タイミング信号104は、隣接する圧電素子12が、同時に増幅された駆動パルス114および/または時間的に連続する増幅された駆動パルス114によって励起されないように生成される。いくつかの実施形態において、レンズ層14(
図1A~
図1Fおよび
図2A~
図2C)が圧電素子12(
図1A~
図1Fおよび
図2A~
図2C)に接合される。レンズ層14は、その中に形成されたレンズ16(
図1A~
図1Fおよび
図2A~
図2C)を有する。いくつかの他の実施形態(
図4A~
図4D)において、レンズ16(
図4A~
図4D)は、マイクロプレートのウェル210(
図4A~
図4D)内に形成される。レンズ16(
図1A~
図1F、
図2A~
図2C、および
図4A~
図4D)のうちの2つ以上は、単一の圧電素子12(
図1A~
図1F、
図2A~
図2C、および
図4A~
図4D)の上にあり、単一のレンズ16(
図1A~
図1F、
図2A~
図2C、および
図4A~
図4D)は、超音波エネルギーをマイクロプレート(図示せず)の単一のウェルに集束させるように構成される。
【0045】
図5をさらに参照し、依然として概要として与えると、いくつかの実施形態において、システム100は、2つ以上のレンズ16が単一の圧電素子12の上にある圧電素子アレイアセンブリ10(
図1A~
図1F、
図2A~
図2C、および
図4A~
図4D)のような、および、1つのレンズのみが単一の圧電素子の上にある圧電素子アレイアセンブリのような、任意の適切な圧電素子アレイアセンブリを必要に応じて使用してもよい。そのような実施形態において、システム100は、ハウジング(
図5には図示せず)を含む。信号発生器106は、ハウジング内に配置され、超音波駆動パルス108を生成するように構成される。増幅器110は、ハウジング内に配置され、信号発生器106に電気的に結合され、増幅器110は、超音波駆動パルスを増幅するように構成される。圧電素子アレイ112は、ハウジング内に配置される。圧電素子アレイ112は、増幅された駆動パルス114に応答して超音波エネルギーを生成するように構成される少なくとも1つの圧電素子を含む。レンズが、超音波エネルギーをマイクロプレートのウェル内に集束させるように構成される。流体工学システム115が、圧電素子とマイクロプレートとに超音波的に結合するトランスデューサ流体117をその中に流すように構成される。様々な実施形態において、トランスデューサ流体117は、限定はしないが、界面活性剤の溶液および水のような任意の適切な流体を含んでもよい。いくつかの実施形態において、気泡がそこに形成しないように界面活性剤がマイクロプレートの底部を濡らすことができ、場合によっては、超音波エネルギーがウェル内に含まれるサンプルに入るのを阻止することができる。シール(
図5には図示せず)がハウジング上に配置される。シールは、その上にマイクロプレートをシール係合で受け入れるように構成され、それにより圧電素子、ハウジング、およびシール上にシール係合で受け入れられるマイクロプレートが、流体工学システム115と流体連通してその中にトランスデューサ流体117を含むように構成されるチャンバを画定する。
【0046】
システム100の様々な実施形態の概要が述べられたので、例示的で非限定的な例として詳細について以下に説明する。機能的詳細について最初に説明し、次に機械的詳細について説明する。
【0047】
図5をさらに参照すると、様々な実施形態において、ユーザインターフェース116が、コンピュータプロセッサ102に電気的に結合される。ユーザインターフェースは、任意の適切な市販のタッチスクリーンのようなグラフィカルユーザインターフェースを含んでもよい。ユーザインターフェース116は、情報をユーザに表示し、表示された情報に対するユーザ応答を受け入れ、それによって、ユーザがシステム100をセットアップおよび制御することを可能にする。様々な実施形態において、ユーザインターフェース116を介して、ユーザが、限定はしないが、(クロマチン、DNA、またはサービスプロトコルのような)プロセス選択、(任意のまたはすべての列のような)処理のために選択されたアレイ112内の列、(すべての選択された列に対する)処理時間、(すべての選択された列に対する)開始プロセス、一時停止プロセス(すべての列)、(ウェルのすべてまたはサブセットに対する)電力レベル、パルスパラメータ(バースト長、列間サイクル時間、PRF、デューティサイクル、またはパラメータの組み合わせ)、および(一時停止状態中の)再起動またはキャンセルプロセスのような情報を入力してもよい。様々な実施形態において、ユーザインターフェース116は、限定はしないが、(表示された情報に固有の)デバイス状態、選択されたプロセス、選択された列、選択された処理時間、処理中の経過した/残りの処理時間(進行状況インジケータ)、およびプロセス完了表示のようなパラメータをユーザに表示してもよい。
【0048】
