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特許7088007ニッケル含有水酸化物の製造方法

書誌要約請求の範囲詳細な説明課題実施例実施するための形態図面の説明

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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2022-06-13

(45)【発行日】2022-06-21

(54)【発明の名称】ニッケル含有水酸化物の製造方法

(51)【国際特許分類】

C01G 53/00 20060101AFI20220614BHJP

C01G 53/04 20060101ALI20220614BHJP

H01M 4/525 20100101ALN20220614BHJP

H01M 4/505 20100101ALN20220614BHJP

【ＦＩ】

C01G53/00 A

C01G53/04

H01M4/525

H01M4/505

【請求項の数】 3

(21)【出願番号】P 2018523894

(86)(22)【出願日】2017-06-12

(86)【国際出願番号】 JP2017021646

(87)【国際公開番号】W WO2017217367

(87)【国際公開日】2017-12-21

【審査請求日】2020-02-06

(31)【優先権主張番号】P 2016118370

(32)【優先日】2016-06-14

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000183303

【氏名又は名称】住友金属鉱山株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100107766

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東忠重

(74)【代理人】

【識別番号】100070150

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東忠彦

(72)【発明者】

【氏名】中倉修平

(72)【発明者】

【氏名】土岡和彦

(72)【発明者】

【氏名】槙孝一郎

(72)【発明者】

【氏名】猿渡元彬

(72)【発明者】

【氏名】漁師一臣

(72)【発明者】

【氏名】中尾慶彦

【審査官】青木千歌子

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１１－２０１７６４（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ０１Ｇ５３／００

Ｃ０１Ｇ５３／０４

Ｈ０１Ｍ４／５２５

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

撹拌槽内の反応前水溶液と原料液とを混合した反応水溶液の中で中和晶析によってニッケル含有水酸化物を生成するニッケル含有水酸化物の製造方法であって、
前記反応水溶液の中で中和晶析によって前記ニッケル含有水酸化物の粒子の核を生成させる核生成工程と、
前記水溶液中に生成した前記核を成長させる粒子成長工程と、
を有し、
前記核生成工程における前記反応前水溶液のｐＨ値は、液温２５℃基準で、１２．０～１４．０であり、
前記粒子成長工程における前記反応水溶液のｐＨ値は、液温２５℃基準で、１０．５～１２．０であり、
前記粒子成長工程において、前記反応水溶液に占める、前記反応水溶液に溶けている前記ニッケル含有水酸化物のモル濃度が１．７ｍｏｌ／ｍ^３以上である高過飽和領域の体積割合が０．６２４％未満である、ニッケル含有水酸化物の製造方法。

【請求項2】

前記ニッケル含有水酸化物が、ＮｉとＣｏとＡｌとを、物質量比がＮｉ：Ｃｏ：Ａｌ＝１－ｘ－ｙ：ｘ：ｙ（ただし、０≦ｘ≦０．３、０．００５≦ｙ≦０．１５）となるように含む、請求項１に記載のニッケル含有水酸化物の製造方法。

【請求項3】

前記ニッケル含有水酸化物が、ＮｉとＣｏとＭｎとＭ（Ｍは、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、およびＷから選択される１種以上の添加元素）とを物質量比がＮｉ：Ｃｏ：Ｍｎ：Ｍ＝ｘ：ｙ：ｚ：ｔ（ただし、ｘ＋ｙ＋ｚ＋ｔ＝１、０．１≦ｘ≦０．７、０．１≦ｙ≦０．５、０．１≦ｚ≦０．８、０≦ｔ≦０．０２）となるように含む、請求項１に記載のニッケル含有水酸化物の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、リチウムイオン二次電池の正極活物質の前駆体として用いられる、ニッケル含有水酸化物の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

近年、携帯電話、ノート型パーソナルコンピュータなどの携帯電子機器の普及に伴い、高いエネルギー密度を有する小型で軽量な二次電池の開発が要求されている。また、ハイブリット自動車を始めとする電気自動車用の電池として、高出力の二次電池の開発も要求されている。このような要求を満たす非水系電解質二次電池として、リチウムイオン二次電池がある。リチウムイオン二次電池は、負極、正極、電解液などで構成され、負極および正極の活物質には、リチウムを脱離および挿入することが可能な材料が用いられている。

【0003】

リチウム複合酸化物、特に合成が比較的容易なリチウムコバルト複合酸化物を正極材料に用いたリチウムイオン二次電池は、４Ｖ級の高い電圧が得られるため、高エネルギー密度を有する電池として期待され、実用化が進んでいる。リチウムコバルト複合酸化物を用いた電池では、優れた初期容量特性やサイクル特性を得るための開発はこれまで数多く行われてきており、すでにさまざまな成果が得られている。

【0004】

しかしながら、リチウムコバルト複合酸化物は、原料に高価なコバルト化合物を用いるため、このリチウムコバルト複合酸化物を用いる電池の容量あたりの単価は、ニッケル水素電池より大幅に高くなり、適用可能な用途はかなり限定されている。したがって、携帯機器用の小型二次電池についてだけではなく、電力貯蔵用や電気自動車用などの大型二次電池についても、正極材料のコストを下げ、より安価なリチウムイオン二次電池の製造を可能とすることに対する期待は大きく、その実現は、工業的に大きな意義があるといえる。

【0005】

リチウムイオン二次電池用活物質の新たなる材料としては、コバルトよりも安価なニッケルを用いたリチウムニッケル複合酸化物を挙げることができる。このリチウムニッケル複合酸化物は、リチウムコバルト複合酸化物よりも低い電気化学ポテンシャルを示すため、電解液の酸化による分解が問題になりにくく、より高容量が期待でき、コバルト系と同様に高い電池電圧を示すことから、開発が盛んに行われている。しかし、純粋にニッケルのみで合成したリチウムニッケル複合酸化物を正極材料としてリチウムイオン二次電池を作製した場合、コバルト系に比ベサイクル特性が劣り、また、高温環境下で使用や保存により比較的電池性能を損ないやすいという欠点を有している。そのため、ニッケルの一部をコバルトやアルミニウムで置換したリチウムニッケル複合酸化物が一般的に知られている。