様々な実施形態において、コンピュータプロセッサ102は、ユーザインターフェース116を介して、デバイス状態とオプションとをユーザに表示し、ユーザ入力を受信する。コンピュータプロセッサ102は、ハウジング(以下で論じる)内に配置されることが理解されるであろう。すなわち、コンピュータプロセッサ102は、システム100の物理的境界の外側にあるラップトップまたはデスクトップコンピュータのような独立型ユニットである代わりに、システム100に統合される。コンピュータプロセッサ102はまた、動作についてシステム100を設定し、全体的なプロセスタイミングを制御し、プロセスを開始し、プロセスを一時停止し、プロセスを再開し、システム100の状態を監視する。コンピュータプロセッサ102は、適切には、任意の市販のコンピュータプロセッサである。非限定的な例として与えると、様々な実施形態において、コンピュータプロセッサは、例えば、Raspberry Pi(シングルボードコンピュータプロセッサ)のようなLinux(登録商標)ベースのコンピュータプロセッサであってもよい。様々な実施形態において、コンピュータプロセッサ102は、以下のプロセスパラメータ、すなわち、どの列がアクティブであるか、処理時間、パルスパラメータ、ならびに、機能オン(出力波形を有効にする)、一時停止(出力波形を一時停止する)、再開(出力波形タイミングを再開する)、およびキャンセル(プロセスをキャンセルし、タイミングをリセットし、メニュー状態に戻る)を制御する。様々な実施形態において、コンピュータプロセッサ102は、以下の入力、すなわち、ユーザインターフェース116からのユーザ入力信号118、(信号発生器106の正常な動作を示すための)ハートビート/(信号発生器106が経過またはタイムアウトするのを防ぐための)ウォッチドッグのための信号発生器106からの信号120、安全インターロック状態信号122(以下で論じる)、トランスデューサ流体レベル監視信号124(以下で論じる)、およびトランスデューサ流体温度監視信号126(以下で論じる)を受信する。様々な実施形態において、コンピュータプロセッサ102は、以下の出力、すなわち、ユーザインターフェース116に供給されるディスプレイインターフェース信号128、選択された列をアクティブにする列イネーブル信号130、波形選択(すなわち、タイミング)信号104、出力オンまたは出力オフ信号132、信号発生器106のタイミングをリセットするリセット波形シーケンサコントローラタイミング信号134、パルスパラメータ、および流体工学制御信号136(以下で論じる)を提供する。
【0049】
様々な実施形態において、信号発生器106は、増幅器110を駆動するために波形(すなわち、駆動パルス108)を生成する。信号発生器106はまた、選択された列と、(安全インターロック状態信号122を介して)係合されている安全インターロックとに基づいて、アレイ112の特定の列に駆動パルス108をゲートする。様々な実施形態において、信号発生器106は、適切には、民生品のフィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)であってもよい。いくつかの実施形態において、信号発生器106は、(FPGA容量に応じて)複数のFPGAモジュール137を含んでもよい。信号発生器106が2つ以上のFPGAモジュールを含む実施形態において、FPGAモジュールの数は、アーキテクチャを単純にするために増幅器モジュール(以下で論じる)の数に等しくてもよい。様々な実施形態において、信号発生器は、以下の入力、すなわち、選択された列をアクティブにする列イネーブル信号130、波形選択(すなわち、タイミング)信号104、出力オンまたは出力オフ信号132、信号発生器106のタイミングをリセットするリセット波形シーケンサコントローラタイミング信号134、および安全インターロック状態信号122を受信する。様々な実施形態において、信号発生器は、以下の出力信号、すなわち、波形(すなわち、駆動パルス108)、ハートビート/ウォッチドッグ信号120、および、現在の出力経過時間を示す波形カウンタ信号138を提供する。
【0050】
様々な実施形態において、増幅器110は、アレイ112内の圧電素子の数と、パルサーモジュール140ごとのチャネル数とによって決定される適切な数のパルサーモジュール140を組み込む。増幅器110は、それぞれの入力列波形(すなわち、駆動パルス108)に等しいタイミングでトランスデューサ駆動波形(すなわち、増幅された駆動パルス114)を生成する。増幅器110はまた、統合チューニング、すなわち、放射電磁干渉(EMI)を制限するためのローパスフィルタリング、および/または他のフィルタリングもしくはインピーダンス整合要素を提供するために整合ネットワークを提供してもよく、それによって、アレイ112のトランスデューサのための増加した電力伝達をもたらすのを助ける。増幅器110はまた、増幅器110の出力において電圧波形(すなわち、増幅された駆動パルス114)を積分する。様々な実施形態において、増幅器110は、以下の入力、すなわち、パルサーチャネルのための微分波形(すなわち、駆動パルス108)、およびパルサーモジュール140をバイアスするための単一の高電圧供給を受信する。様々な実施形態において、増幅器110は、以下の出力、すなわち、トランスデューサ列のための高電圧波形(すなわち、増幅された駆動パルス114)、ならびに、監視および自己診断の目的のためにコンピュータプロセッサ102に提供されるトランスデューサ列への積分電圧に比例する(すなわち、増幅された駆動パルス114に比例する)アナログ電圧を提供する。
【0051】
様々な実施形態において、監視モジュール146が、適切には、ウォッチドッグ/ハートビート信号120と、トランスデューサ流体レベル監視信号124と、トランスデューサ流体温度監視信号126と、波形カウンタ信号138と、アナログ電圧144と、(主電力をシステム100の構成要素のための直流電力に変換する配電モジュール150から)電圧148とを受信し、それらをコンピュータプロセッサ102に提供する。監視モジュール146は、システム100のための自己診断機能を実行するための適切な回路およびロジックを含む。
【0052】
加えて
図6を参照すると、様々な実施形態において、流体工学システム115は、圧電素子およびレンズからの超音波エネルギーをマイクロプレートのウェルに結合するためのトランスデューサ流体117を冷却し循環させる。流体工学システム115のすべての構成要素は、システム100のすべての構成要素と同様に、1つのハウジング(
図6には図示していないが、以下で論じる)内に配置される。
【0053】
様々な実施形態において、リザーバ152が、トランスデューサ流体117を受け入れて貯蔵するように構成される。ポンプ156の吸入ポート154が、トランスデューサ流体117を受け入れるためにリザーバ152に液圧的に結合される。流体工学制御信号136は、ポンプ156の制御回路(図示せず)に供給され、流体工学システム115内の流れの状態(すなわち、順方向、オフ、または逆方向)が、流体工学制御信号136によって適切に制御される。ポンプ156の排出ポート158が、限定はしないが粒子フィルタのような適切なフィルタ162の入口ポート160に液圧的に結合される。フィルタ162の排出ポート164が、限定はしないがペルチェ冷却器のような熱電デバイスのような適切な冷却器168の入口ポート166に液圧的に結合される。冷却器の状態(すなわち、冷却器オンまたは冷却器オフ)が、流体工学制御信号136によって適切に制御される。冷却器168の出口ポート170が、圧電素子およびレンズからの超音波エネルギーをマイクロプレート176のウェルに結合するためのトランスデューサ流体117を内部に含むウェル174の入口ポート172に液圧的に結合される。ウェル174の出口ポート178がリザーバ152に液圧的に結合される。温度プローブ180が、処理トレイ194の出口において監視されるように、トランスデューサ流体温度監視信号126を監視モジュール146(
図5)に提供する。処理トレイ194内の流体レベルプローブ182が、トランスデューサ流体レベル監視信号124を監視モジュール146(
図5)に提供する。流体レベルプローブ182は、マイクロプレート176および圧電素子を超音波的に結合するのに十分な量のトランスデューサ流体117が処理トレイ194内に含まれることを保証するのを助けるために、処理トレイ194内のトランスデューサ流体117のレベルを監視するように構成される。ウェル174とリザーバ152との間の流れインピーダンスが低く維持されるが、マイクロプレート176と処理トレイ194との間のシール(以下で論じる)が、トランスデューサ流体117のより高い流量を促進するのを助けることができる。
【0054】
いくつかの実施形態において、トランスデューサ流体117の脱泡および脱気が必要とされないことが理解されるであろう。いくつかの他の実施形態において、トランスデューサ流体117の脱泡および脱気が望まれる場合があることも理解されるであろう。トランスデューサ流体117の脱泡および脱気が望まれる場合があるそのような実施形態において、オプションの脱泡および脱気構成要素184が流体工学システム115内に挿入されてもよい。
図5に示すように、オプションの脱泡および脱気構成要素184は、リザーバ152とポンプ156の吸入ポート154との間に挿入されるリストリクタ186と、ポンプ156の排出ポート158に液圧的に結合される脱泡器188と、脱泡器188とフィルタ162の入口ポート160との間に挿入される脱気フィルタ190と、脱泡器188とリザーバ152との間に挿入されるリストリクタ192とを含んでもよい。
【0055】
機械的/流体工学的側面について以下で論じ、システム100の様々な実施形態の機能および動作の検討を続ける。
【0056】
加えて
図7A~
図7Eを参照すると、システム100の様々な実施形態において、システム100のすべての構成要素がハウジング196内に配置される。ハウジングは、必要に応じて、プラスチック、金属などのような任意の適切な材料で作られてもよい。いくつかの実施形態において、ハウジング196は、ファラデーシールドとして機能してもよい。いくつかのそのような実施形態において、ハウジング196は、プラスチックで作られ、導電性材料の連続被覆(図示せず)または導電性材料のメッシュ(図示せず)のいずれかで裏打ちされてもよい。そのような実施形態において、分散された電荷がハウジング196の内部における電場の効果を打ち消すように、外部電場が、ハウジング196を裏打ちする導電性材料内の電荷を分散させ、それによって、システム100の電子構成要素を外部無線周波数干渉から保護するのを助け、逆もまた同様である。
【0057】
様々な実施形態において、ハウジングは、蓋198を含む。様々な実施形態において、蓋198は、蓋198の端部において配置されたヒンジ軸を中心にハウジング196の中心部に向けてそれぞれ上向きまたは下向きに回転されることなどによって、開閉するように構成される。蓋198、およびハウジング196内に画定された関連するくぼみ部分200(
図7Bおよび
図7C)は、蓋198が開いているときにマイクロプレート176がくぼみ部分200内に受け入れられることが可能であるようにサイズ決めされる。蓋198を閉めること(ユーザが音場にアクセスできないことを意味する)は、安全インターロック状態信号122(
図5および
図6)をアクティブにさせる。結果として、処理が許可され得る。蓋198を開くこと(ユーザが音場にアクセスできることを意味する)は、安全インターロック状態信号122(
図5および
図6)を非アクティブにさせる。結果として、処理が許可されない。
【0058】
様々な実施形態において、
図7Bおよび