【0006】

正極活物質の一般的な製造方法は、（１）まず、中和晶析法によりリチウムニッケル複合酸化物の前駆体であるニッケル複合水酸化物を作製し、（２）その前駆体をリチウム化合物と混合して焼成する方法が知られている。このうち、（１）の中和晶析法によって粒子を製造する方法として、代表的な実施の形態は、撹拌槽を用いたプロセスである。

【0007】

特許文献１では、撹拌槽内に、ニッケル塩およびコバルト塩を含む混合水溶液と、アンモニウムイオン供給体を含む水溶液と、苛性アルカリ水溶液とを供給して反応させ、ニッケルコバルト複合水酸化物の粒子を析出させている。混合水溶液の供給口当たりの反応水溶液量に対する供給量の割合を０．０４体積％／分以下とすることで、粒径が大きく、結晶性が高く、形状が略球状の粒子が得られると記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0008】

【文献】日本国特開２０１１－２０１７６４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0009】

従来から、所望の特性のニッケル含有水酸化物の粒子を得るため、様々な検討がなされている。

【0010】

しかしながら、撹拌翼のタイプや翼径、撹拌槽の容積などの装置構造が変わると、その都度、条件出しが必要であった。

【0011】

また、粒子の断面に密度の異なる層からなる年輪状の構造が形成されることがあり、その構造がリチウムイオン二次電池の特性に悪影響を及ぼすことがあった。

【0012】

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、様々な構造の化学反応装置で、普遍的に、密度の異なる層からなる年輪状の構造の発生を抑制できる、ニッケル含有水酸化物の製造方法の提供を主な目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0013】

上記課題を解決するため、本発明の一態様によれば、
撹拌槽内の反応前水溶液と原料液とを混合した反応水溶液の中で中和晶析によってニッケル含有水酸化物を生成するニッケル含有水酸化物の製造方法であって、
前記反応水溶液の中で中和晶析によって前記ニッケル含有水酸化物の粒子の核を生成させる核生成工程と、
前記水溶液中に生成した前記核を成長させる粒子成長工程と、
を有し、
前記核生成工程における前記反応前水溶液のｐＨ値は、液温２５℃基準で、１２．０～１４．０であり、
前記粒子成長工程における前記反応水溶液のｐＨ値は、液温２５℃基準で、１０．５～１２．０であり、
前記粒子成長工程において、前記反応水溶液に占める、前記反応水溶液に溶けている前記ニッケル含有水酸化物のモル濃度が１．７ｍｏｌ／ｍ^３以上である高過飽和領域の体積割合が０．６２４％未満である、ニッケル含有水酸化物の製造方法が提供される。

【発明の効果】

【0014】

本発明の一態様によれば、様々な構造の化学反応装置で、普遍的に、密度の異なる層からなる年輪状の構造の発生を抑制できる、ニッケル含有水酸化物の製造方法が提供される。

【図面の簡単な説明】

【0015】

【図1】一実施形態によるニッケル含有水酸化物の製造方法のフローチャートである。

【図2】一実施形態による粒子成長工程の前半で形成される凝集体を模式化した断面図である。

【図3】一実施形態による粒子成長工程の後半で形成される外殻を模式化した断面図である。

【図4】一実施形態によるニッケル含有水酸化物の製造方法に用いられる化学反応装置を示す上面図である。

【図5】図４のV－V線に沿った化学反応装置の断面図である。

【図6】一実施形態による粒子成長工程における反応水溶液中の高過飽和領域を示す図である。

【図7】実施例１で得られたニッケル複合水酸化物の粒子の断面のＳＥＭ写真である。

【図8】比較例１で得られたニッケル複合水酸化物の粒子の断面のＳＥＭ写真である。

【発明を実施するための形態】

【0016】

以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明するが、各図面において、同一の又は対応する構成については同一の又は対応する符号を付して説明を省略する。

【0017】

図１は、一実施形態によるニッケル含有水酸化物の製造方法のフローチャートである。図１に示すように、ニッケル含有水酸化物の製造方法は、中和晶析によりニッケル含有水酸化物の粒子を得るものであって、粒子の核を生成させる核生成工程Ｓ１１と、粒子を成長させる粒子成長工程Ｓ１２とを有する。以下、各工程について説明するが、その前に、得られるニッケル含有水酸化物について説明する。

【0018】

（ニッケル含有水酸化物）
ニッケル含有水酸化物は、リチウムイオン二次電池の正極活物質の前駆体として用いられるものである。ニッケル含有水酸化物は、例えば、（１）ニッケル（Ｎｉ）とコバルト（Ｃｏ）とアルミニウム（Ａｌ）とを、物質量比（ｍｏｌ比）がＮｉ：Ｃｏ：Ａｌ＝１－ｘ－ｙ：ｘ：ｙ（ただし、０≦ｘ≦０．３、０．００５≦ｙ≦０．１５）となるように含むニッケル複合水酸化物であるか、または（２）ニッケル（Ｎｉ）とコバルト（Ｃｏ）とマンガン（Ｍｎ）とＭ（Ｍは、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、およびＷから選択される１種以上の添加元素）とを物質量比（ｍｏｌ比）がＮｉ：Ｃｏ：Ｍｎ：Ｍ＝ｘ：ｙ：ｚ：ｔ（ただし、ｘ＋ｙ＋ｚ＋ｔ＝１、０．１≦ｘ≦０．７、０．１≦ｙ≦０．５、０．１≦ｚ≦０．８、０≦ｔ≦０．０２）となるように含むニッケルコバルトマンガン複合水酸化物である。