図7Cに示すように、シール202がくぼみ部分200内のハウジング196の上面上に配置される。開口部(図示せず)が、くぼみ部分200内のハウジング196の上面内に画定され、シール202は、開口部を取り囲む。シール202は、その上でマイクロプレート176を受け入れるようにサイズ決めされる。押さえフレーム204がマイクロプレート176の上部上に配置される。一対のクランプ206の各々は、マイクロプレート176上の押さえフレーム204の側面をシール202とシール係合するように促す。したがって、ハウジング196、シール202、マイクロプレート176、押さえフレーム204、およびクランプ206は、くぼみ部分200内のハウジング196の上面内に画定された開口部を液圧的にシールするように協働する。
【0059】
いくつかの実施形態において、押さえフレーム204およびクランプ206は、蓋198の下側に一体化されてもよい。そのような実施形態において、蓋198を閉めることは、クランプ206にハウジング196、シール202、マイクロプレート176、および押さえフレーム204をシール係合させるために伴われる力を印加する。逆に、蓋198を開くことは、クランプ206に、ハウジング196、シール202、マイクロプレート176、および押さえフレーム204をシール係合から解除させ、それによって、マイクロプレート176の取り外しを可能にする。
【0060】
様々な実施形態において、
図7Dに示すように、リザーバ152は、(例えば、ねじ式に受けられること、または圧入などによって)リザーバ152の上部において受け入れられる蓋208でシールされ充填される。蓋は、ハウジング196のくぼみ部分200においてアクセス可能である。いくつかの実施形態において、リザーバ152は、リザーバ152内のトランスデューサ流体117のレベルに関する表示をユーザに提供するために、限定はしないが、一体型サイトグラス/管などのような、レベルインジケータデバイスを含んでもよい。必要に応じて、センサが、いつリザーバ152を補充するかについての知識をユーザに提供してもよい。
【0061】
様々な実施形態において、
図7Eおよび
図7Fに示すように、シール202は、マイクロプレート176を押さえつけ、クランプ206は、シール202を押さえつける。レンズ16とマイクロプレート176との間のギャップ207内のトランスデューサ流体117は、圧電素子12とマイクロプレート176のウェル210とを超音波的に結合する。アレイ112は、ベースフレーム212に取り付けられ、ベースフレーム212は、ハウジング196に取り付けられる。プリント回路基板214が、増幅器110からの増幅された駆動パルス114を電気的に伝導するケーブル(図示せず)に圧電素子12を電気的に結合する。
【0062】
システム100の様々な実施形態において、トランスデューサ流体117は、ギャップ207内にない。マイクロプレート176がクランプ206によってシール202にシール係合され、蓋198が閉じられた後、トランスデューサ流体117がポンプ156によってリザーバ152からギャップ207に送り込まれる。マイクロプレート176を、最初に中にトランスデューサ流体が配置されていないバス状構造上に配置し、次いで、マイクロプレート176がその上に配置された後にのみギャップ207をトランスデューサ流体117で満たすことは、マイクロプレートがトランスデューサ流体のバスに入れられる従来のシステムに反する。結果として、システム100の実施形態は、従来のシステムよりもマイクロプレート176のより確実な配置を提供するのに役立ち、トランスデューサ流体117がマイクロプレート176のウェル210に入り込む可能性を低減するのに役立つことができ、それによって、ウェル210の内容物がトランスデューサ流体117で汚染される可能性を低減するのに役立つ。
【0063】
蓋198が閉じられると、安全インターロックは、係合され、安全インターロック状態は、(安全インターロック状態信号122を介して)アクティブになる。マイクロプレート176は、ハウジング196とシール係合される。サンプルの処理が、以下に論じるように進行することができる。
【0064】
【0065】
システム100の実施形態の制御に関して、コンピュータプロセッサ102は、システム100のための制御の中心である。コンピュータプロセッサ102は、表示をユーザインターフェース116に出力し、ユーザインターフェース116を介して入力されるユーザ入力を読み取る。加えて、コンピュータプロセッサ102は、どの処理レジメンが実行されるべきかに関して信号発生器106をセットアップする。コンピュータプロセッサ102は、どのチャネルがアクティブであるか、全体的な処理時間、プロセスを開始すること、およびプロセスを停止することを直接制御する。
【0066】
駆動パルス108として信号発生器によって出力される圧電素子12を駆動するための波形タイミング。96ウェルマイクロプレート176を有するシステム100のいくつかの実施形態において、4つのレンズ16が各圧電素子12の上にあり、アレイ112は、24の圧電素子アレイアセンブリ10を含む。いくつかの実施形態において、パルサーモジュール140の数は、圧電素子10の数に等しくてもよく、いくつかの他の実施形態において、パルサーモジュール140の数は、圧電素子10の数の半分に等しくてもよい。
【0067】
上記で論じたように、波形(すなわち、駆動パルス108)が出力されるために、蓋198は、閉じられなければならない。蓋198が開いているとき、コンピュータプロセッサ102と信号発生器106の両方は、出力(すなわち、駆動パルス108)が駆動されるのを許可しない。これは、安全インターロック状態信号122がコンピュータプロセッサ102および信号発生器106の両方に入力されるためである。加えて、コンピュータプロセッサ102は、(トランスデューサ流体温度監視信号126を介して)トランスデューサ流体温度と(トランスデューサ流体レベル監視信号124を介して)トランスデューサ流体レベルの両方を監視する。トランスデューサ流体117の温度が許容可能なレベルよりも上であるか、またはトランスデューサ流体117が圧電素子12とウェル210との間のギャップ207を完全には埋めない場合、信号発生器106の出力は、有効にされない。信号発生器106の出力が有効にされるために、以下の3つの条件、すなわち、(i)安全インターロック状態がアクティブである(すなわち、蓋198が閉じられる)、(ii)トランスデューサ流体117の温度がしきい値温度未満である、および(iii)ギャップ207内のトランスデューサ流体117のレベルが最小レベルよりも上である、が満たされる必要がある。しかしながら、上記にもかかわらず、いくつかの実施形態において、蓋198が開いた状態で試験が測定を行うことを可能にすることが望ましい場合があることが理解されるであろう。そのような実施形態において、エンジニアリングモードが、蓋198が開いた状態での動作を可能にすることができる。
【0068】
システム100の様々な実施形態において、波形タイミングが、アレイ112内の隣接する圧電素子12を励起させない同時および/または連続駆動パルス108をもたらし、それによって、同じ圧電素子12が再び励起される前の一定期間中に圧電素子12(および隣接する圧電素子12)を冷却させる。システム100の実施形態に関する波形タイミングについて、96ウェルマイクロプレート176を有するシステム100の一実施形態に関する非限定的な例として論じ、4つのレンズ16が各圧電素子12の上にあり、アレイ112は、24の圧電素子アレイアセンブリ10を含む。しかしながら、同様の波形タイミングが、2つ以上のレンズ16が単一の圧電素子12の上にあるシステム100の任意の実施形態に適用されてもよいことが理解されるであろう。
【0069】
非限定的な例として与えると、加えて
図8Aを参照すると、せん断は、主にキャビテーションの機能であるので、せん断動作を実行する音響波形(すなわち、増幅された駆動パルス114の音響波形)は、高振幅で、非常に非線形である。基本的な波形タイミングを
図8Aに示す。
【0070】
加えて
図8Bを参照すると、パルス状音響波形は、Nパルスの間ウェル210の列に印加される。次いで、ウェル210の列は、別のバーストが列に印加される前に冷却される。バースト長は、出力音響パワーを有する整数の連続するパルス周期に等しい。アーキテクチャ的には、12の列のうちの2つが所定の時間において処理されるので、バースト期間は、バースト長の6倍である。全体的な処理時間は、バースト期間の整数倍である。
【0071】
加えて
図8Cを参照すると、それぞれの列に印加される音響パワーのタイミングが示され、t0からt6(行)が単一のバースト期間を表し、COL1からCOL12(列)がマイクロプレート176の12の列を表す。影付きの正方形216が音響パワー出力(バースト)を示し、白い正方形218が冷却期間を示す。
図8Cが、隣接する圧電素子12が同時に(すなわち、単一のバースト期間を表す任意の単一の行において)励起されず、連続波形によって(すなわち、所与のバースト期間を表す任意の所定の行において、および、連続するバースト期間を表す、所与の行のすぐ下の行において)励起されないことが理解されるであろう。
【0072】
加えて
図8Dを参照すると、印加された音響パワーの相対的タイミングが12の列について示され、高振幅220が所与の列に関するバーストを表す。したがって、
図8Dにおいて、高振幅は、
図8Cの影付きの正方形に対応する。そのため、
図8Dは、隣接する圧電素子12が同時に励起されない場合があり、連続的な波形によって励起されない場合があることも示す。
【0073】
例えば、
図8Cおよび
図8Dに示すように、COL1に関するバーストがt0において発生することが理解されるであろう。t0における同時バーストが、COL1に隣接していないCOL6に音響パワーを印加する。さらに、t1におけるバーストは、どちらもCOL1に隣接していないCOL3およびCOL8に音響パワーを印加する。さらに、最も早くバーストがCOL1に隣接する列に音響パワーを印加するのは、音響パワーがCOL2に印加されるt4である。結果として、このタイミング技法は、加熱を低減するのに役立つ。
【0074】
加えて
図8Eを参照すると、パルスモジュール140の24のチャネルの圧電素子12へのマッピングが示されている。再び、パルサーモジュール140ごとに任意の数のチャネルを有する任意の数のパルサーモジュール140が必要に応じて使用されてもよいことが理解されるであろう。例えば、いくつかの実施形態において、パルサーモジュール140の24のチャネルが、それぞれ3つのチャネルを有する8つのパルサーモジュール140を用いて実装されてもよい。しかしながら、96のサンプルを処理する必要はなく、必要に応じて任意の数のサンプルが処理されてもよいことが理解されるであろう。したがって、特定の用途に対して、必要に応じて96よりも少ないウェルが処理されてもよい。すなわち、いくつかの実施形態において、わずか1つのウェルが処理されてもよく、いくつかの他の実施形態において、96ものウェルが処理されてもよい。そのような実施形態において、処理するためのサンプルを含まないウェルが、処理されるべきサンプルを含まない水または別の液体で満たされることになる。
【0075】
開示された主題の様々な例示的な実施形態について、以下の節を考慮して説明することができる。
【0076】