【0019】

一実施形態によるニッケル含有水酸化物に含まれる水酸化物イオンの量は、通常、化学量論比を持つが、本実施形態に影響のない程度で過剰であったり、欠損していてもよい。また、本実施形態に影響のない程度で水酸化物イオンの一部がアニオン（例えば、炭酸イオンや硫酸イオンなど）に置き換わっていてもよい。

【0020】

なお、一実施形態によるニッケル含有水酸化物はＸ線回折（ＸＲＤ）測定によって、ニッケル含有水酸化物の単相（または、主成分がニッケル含有水酸化物）であればよい。

【0021】

ニッケル含有水酸化物は、ニッケルを含有し、好ましくはニッケル以外の金属をさらに含有する。ニッケル以外の金属をさらに含有する水酸化物を、ニッケル複合水酸化物と呼ぶ。ニッケル複合水酸化物の金属の組成比（例えば、Ｎｉ：Ｃｏ：Ｍｎ：Ｍ）は、得られる正極活物質においても維持されるので、正極活物質に要求される金属の組成比と一致するように調整される。

【0022】

（ニッケル含有水酸化物の製造方法）
ニッケル含有水酸化物の製造方法は、上述の如く、核生成工程Ｓ１１と、粒子成長工程Ｓ１２とを有する。本実施形態では、バッチ式の撹拌槽を用いて、撹拌槽内の水溶液のｐＨ値などを制御することで、核生成工程Ｓ１１と、粒子成長工程Ｓ１２とを分けて実施する。

【0023】

核生成工程Ｓ１１では、核生成が粒子成長よりも優先して起こり、粒子成長はほとんど生じない。一方、粒子成長工程Ｓ１２では、粒子成長が核生成よりも優先して起こり新しい核はほとんど生成されない。核生成工程Ｓ１１と粒子成長工程Ｓ１２とを分けて実施することで、粒度分布の範囲が狭く均質な核が形成でき、その後に、核を均質に成長させることができる。

【0024】

以下、核生成工程Ｓ１１および粒子成長工程Ｓ１２について説明する。核生成工程Ｓ１１における撹拌槽内の水溶液と、粒子成長工程Ｓ１２における撹拌槽内の水溶液とでは、ｐＨ値の範囲が異なるが、アンモニア濃度の範囲や温度の範囲は実質的に同じであってよい。

【0025】

尚、本実施形態では、バッチ式の撹拌槽を用いるが、連続式の撹拌槽を用いてもよい。後者の場合、核生成工程Ｓ１１と粒子成長工程Ｓ１２とは、同時に実施される。この場合、撹拌槽内の水溶液のｐＨ値の範囲は当然に同じになり、例えば、１２．０の近傍に設定されてよい。

【0026】

（核生成工程）
先ず、原料液を調製しておく。原料液は、少なくともニッケル塩を含み、好ましくはニッケル塩以外の金属塩をさらに含有する。金属塩としては、硝酸塩、硫酸塩、塩酸塩などが用いられる。より具体的には、例えば、硫酸ニッケル、硫酸マンガン、硫酸コバルト、硫酸アルミニウム、硫酸チタン、ペルオキソチタン酸アンモニウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸バナジウム、バナジン酸アンモニウム、硫酸クロム、クロム酸カリウム、硫酸ジルコニウム、硝酸ジルコニウム、シュウ酸ニオブ、モリブデン酸アンモニウム、硫酸ハフニウム、タンタル酸ナトリウム、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸アンモニウムなどが用いられる。

【0027】

原料液の金属の組成比（例えば、Ｎｉ：Ｃｏ：Ｍｎ：Ｍ）は、得られるニッケル複合水酸化物においても維持されるので、ニッケル複合水酸化物に要求される組成比と一致するように調整される。

【0028】

また、撹拌槽内に、アルカリ水溶液、アンモニア水溶液、および水を供給して混合した水溶液を貯める。混合した水溶液を、以下、「反応前水溶液」と呼ぶ。反応前水溶液のｐＨ値は、液温２５℃基準で、１２．０～１４．０、好ましくは１２．３～１３．５の範囲内に調節しておく。また、反応前水溶液中のアンモニアの濃度は、好ましくは３～２５ｇ／Ｌ、より好ましくは５～２０ｇ／Ｌ、さらに好ましくは５～１５ｇ／Ｌの範囲内に調節しておく。さらに、反応前水溶液の温度は、好ましくは２０～６０℃、より好ましくは３５～６０℃の範囲内に調節しておく。

【0029】

アルカリ水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物を含むものが用いられる。アルカリ金属水酸化物は、固体として供給してもよいが、水溶液として供給することが好ましい。

【0030】

アンモニア水溶液としては、アンモニア供給体を含むものが用いられる。アンモニア供給体としては、例えば、アンモニア、硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム、炭酸アンモニウム、またはフッ化アンモニウムなどが使用できる。

【0031】

尚、本実施形態では、非還元性錯化剤として、アンモニア供給体が用いられるが、エチレンジアミン四酢酸、ニトリト三酢酸、ウラシル二酢酸、またはグリシンなどが用いられてもよい。非還元性錯化剤は、撹拌槽内の水溶液中でニッケルイオンなど結合して錯体を形成可能なものであればよい。

【0032】

反応前水溶液のｐＨ、アンモニア濃度、温度などの調節後、反応前水溶液を撹拌しながら原料液を撹拌槽内に供給する。これにより、撹拌槽内には、反応前水溶液と原料液とが混合した反応水溶液が形成され、中和晶析によって核が生成され、核生成工程Ｓ１１が開始される。

【0033】

核生成工程Ｓ１１において、反応水溶液のｐＨ値が１２.０以上であれば、核生成が粒子成長よりも支配的になる。また、核生成工程Ｓ１１において、反応水溶液のｐＨ値が１４．０以下であれば、核が微細化し過ぎることを防止でき、反応水溶液のゲル化を防止できる。核生成工程Ｓ１１において、反応水溶液のｐＨ値の変動幅（最大値と最小値の幅）は、好ましくは０．４以下である。

【0034】

また、核生成工程Ｓ１１において、反応水溶液中のアンモニア濃度が３ｇ／Ｌ以上であると、金属イオンの溶解度を一定に保持でき、形状および粒径が整った核が生成しやすい。また、核生成工程Ｓ１１において、反応水溶液中のアンモニア濃度が２５ｇ／Ｌ以下であると、析出せずに液中に残る金属イオンが減り、生産効率が向上する。核生成工程Ｓ１１において、反応水溶液のｐＨ値の変動幅（最大値と最小値の幅）は、好ましくは５ｇ／Ｌ以下である。

【0035】

また、核生成工程Ｓ１１において、反応水溶液の温度が２０℃以上であれば、ニッケル含有水酸化物の溶解度が大きいため、核発生が緩やかに生じ、核発生の制御が容易である。一方、反応水溶液の温度が６０℃以下であれば、アンモニアの揮発が抑制できるため、アンモニア水の使用量が削減でき、製造コストが低減できる。

【0036】

核生成工程Ｓ１１では、反応水溶液のｐＨ値やアンモニア濃度、温度が上記範囲内に維持されるように、撹拌槽内に、原料液の他に、アルカリ水溶液、アンモニア水溶液を供給する。これにより、反応水溶液中で、核の生成が継続される。そして、所定の量の核が生成されると、核生成工程Ｓ１１を終了する。所定量の核が生成したか否かは、金属塩の供給量によって推定できる。

【0037】

（粒子成長工程）
核生成工程Ｓ１１の終了後、粒子成長工程Ｓ１２の開始前に、撹拌槽内の反応水溶液のｐＨ値を、液温２５℃基準で、１０．５～１２．０、好ましくは１１．０～１２．０、かつ、核生成工程Ｓ１１におけるｐＨ値よりも低く調整する。このｐＨ値の調整は、撹拌槽内へのアルカリ水溶液の供給を停止すること、金属塩の金属を水素と置換した無機酸（例えば、硫酸塩の場合、硫酸）を撹拌槽内へ供給することなどで調整できる。

【0038】

反応水溶液のｐＨ、アンモニア濃度、温度などの調節後、反応水溶液を撹拌しながら原料液を撹拌槽内に供給する。これにより、中和晶析によって核の成長（粒子成長）が始まり、粒子成長工程Ｓ１２が開始される。尚、本実施形態では、核生成工程Ｓ１１と粒子成長工程Ｓ１２とを、同一の撹拌槽で行うが、異なる撹拌槽で行ってもよい。

【0039】

粒子成長工程Ｓ１２において、反応水溶液のｐＨ値が１２．０以下であってかつ核生成工程Ｓ１１におけるｐＨ値よりも低ければ、新たな核はほとんど生成せず、核生成よりも粒子成長の方が優先して生じる。

【0040】

尚、ｐＨ値が１２.０の場合は、核生成と粒子成長の境界条件であるため、反応水溶液中に存在する核の有無により、優先順位が変わる。例えば、核生成工程Ｓ１１のｐＨ値を１２.０より高くして多量に核生成させた後、粒子成長工程Ｓ１２でｐＨ値を１２.０とすると、反応水溶液中に多量の核が存在するため、粒子成長が優先する。一方、反応水溶液中に核が存在しない状態、すなわち、核生成工程Ｓ１１においてｐＨ値を１２.０とした場合、成長する核が存在しないため、核生成が優先する。その後、粒子成長工程Ｓ１２においてｐＨ値を１２.０より小さくすれば、生成した核が成長する。核生成と粒子成長を明確に分離するためには、粒子成長工程のｐＨ値を核生成工程のｐＨ値より０．５以上低くすることが好ましく、１．０以上低くすることがより好ましい。

【0041】

また、粒子成長工程Ｓ１２において、反応水溶液のｐＨ値が１０．５以上であれば、アンモニアによる溶解度が低いため、析出せずに液中に残る金属イオンが減り、生産効率が向上する。

【0042】

粒子成長工程Ｓ１２では、反応水溶液のｐＨ値やアンモニア濃度、温度が上記範囲内に維持されるように、撹拌槽内に、原料液の他に、アルカリ水溶液、アンモニア水溶液を供給する。これにより、反応水溶液中で、粒子成長が継続される。

【0043】

粒子成長工程Ｓ１２は、撹拌槽内の雰囲気を切り換えることで前半と後半とに分けることができる。前半の雰囲気は、核生成工程Ｓ１１と同様に酸化性雰囲気とされる。酸化性雰囲気の酸素濃度は、１容量％以上、好ましくは２容量％以上、より好ましくは１０容量％以上である。酸化性雰囲気は、制御が容易な大気雰囲気（酸素濃度：２１容量％）であってよい。酸化性雰囲気の酸素濃度の上限は、特に限定されるものではないが、３０容量％以下である。一方、後半の雰囲気は、非酸化性雰囲気とされる。非酸化性雰囲気の酸素濃度は、１容量％以下、好ましくは０．５容量％以下、より好ましくは０．３容量％以下である。非酸化性雰囲気の酸素濃度は、酸素ガスまたは大気と、不活性ガスとを混合することにより制御する。

【0044】

図２は、一実施形態による粒子成長工程の前半で形成される凝集体を模式化した断面図である。図３は、一実施形態による粒子成長工程の後半で形成される外殻を模式化した断面図である。

【0045】

粒子成長工程Ｓ１２の前半では、核が成長することで種晶粒子２が形成され、種晶粒子２がある程度大きくなると、種晶粒子２同士が衝突するようになり、複数の種晶粒子２からなる凝集体４が形成される。一方、粒子成長工程Ｓ１２の後半では、凝集体４の周りに緻密な外殻６が形成される。その結果、凝集体４と外殻６とで構成される粒子が得られる。