1.増幅された駆動パルスに応答して超音波エネルギーを生成するように構成される少なくとも1つの圧電素子と、少なくとも1つの圧電素子に接合されるレンズ層であって、レンズ層が、少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものによって作成された超音波エネルギーをレンズ層と超音波連通して配置可能なマイクロプレートの複数のウェルに集束させるように構成される、その中に形成される複数のレンズを有し、複数のレンズのうちの2つ以上が、少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものの上にある、レンズ層とを備える、圧電素子アレイアセンブリ。
【0077】
2.少なくとも1つの圧電素子が2つの圧電素子の列を含む、節1の圧電素子アレイアセンブリ。
【0078】
3.少なくとも1つの圧電素子が4つの圧電素子の列を含む、節1の圧電素子アレイアセンブリ。
【0079】
4.少なくとも1つの圧電素子が6つの圧電素子の列を含む、節1の圧電素子アレイアセンブリ。
【0080】
5.少なくとも1つの圧電素子が8つの圧電素子の列を含む、節1の圧電素子アレイアセンブリ。
【0081】
6.少なくとも1つの圧電素子が12つの圧電素子の列を含む、節1の圧電素子アレイアセンブリ。
【0082】
7.4つのレンズが少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものの上にある、節1の圧電素子アレイアセンブリ。
【0083】
8.少なくとも1つの圧電素子がジルコン酸チタン酸鉛を含む材料から作られる、節1の圧電素子アレイアセンブリ。
【0084】
9.レンズ層が、少なくとも1つの圧電素子の音響インピーダンスと、レンズ層とマイクロプレートとの間に配置可能な結合流体の音響インピーダンスとの間の音響インピーダンスを有する材料から作られる、節1の圧電素子アレイアセンブリ。
【0085】
10.レンズ層が、グラファイト、およびホウケイ酸ガラス母材内のフッ素金雲母マイカから選択される材料から作られる、節1の圧電素子アレイアセンブリ。
【0086】
11.圧電素子アレイアセンブリを製造する方法であって、方法が、増幅された駆動パルスに応答して超音波エネルギーを生成するように構成される少なくとも1つの圧電素子を設けるステップと、少なくとも1つの圧電素子にレンズ層を接合するステップであって、レンズ層が、少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものによって作成された超音波エネルギーをレンズ層と超音波連通して配置可能なマイクロプレートの複数のウェルに集束させるように構成される、その中に形成される複数のレンズを有し、複数のレンズのうちの2つ以上が、少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものの上にある、ステップとを含む、方法。
【0087】
12.少なくとも1つの圧電素子が2つの圧電素子の列を含む、節11の方法。
【0088】
13.少なくとも1つの圧電素子が4つの圧電素子の列を含む、節11の方法。
【0089】
14.少なくとも1つの圧電素子が6つの圧電素子の列を含む、節11の方法。
【0090】
15.少なくとも1つの圧電素子が8つの圧電素子の列を含む、節11の方法。
【0091】
16.少なくとも1つの圧電素子が12つの圧電素子の列を含む、節11の方法。
【0092】
17.4つのレンズが少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものの上にある、節11の方法。
【0093】
18.細胞材料をせん断するためのシステムであって、システムが、超音波駆動パルスを生成するように構成される信号発生器と、信号発生器に電気的に結合され、超音波駆動パルスを増幅するように構成される増幅器と、増幅された駆動パルスに応答して超音波エネルギーを生成するように構成される少なくとも1つの圧電素子を含む圧電素子アレイと、複数のレンズであって、複数のレンズのうちの2つ以上が、少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものの上にあり、複数のレンズのうちの単一のものが、超音波エネルギーをマイクロプレートの複数のウェルのうちの単一のものに集束させるように構成される、複数のレンズとを備える、システム。
【0094】
19.少なくとも1つの圧電素子に接合されるレンズ層をさらに備え、レンズ層がその中に形成される複数のレンズを有する、節18のシステム。
【0095】
20.複数のレンズのうちの単一のものが、マイクロプレート内の複数のウェルのうちの単一のものの中に形成される、節18のシステム。
【0096】
21.少なくとも1つの圧電素子が2つの圧電素子の列を含む、節18のシステム。
【0097】
22.少なくとも1つの圧電素子が4つの圧電素子の列を含む、節18のシステム。
【0098】
23.少なくとも1つの圧電素子が6つの圧電素子の列を含む、節18のシステム。
【0099】
24.少なくとも1つの圧電素子が8つの圧電素子の列を含む、節18のシステム。
【0100】
25.少なくとも1つの圧電素子が12つの圧電素子の列を含む、節18のシステム。
【0101】
26.4つのレンズが少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものの上にある、節18のシステム。
【0102】
27.少なくとも1つの圧電素子がジルコン酸チタン酸鉛を含む材料から作られる、節18のシステム。
【0103】