【0046】

尚、ニッケル含有水酸化物の粒子の構造は、図３に示す構造に限定されない。例えば、核生成工程Ｓ１１と粒子成長工程Ｓ１２とが同時に実施される場合、中和晶析の完了時に得られる粒子の構造は、図３に示す構造とは別の構造である。その構造は、例えば、種晶粒子２に相当するものと外殻６に相当するものとが混じり合い、容易にその境界が分からない一様な構造となる。

【0047】

ニッケル含有水酸化物の粒子が所定の粒径まで成長した時点で、粒子成長工程Ｓ１２を終了させる。その粒径は、核生成工程Ｓ１１と粒子成長工程Ｓ１２のそれぞれにおける金属塩の供給量から推測できる。

【0048】

尚、核生成工程Ｓ１１の終了後、粒子成長工程Ｓ１２の途中で、原料液などの供給を停止すると共に反応水溶液の撹拌を停止し、粒子を沈降させ、上澄み液を排出してもよい。これにより、中和晶析によって減少した反応水溶液中の金属イオン濃度を、高めることができる。

【0049】

図４は、一実施形態によるニッケル含有水酸化物の製造方法に用いられる化学反応装置を示す上面図である。図５は、図４のV－V線に沿った化学反応装置の断面図である。

【0050】

化学反応装置１０は、撹拌槽２０と、撹拌翼３０と、撹拌軸４０と、バッフル５０とを有する。撹拌槽２０は、円柱状の内部空間に反応水溶液を収容する。撹拌翼３０は、撹拌槽２０内の反応水溶液を撹拌させる。撹拌翼３０は、撹拌軸４０の下端に取付けられる。モータなどが撹拌軸４０を回転させることで、撹拌翼３０が回転される。撹拌槽２０の中心線、撹拌翼３０の中心線、および撹拌軸４０の中心線は、一致してよく、鉛直とされてよい。バッフル５０は、邪魔板とも呼ばれる。バッフル５０は、撹拌槽２０の内周面から突き出しており、回転流を邪魔することで上昇流や下降流を生じさせ、反応水溶液の撹拌効率を向上させる。

【0051】

また、化学反応装置１０は、原料液供給管６０と、アルカリ水溶液供給管６２と、アンモニア水供給管６４とを有する。原料液供給管６０は、撹拌槽２０内に原料液を供給する。アルカリ水溶液供給管６２は、撹拌槽２０内にアルカリ水溶液を供給する。アンモニア水供給管６４は、撹拌槽２０内にアンモニア水を供給する。

【0052】

本発明者は、様々な構造の化学反応装置で、普遍的に、粒子断面における年輪状の構造（図８参照）の発生を抑制できる条件を検討し、粒子成長工程Ｓ１２において撹拌槽２０内の反応水溶液に占める高過飽和領域１２（図６参照）の体積割合に着目した。

【0053】

図６は、一実施形態による粒子成長工程における反応水溶液中の高過飽和領域を示す図である。図６において、矢印方向は、原料液供給管６０の供給口６１付近における流れの方向を表す。

【0054】

高過飽和領域１２とは、反応水溶液中に溶けているニッケル含有水酸化物のモル濃度が１．７ｍｏｌ／ｍ^３以上である領域を意味する。高過飽和領域１２では、ニッケル含有水酸化物のモル濃度が溶解度よりも十分に高いので、粒子成長が有意な速さで生じる。

【0055】

ここで、溶解度とは、水１００ｇに溶けるニッケル含有水酸化物の限界量（ｇ／１００ｇ－Ｈ_２Ｏ）を意味する。水酸化ニッケル（Ｎｉ（ＯＨ）_２）の溶解度は、例えば、１０^－７（ｇ／１００ｇ－Ｈ_２Ｏ）である。このようにニッケル含有水酸化物の溶解度は、ゼロに近いので、高過飽和領域１２のモル濃度の下限値１．７ｍｏｌ／ｍ^３に比べ無視できるほど小さい。

【0056】

高過飽和領域１２は、原料液供給管６０の供給口６１付近に形成される。その供給口６１は反応水溶液の流れ場に設置されているため、高過飽和領域１２の体積などは流れ場の影響を受ける。流れ場は、撹拌翼３０の回転数の他、撹拌翼３０のタイプや翼径、撹拌槽２０の容積などにより変化する。

【0057】

尚、図４～図６では、供給口６１の数が１つであるが複数でもよく、高過飽和領域１２の数は１つではなく複数でもよい。高過飽和領域１２の数が複数である場合、高過飽和領域１２の体積とは合計の体積を意味する。

【0058】

粒子成長工程Ｓ１２において、粒子は、反応水溶液全体に分散しており、主に高過飽和領域１２を通過する際に成長する。反応水溶液全体に占める高過飽和領域１２の体積割合が０．６２４％未満であれば、粒子成長が緩やかに生じ、年輪状の構造の発生が抑制できる。粒子成長を緩やかに生じさせることで、結晶成長方位の変化やその変化に伴う空隙の発生などを抑制できるためと推定される。

【0059】

年輪状の構造の発生を抑制する観点からは、反応水溶液に占める高過飽和領域１２の体積割合は小さいほど好ましい。上記体積割合は、供給口６１付近の流れ場の速さＵや乱流拡散係数Ｋなどに依存する。ＵやＫが大きいほど、上記体積割合が小さい。上記体積割合は、好ましくは０．６００％以下、より好ましくは０．５００％以下、さらに好ましくは０．４００％以下である。但し、ＵやＫは撹拌軸４０を回転させるモータの容量などの制約を受けるので、上記体積割合は好ましくは０．０１９％以上である。

【0060】

高過飽和領域１２の体積は、汎用の流体解析ソフトを用いたシミュレーションによって求めることができる。

【0061】

以下、連続式の撹拌槽内で、硫酸ニッケルと水酸化ナトリウムとを反応させて、水酸化ニッケルを製造する場合の定常状態の流体解析について主に説明する。流体解析ソフトとしては、ＡＮＳＹＳ社製のＡＮＳＹＳＣＦＸＶｅｒ１５．０（商品名）を用いる。解析条件などを以下に示す。

【0062】

＜座標系＞
・流体解析を行う領域（以下、「解析領域」とも呼ぶ。）のうち、撹拌軸や撹拌翼の周りは、撹拌軸や撹拌翼と共に回転する回転座標系で扱う。回転座標系で扱う領域は、円柱状であって、その中心線を撹拌軸や撹拌翼の中心線に重ね、その直径を撹拌翼の翼径の１１５％に設定し、上下方向の範囲を撹拌槽の内底面から液面までとする。
・解析領域のうち、その他の領域は、静止座標系で扱う。
・回転座標系と静止座標系とは、流体解析ソフトのインターフェース機能を使用して接続する。インターフェース機能としては、オプションの「Frozen Rotor」を用いる。

【0063】

＜乱流モデル＞
・撹拌槽内の流れは、層流ではなく、乱流である。その乱流モデルとしては、SST（Shear Stress Transport）モデルを用いる。

【0064】

＜化学反応＞
・撹拌槽内で生じる化学反応の式を下記に示す。
ＮｉＳＯ_４＋２ＮａＯＨ→Ｎｉ（ＯＨ）_２＋Ｎａ_２ＳＯ_４
・流体解析では、以下の５成分が含まれる単相多成分の流体を扱う。
１）反応成分Ａ：ＮｉＳＯ_４
２）反応成分Ｂ：ＮａＯＨ
３）生成成分Ｃ：Ｎｉ（ＯＨ）_２
４）生成成分Ｄ：Ｎａ_２ＳＯ_４
５）水
・化学反応の速度の大きさは、渦消散モデルにより計算する。渦消散モデルは、乱流分散によって反応成分Ａと反応成分Ｂとが分子レベルまで混合すると、上記化学反応が生じると仮定した反応モデルである。渦消散モデルの設定は、流体解析ソフトのデフォルトの設定のままとする。

【0065】

＜各成分の質量分率の計算方法＞
・解析領域内の任意の位置および任意の時点で、上記５成分の合計の質量分率は１である。そこで、上記５成分のうち水を除く４成分のそれぞれの質量分率は、ＣＦＸによって輸送方程式を解いて求める値とし、水の質量分率は、１から、上記４成分の合計の質量分率を引いて得られる値とする。

【0066】

＜境界条件＞
・壁境界（流体の出入りのない境界）
撹拌槽や撹拌軸、撹拌翼、バッフルなどの固体との境界では、滑り無しとする。一方、外気との境界（液面）では、滑り有りとする。尚、液面は、撹拌によって変形しないものとし、高さが一定の平面とする。

【0067】

・流入境界（流体が入ってくる境界）
撹拌槽内の流体中に、反応成分Ａを含む水溶液（以下、「水溶液Ａ」と呼ぶ。）が流入する流入境界と、反応成分Ｂを含む水溶液（以下、「水溶液Ｂ」と呼ぶ。）が流入する流入境界とを別々に設ける。
水溶液Ａの流入流量や水溶液Ａに占める反応成分Ａの割合、水溶液Ｂの流入流量や水溶液Ｂに占める反応成分Ｂの割合は一定とする。水溶液Ｂの流入流量は、撹拌槽内の水溶液のｐＨが所定値（例えば、１２．０）に維持されるように、設定する。

【0068】

・流出境界（流体が出ていく境界）
撹拌槽の内周面の一部に、撹拌槽内の流体が出ていく流出境界を設ける。流出する液体は、生成成分ＣおよびＤ、未反応の反応成分ＡおよびＢ、並びに水を含むものである。その流出量は、解析領域と系外との圧力差がゼロになるように設定する。
尚、オーバーフロー型の連続式の場合、液面が流出境界である。

【0069】

＜熱条件＞
・撹拌槽内の流体の温度は、２５℃で一定とする。化学反応による熱の生成、流入境界や流出境界での熱の出入りは、無いものと仮定する。

【0070】

＜初期条件＞
・撹拌槽内の流体は、初期状態において、均質なものとし、上記５成分のうち反応成分Ｂと水の２成分のみを含むものとする。具体的には、撹拌槽内の流体のうち、反応成分Ａの初期質量分率や生成成分Ｃの初期質量分率、生成成分Ｄの初期質量分率はゼロ、反応成分Ｂの初期質量分率は撹拌槽内の水溶液のｐＨが上記所定値になるように設定する。

【0071】

尚、生成成分Ｃの初期質量分率や生成成分Ｄの初期質量分率は、ここではゼロに設定するが、定常解を求めるための反復計算の回数（つまり、計算時間）を減らすため、定常状態において到達すると予測される、解析領域全体での平均値に設定してもよい。解析領域全体での平均値は、水溶液Ａの流入流量や水溶液Ａに占める反応成分Ａの割合、水溶液Ｂの流入流量や水溶液Ｂに占める反応成分Ｂの割合、化学反応式で表される量的関係などを基に算出できる。

【0072】

＜収束判定＞
・定常解を求めるための反復計算は、解析領域内の任意の位置で、流れの流速成分（ｍ／ｓ）や圧力（Ｐａ）、上記４成分のそれぞれの質量分率の、それぞれの二乗平均平方根の残差が１０^－４以下となるまで行う。