28.レンズ層が、少なくとも1つの圧電素子の音響インピーダンスと、レンズ層とマイクロプレートとの間に配置可能な結合流体の音響インピーダンスとの間の音響インピーダンスを有する材料から作られる、節18のシステム。
【0104】
29.レンズ層が、グラファイト、およびホウケイ酸ガラス母材内のフッ素金雲母マイカから選択される材料から作られる、節18のシステム。
【0105】
30.超音波駆動パルスを生成するステップと、超音波駆動パルスを増幅するステップと、増幅された駆動パルスに応答して少なくとも1つの圧電素子を用いて超音波エネルギーを生成するステップと、少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものによって作成される超音波エネルギーを複数のレンズによってマイクロプレートの複数のウェルに集束させるステップとを含む方法であって、複数のレンズのうちの2つ以上が、少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものの上にあり、複数のレンズのうちの単一のものが、複数のウェルのうちの単一のものに超音波的に結合される、方法。
【0106】
31.複数のレンズが、少なくとも1つの圧電素子に接合されるレンズ層内に形成される、節30の方法。
【0107】
32.前記複数のレンズのうちの単一のものが、マイクロプレート内の複数のウェルのうちの単一のものの中に形成される、節30の方法。
【0108】
33.4つのレンズが少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものの上にある、節30の方法。
【0109】
34.細胞材料をせん断するためのシステムであって、システムが、タイミング信号を生成するように構成されるコンピュータプロセッサと、タイミング信号に応答して超音波駆動パルスを生成するように構成される信号発生器と、信号発生器に電気的に結合され、超音波駆動パルスを増幅するように構成される増幅器と、行および列のアレイにおいて配置され、増幅された駆動パルスに応答して超音波エネルギーを生成するように構成される複数の圧電素子であって、タイミング信号は、複数の圧電素子のうちの隣接するものが、同時の駆動パルスおよび時間的に連続する駆動パルスから選択される少なくとも増幅された駆動パルスによって励起されないように生成される、複数の圧電素子と、複数のレンズであって、複数のレンズのうちの2つ以上が、複数の圧電素子のうちの単一のものの上にあり、複数のレンズのうちの単一のものが、超音波エネルギーをマイクロプレートの複数のウェルのうちの単一のものに集束させるように構成される、複数のレンズとを備える、システム。
【0110】
35.複数の圧電素子に接合されるレンズ層をさらに備え、レンズ層がその中に形成される複数のレンズを有する、節34のシステム。
【0111】
36.複数のレンズのうちの単一のものが、マイクロプレート内の複数のウェルのうちの単一のものの中に形成される、節34のシステム。
【0112】
37.複数の圧電素子が2つの圧電素子の列を含む、節34のシステム。
【0113】
38.複数の圧電素子が4つの圧電素子の列を含む、節34のシステム。
【0114】
39.複数の圧電素子が6つの圧電素子の列を含む、節34のシステム。
【0115】
40.複数の圧電素子が8つの圧電素子の列を含む、節34のシステム。
【0116】
41.複数の圧電素子が12つの圧電素子の列を含む、節34のシステム。
【0117】
42.4つのレンズが少なくとも1つの圧電素子のうちの単一のものの上にある、節34のシステム。
【0118】
43.少なくとも1つの圧電素子がジルコン酸チタン酸鉛を含む材料から作られる、節34のシステム。
【0119】
44.レンズ層が、少なくとも1つの圧電素子の音響インピーダンスと、レンズ層とマイクロプレートとの間に配置可能な結合流体の音響インピーダンスとの間の音響インピーダンスを有する材料から作られる、節34のシステム。
【0120】
45.レンズ層が、グラファイト、およびホウケイ酸ガラス母材内のフッ素金雲母マイカから選択される材料から作られる、節34のシステム。
【0121】
46.細胞材料をせん断するためのシステムであって、システムが、ハウジングと、ハウジング内に配置され、超音波駆動パルスを生成するように構成される信号発生器と、ハウジング内に配置され、信号発生器に電気的に結合される増幅器であって、増幅器が超音波駆動パルスを増幅するように構成される、増幅器と、ハウジング内に配置される圧電素子アレイであって、圧電素子アレイが、増幅された駆動パルスに応答して超音波エネルギーを生成するように構成される少なくとも1つの圧電素子を含む、圧電素子アレイと、超音波エネルギーをマイクロプレートの複数のウェルに集束させるように構成される複数のレンズと、その中にトランスデューサ流体を流すように構成される流体工学システムと、ハウジング上に配置されるシールであって、シールは、その上にマイクロプレートをシール係合で受け入れるように構成され、それにより、圧電素子アレイ、ハウジング、およびシール上にシール係合で受け入れられるマイクロプレートが、流体工学システムと流体連通してその中にトランスデューサ流体を含むように構成されるチャンバを画定する、シールとを備える、システム。
【0122】
47.少なくとも1つの圧電素子に接合されるレンズ層をさらに備え、レンズ層がその中に形成される複数のレンズを有する、節46のシステム。
【0123】
48.複数のレンズのうちの単一のものが、マイクロプレート内の複数のウェルのうちの単一のものの中に形成される、節46のシステム。
【0124】