【0073】

＜高過飽和領域の体積の計算方法＞
・高過飽和領域とは、撹拌槽内の水溶液中に溶けている生成成分Ｃの濃度が１．７ｍｏｌ／ｍ^３以上の領域である。高過飽和領域は、水溶液Ａの流入境界の周囲に形成される。
・ところで、流体解析では、上述の如く、上記５成分を単相多成分の流体として扱うため、生成成分Ｃの全てを液体として扱う。一方、実際には、生成成分Ｃの大部分は析出して固体となり、生成成分Ｃの残りの一部のみが液体として水溶液中に溶けている。
・そこで、高過飽和領域の体積は、上記流体解析により得た生成成分Ｃの濃度分布を補正することで算出する。その補正では、水溶液Ａの流入境界から十分に離れた流出境界において生成成分Ｃの濃度が溶解度相当になるように、撹拌槽内の流体の全体において一律に生成成分Ｃの濃度を所定値下げる。
・尚、撹拌槽が連続式ではなくバッチ式の場合、流出境界が存在しない。この場合、濃度分布の補正では、撹拌槽内の水溶液の液面において生成成分Ｃの濃度が溶解度相当になるように、撹拌槽内の流体の全体において一律に生成成分Ｃの濃度を所定値下げればよい。ちなみに、オーバーフロー型の連続式の場合、液面が流出境界である。

【0074】

尚、上記説明では、水酸化ニッケルを得る場合の解析条件を示したが、ニッケル複合水酸化物を得る場合の解析条件も同様に設定できる。例えば、硫酸ニッケルや硫酸コバルトと水酸化ナトリウムとを反応させてニッケル複合水酸化物を得る場合、流体解析では、以下の７成分が含まれる単相多成分の流体を扱う。
１）反応成分Ａ１：ＮｉＳＯ_４
２）反応成分Ａ２：ＣｏＳＯ_４
３）反応成分Ｂ：ＮａＯＨ
４）生成成分Ｃ１：Ｎｉ（ＯＨ）_２
５）生成成分Ｃ２：Ｃｏ（ＯＨ）_２
６）生成成分Ｄ：Ｎａ_２ＳＯ_４
７）水
ここでは、撹拌槽内で「Ａ１＋２Ｂ→Ｃ１＋Ｄ」および「Ａ２＋２Ｂ→Ｃ２＋Ｄ」の２つの化学反応が生じるとし、それぞれの化学反応に対応する渦消散モデルが反応モデルとして用いられる。反応成分Ａ１と反応成分Ａ２とは、均一に水に溶けた状態で、同一の流入境界から供給される。つまり、反応成分Ａ１と反応成分Ａ２の両方を含む水溶液Ａが流入境界から供給される。水溶液Ａの流入境界の周囲に、高過飽和領域が形成される。高過飽和領域とは、撹拌槽内の水溶液中に溶けている生成成分のうち全ての金属水酸化物（ここでは、生成成分Ｃ１と生成成分Ｃ２）の合計のモル濃度が１．７ｍｏｌ／ｍ^３以上の領域のことである。

【0075】

ここで、生成成分のうち全ての金属水酸化物のモル濃度を合計する理由について、以下、説明する。先ず、上述の如く、反応成分Ａ１と反応成分Ａ２とは、均一に水に溶けた状態で、同一の流入境界から流入する。このとき、反応成分Ａ１および反応成分Ａ２は、反応成分Ｂと速やかに反応して、生成成分Ｃ１および生成成分Ｃ２を生じる。よって、生成成分Ｃ１と生成成分Ｃ２とは、生成した時点で、充分に混ざった状態で存在する。その結果、生成成分Ｃ１と生成成分Ｃ２とは、個別の水酸化物として析出するのではなく、それぞれの成分が複合した水酸化物が固溶体として析出する。

【0076】

また、硫酸ニッケル、硫酸コバルトおよび硫酸アルミニウムを用いて、ニッケル、コバルトおよびアルミニウムを含むニッケル複合水酸化物を得る場合、流体解析では、以下の９成分が含まれる単相多成分の流体を扱う。
１）反応成分Ａ１：ＮｉＳＯ_４
２）反応成分Ａ２：ＣｏＳＯ_４
３）反応成分Ａ３：Ａｌ_２（ＳＯ_４）_３
４）反応成分Ｂ：ＮａＯＨ
５）生成成分Ｃ１：Ｎｉ（ＯＨ）_２
６）生成成分Ｃ２：Ｃｏ（ＯＨ）_２
７）生成成分Ｃ３：Ａｌ（ＯＨ）_３
８）生成成分Ｄ：Ｎａ_２ＳＯ_４
９）水
ここでは、撹拌槽内で「Ａ１＋２Ｂ→Ｃ１＋Ｄ」、「Ａ２＋２Ｂ→Ｃ２＋Ｄ」、および「１／２Ａ３＋３Ｂ→Ｃ３＋３／２Ｄ」の３つの化学反応が生じるとし、それぞれの化学反応に対応する渦消散モデルが反応モデルとして用いられる。反応成分Ａ１、反応成分Ａ２および反応成分Ａ３は、均一に水に溶けた状態で、同一の流入境界から供給される。つまり、反応成分Ａ１、反応成分Ａ２および反応成分Ａ３を含む水溶液Ａが流入境界から供給される。水溶液Ａの流入境界の周囲に、高過飽和領域が形成される。高過飽和領域とは、撹拌槽内の水溶液中に溶けている生成成分のうち全ての金属水酸化物（ここでは、生成成分Ｃ１、生成成分Ｃ２および生成成分Ｃ３）の合計のモル濃度が１．７ｍｏｌ／ｍ^３以上の領域のことである。

【0077】

生成成分のうち全ての金属水酸化物のモル濃度を合計する理由について、以下、説明する。先ず、上述の如く、反応成分Ａ１、反応成分Ａ２および反応成分Ａ３は、均一に水に溶けた状態で、同一の流入境界から流入する。このとき、反応成分Ａ１、反応成分Ａ２および反応成分Ａ３は、反応成分Ｂと速やかに反応して、生成成分Ｃ１、生成成分Ｃ２および生成成分Ｃ３を生じる。よって、生成成分Ｃ１、生成成分Ｃ２および生成成分Ｃ３は、生成した時点で、充分に混ざった状態で存在する。その結果、生成成分Ｃ１、生成成分Ｃ２および生成成分Ｃ３は、個別の水酸化物として析出するのではなく、それぞれの成分が複合した水酸化物が固溶体として析出する。

【0078】

さらに、硫酸ニッケル、硫酸マンガン、および硫酸コバルトを用いてニッケルコバルトマンガン複合水酸化物を得る場合、流体解析では、以下の９成分が含まれる単相多成分の流体を扱う。
１）反応成分Ａ１：ＮｉＳＯ_４
２）反応成分Ａ２：ＭｎＳＯ_４
３）反応成分Ａ３：ＣｏＳＯ_４
４）反応成分Ｂ：ＮａＯＨ
５）生成成分Ｃ１：Ｎｉ（ＯＨ）_２
６）生成成分Ｃ２：Ｍｎ（ＯＨ）_２
７）生成成分Ｃ３：Ｃｏ（ＯＨ）_２
８）生成成分Ｄ：Ｎａ_２ＳＯ_４
９）水
ここでは、撹拌槽内で「Ａ１＋２Ｂ→Ｃ１＋Ｄ」、「Ａ２＋２Ｂ→Ｃ２＋Ｄ」、および「１／２Ａ３＋３Ｂ→Ｃ３＋３／２Ｄ」の３つの化学反応が生じるとし、それぞれの化学反応に対応する渦消散モデルが反応モデルとして用いられる。反応成分Ａ１、反応成分Ａ２および反応成分Ａ３は、均一に水に溶けた状態で、同一の流入境界から供給される。つまり、反応成分Ａ１、反応成分Ａ２および反応成分Ａ３を含む水溶液Ａが流入境界から供給される。水溶液Ａの流入境界の周囲に、高過飽和領域が形成される。高過飽和領域とは、撹拌槽内の水溶液中に溶けている生成成分のうち全ての金属水酸化物（ここでは、生成成分Ｃ１と生成成分Ｃ２と生成成分Ｃ３）の合計のモル濃度が１．７ｍｏｌ／ｍ^３以上の領域のことである。

【0079】

生成成分のうち全ての金属水酸化物のモル濃度を合計する理由については、上述のニッケル、コバルトおよびアルミニウムを含むニッケル複合水酸化物を得る場合において、生成成分のうち全ての金属水酸化物のモル濃度を合計する場合と同様であるため、説明は省略する。

【0080】

水溶液Ａの流入境界の数は複数でもよく、高過飽和領域の数は複数でもよい。高過飽和領域の数が複数である場合、高過飽和領域の体積とは合計の体積を意味する。

【0081】

ニッケル含有水酸化物の製造方法は、粒子成長工程において撹拌槽内の水溶液に占める高過飽和領域の体積割合が０．６２４％未満であることを、シミュレーションにより確認する工程を有してよい。この確認は、製造条件の変更の度に行われてよい。この製造条件の変更とは、例えば、撹拌槽の容量や形状、撹拌翼の個数、形状、寸法もしくは設置場所、撹拌翼の回転数、原料液の流量や濃度、または原料液を供給するノズルの形状、本数もしくは配置などが挙げられる。例えば、撹拌槽がバッチ式の場合、製造条件が同じ間、確認は一度行われればよく、毎回の確認は不要である。

【0082】

なお、実際の反応水溶液には、化学成分としてアンモニアも含まれる。しかし、アンモニアは、固体粒子の析出反応には直接関与せず、その濃度もニッケル水酸化物の濃度に比べて小さい。そのため、アンモニアが水酸化ニッケルの高過飽和領域の体積に与える影響は小さいと考える。よって、シミュレーションモデルで解くべき化学成分中のアンモニアは、水として取り扱う。

【実施例】

【0083】

［実施例１］
実施例１では、オーバーフロー型の連続式の撹拌槽を用い、中和晶析によって、ニッケル複合水酸化物の粒子の核を生成させる核生成工程と、粒子を成長させる粒子成長工程とを同時に行った。

【0084】

撹拌槽の容積は２００Ｌ、撹拌翼のタイプはディスクタービン翼、撹拌翼の羽根の枚数は６枚、撹拌翼の翼径は２５０ｍｍ、撹拌翼と撹拌槽の内底面との間の上下方向距離は１４０ｍｍ、撹拌翼の回転数は２８０ｒｐｍとした。

【0085】

撹拌槽内の反応水溶液の液量は２００Ｌ、反応水溶液のｐＨ値は１１．８、反応水溶液のアンモニア濃度は１２ｇ／Ｌ、反応水溶液の温度は５０℃に維持した。反応水溶液の周辺雰囲気は窒素雰囲気とした。

【0086】

原料液は、ニッケル複合水酸化物としてＮｉ_０．８２Ｃｏ_０．１５Ａｌ_０．０３（ＯＨ）_２が得られるように調製し、それぞれの金属イオン濃度の合計は２．０ｍｏｌ／Ｌとした。原料液供給管の本数は２本、各原料液供給管からの供給量は４００ｍｌ／分、２本の原料液供給管からの合計の供給量は８００ｍｌ／分であった。

【0087】

核生成工程や粒子成長工程の間、撹拌槽内に、原料液の他に水酸化ナトリウム水溶液およびアンモニア水を供給して、反応水溶液のｐＨ値や反応水溶液のアンモニア濃度を維持した。

【0088】

反応水溶液に占める高過飽和領域の体積割合は、シミュレーションにより算出したところ、０．３７９％であった。尚、解析条件は、上述の解析条件と同様に設定した。

【0089】

図７に実施例１で得られたニッケル複合水酸化物の粒子の断面のＳＥＭ写真を示す。図７に示すように、粒子の断面に年輪状の構造は認められなかった。尚、得られたニッケル複合水酸化物のタップ密度は１．４０ｇ／ｃｃであった。

【0090】

［実施例２］
実施例２では、原料液供給管の本数を１本、１本の原料液供給管からの供給量を４００ｍｌ／分としたこと以外、実施例１と同様にニッケル複合水酸化物の粒子を製造した。

【0091】

反応水溶液に占める高過飽和領域の体積割合は、実施例１と同様にシミュレーションにより算出したところ、０．１９０％であった。

【0092】