49.シール上にマイクロプレートをシール係合で保持するように構成されるクランプ機構をさらに備える、節46のシステム。
【0125】
50.ハウジング上に配置される開閉可能な蓋をさらに備える、節46のシステム。
【0126】
51.蓋の位置を感知するように機械的に構成されるインターロックデバイスをさらに備え、インターロックデバイスが、蓋が開位置にあるときに圧電素子アレイの励起を防止するように構成される、節50のシステム。
【0127】
52.流体工学システムが、ハウジング内に配置され、その中にトランスデューサ流体を受け入れるように構成されるリザーバを含む、節46のシステム。
【0128】
53.流体工学システムが、ハウジング内に配置され、トランスデューサ流体の流れを引き起こすように構成されるポンプをさらに含む、節52のシステム。
【0129】
54.流体工学システムが、脱泡および脱気サブシステムを含む、節46のシステム。
【0130】
55.細胞材料をせん断する方法であって、方法が、内部に画定される複数のウェル内に細胞材料が配置されるマイクロプレートをハウジング上に配置されるシール上に配置するステップと、マイクロプレートをシール上にシール係合でクランプするステップと、トランスデューサ流体が複数のレンズと流体連通して位置するように、ハウジング内に配置された流体工学システム内にトランスデューサ流体を流すステップと、超音波エネルギーを生成するために圧電素子のアレイを励起させるステップと、複数のウェル内に配置された細胞材料内にキャビテーションが誘発されるように複数のレンズを用いて超音波エネルギーを複数のウェル内に集束させるステップとを含む、方法。
【0131】
56.複数のレンズが圧電素子のアレイに接合されるレンズ層内に形成される、節55の方法。
【0132】
57.複数のレンズのうちの単一のものが複数のウェルのうちの単一のものの中に形成される、節55の方法。
【0133】
58.マイクロプレート内に画定される複数のウェル内に細胞材料が配置されたマイクロプレートをハウジング上に配置されるシール上に配置する前にハウジング内の蓋を開くステップと、シール上にマイクロプレートをシール係合するようにクランプした後に蓋を閉めるステップとをさらに含む、節55の方法。
【0134】
59.トランスデューサ流体を流体工学システム内に流すことを可能にし、マイクロプレートをシール上にシール係合でクランプした後に、蓋を閉めることに応答して圧電素子のアレイを励起することを可能にするインターロック条件を満たすステップをさらに含む、節58の方法。
【0135】
60.複数のレンズのうちの2つ以上が複数の圧電素子のうちの単一のものの上にあり、複数のレンズのうちの単一のものが超音波エネルギーをマイクロプレートの複数のウェルのうちの単一のものに集束させるように構成される、節55の方法。
【0136】
61.4つのレンズが複数の圧電素子のうちの単一のものの上にある、節60の方法。
【0137】
62.複数の圧電素子が、行および列のアレイにおいて配置され、タイミング制御された(timed)増幅された駆動パルスによって励起され、複数の圧電素子のうちの隣接するものが、同時駆動パルスおよび時間的に連続する駆動パルスから選択される少なくとも増幅された駆動パルスによって励起されない、節55の方法。
【0138】
上記から、本主題の特定の実施形態が例示の目的のために本明細書において説明されているが、様々な修正が本主題の要旨および範囲から逸脱することなくなされてもよいことが理解されるであろう。したがって、本主題は、添付の特許請求の範囲による場合を除いて限定されない。
【符号の説明】
【0139】
10 圧電素子アレイアセンブリ
10a 圧電素子アレイアセンブリ
10b 圧電素子アレイアセンブリ
10c 圧電素子アレイアセンブリ
10d 圧電素子アレイアセンブリ
10l 圧電素子アレイアセンブリ
12 圧電素子
14 レンズ層
16 レンズ
20 アレイ
22 信号発生器
24 増幅器
100 システム
102 コンピュータプロセッサ
104 タイミング信号、波形選択信号
106 信号発生器
108 超音波駆動パルス、駆動パルス
110 増幅器
112 アレイ、圧電素子アレイ
114 駆動パルス
115 流体工学システム
116 ユーザインターフェース
117 トランスデューサ流体
120 信号、ハートビート/ウォッチドッグ信号、ウォッチドッグ/ハートビート信号
122 安全インターロック状態信号
124 トランスデューサ流体レベル監視信号
126 トランスデューサ流体温度監視信号
128 ディスプレイインターフェース信号
130 列イネーブル信号
132 出力オンまたは出力オフ信号
134 リセット波形シーケンサコントローラタイミング信号
137 FPGAモジュール
138 波形カウンタ信号
140 パルサーモジュール
146 監視モジュール
148 電圧
150 配電モジュール
152 リザーバ
154 吸入ポート
156 ポンプ
158 排出ポート
160 入口ポート
162 フィルタ
164 排出ポート
166 入口ポート
168 冷却器
170 出口ポート
172 入口ポート
174 ウェル
176 マイクロプレート
178 出口ポート
180 温度プローブ
182 流体レベルプローブ
184 脱泡および脱気構成要素
186 リストリクタ
188 脱泡器
190 脱気フィルタ
194 処理トレイ
196 ハウジング
198 蓋
200 くぼみ部分
202 シール
204 押さえフレーム
206 クランプ
207 ギャップ
208 蓋
210 ウェル
212 ベースフレーム
214 プリント回路基板
216 影付きの正方形
218 白い正方形
220 高振幅