特許 7167601 ベーパーチャンバーおよびベーパーチャンバーの製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2022-10-31

(45)【発行日】2022-11-09

(54)【発明の名称】ベーパーチャンバーおよびベーパーチャンバーの製造方法

(51)【国際特許分類】

   F28D 15/02 20060101AFI20221101BHJP

【ＦＩ】

F28D15/02 106Z

F28D15/02 101H

【請求項の数】 8

(21)【出願番号】P 2018182070

(22)【出願日】2018-09-27

(65)【公開番号】P2020051689

(43)【公開日】2020-04-02

【審査請求日】2021-07-27

(73)【特許権者】

【識別番号】000002897

【氏名又は名称】大日本印刷株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100122529

【弁理士】

【氏名又は名称】藤枡 裕実

(74)【代理人】

【識別番号】100135954

【弁理士】

【氏名又は名称】深町 圭子

(74)【代理人】

【識別番号】100119057

【弁理士】

【氏名又は名称】伊藤 英生

(74)【代理人】

【識別番号】100131369

【弁理士】

【氏名又は名称】後藤 直樹

(74)【代理人】

【識別番号】100171859

【弁理士】

【氏名又は名称】立石 英之

(72)【発明者】

【氏名】高橋 伸一郎

(72)【発明者】

【氏名】太田 貴之

(72)【発明者】

【氏名】小田 和範

(72)【発明者】

【氏名】武田 利彦

(72)【発明者】

【氏名】竹松 清隆

(72)【発明者】

【氏名】百瀬 輝寿

(72)【発明者】

【氏名】中村 陽子

【審査官】豊島 ひろみ

(56)【参考文献】

【文献】実開昭５６－０４６２９８（ＪＰ，Ｕ）

【文献】特開２０１７－１７２８７１（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｆ２８Ｄ １５／０２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

熱輸送を担う流体の流路を内部に有する平板状のベーパーチャンバーであって、
平面視上、前記流路が形成されている流路領域と、該流路領域を囲む周縁領域と、を有し、
ＩＤとして作用する光学的識別構造体が、前記周縁領域に形成されているベーパーチャンバー。

【請求項2】

前記ＩＤとして作用する光学的識別構造体が、下地層を介して形成されている、請求項１に記載のベーパーチャンバー。

【請求項3】

熱輸送を担う流体の流路を内部に有する平板状のベーパーチャンバーであって、
ＩＤとして作用する光学的識別構造体が、下地層を介して形成されているベーパーチャンバー。

【請求項4】

熱輸送を担う流体の流路を内部に有する平板状のベーパーチャンバーであって、
ＩＤとして作用する光学的識別構造体が、前記流路とは独立に形成され、最大高さ粗さＲｚが１μｍ以下の平滑面上に形成されているベーパーチャンバー。

【請求項5】

熱輸送を担う流体の流路を内部に有する平板状のベーパーチャンバーであって、
ＩＤとして作用する光学的識別構造体が、内部空間がある部分と、内部空間がない部分の高低差が３０μｍ以下の平滑面上に形成されているベーパーチャンバー。

【請求項6】

熱輸送を担う流体の流路を内部に有し、ＩＤとして作用する光学的識別構造体が形成されている平板状のベーパーチャンバーの製造方法であって、
前記ＩＤとして作用する光学的識別構造体を形成する部位を研磨する工程と、
研磨した前記部位に前記ＩＤとして作用する光学的識別構造体を形成する工程と、を順に備える、ベーパーチャンバーの製造方法。

【請求項7】

前記ＩＤとして作用する光学的識別構造体を形成する部位を研磨する工程が、最大高さ粗さＲｚが１μｍ以下となるように研磨する工程である、請求項６に記載のベーパーチャンバーの製造方法。

【請求項8】

前記ＩＤとして作用する光学的識別構造体を形成する部位を研磨する工程が、内部空間がある部分と、内部空間がない部分の高低差が３０μｍ以下となるように研磨する工程である、請求項６または請求項７に記載のベーパーチャンバーの製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、熱輸送を担う流体の流路を内部に有するベーパーチャンバーおよびその製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

携帯端末やタブレット端末といったモバイル端末等で使用される中央演算処理装置（ＣＰＵ）等の発熱を伴うデバイスは、ヒートパイプ等の放熱用部材によって冷却されている（例えば、特許文献１参照）。近年では、モバイル端末等の薄型化のために、放熱用部材の薄型化も求められており、ヒートパイプよりも薄型化を図ることができるベーパーチャンバーの開発が進められている。

【0003】

ベーパーチャンバーはヒートパイプによる熱輸送の機構を平板状の部材（金属シート）に適用した機器である。すなわち、ベーパーチャンバーには、対向して配置されて接合された平板状の部材の間に熱輸送を担う流体が封入されており、この流体が相変化を伴いつつ還流することで熱源における熱を輸送及び拡散して熱源を冷却する。

【0004】

例えば、ベーパーチャンバーの対向する平板状の部材間に蒸気用流路と凝縮液用流路とが設けられ、ここに熱輸送を担う流体が封入された形態がある。ベーパーチャンバーを熱源に配置すると、熱源の近くにおいて熱輸送を担う流体は熱源からの熱を受けて蒸発し、気体（蒸気）となって蒸気用流路を移動する。これにより熱源からの熱が熱源から離れた位置に円滑に輸送され、その結果熱源が冷却される。
熱源からの熱を輸送した気体状態の流体は熱源から離れた位置にまで移動し、周囲に熱を吸収されることで冷却されて凝縮し、液体状態に相変化する。相変化した液体状態の流体は凝縮液用流路を通り、熱源の位置にまで戻ってまた熱源からの熱を受けて蒸発して気体状態に変化する。
以上のような循環により熱源から発生した熱が熱源から離れた位置に輸送され熱源が冷却される。

【0005】

上記対向する平板状の部材間の接合は、拡散接合（例えば、特許文献１参照）、ろう付け（例えば、特許文献２参照）、あるいは溶接（例えば、特許文献３参照）により行われることが多い。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【文献】特開２０１６－２０５６９３号公報

【文献】特開２００７－２１２０２８号公報

【文献】特開２０１２－１３２５８２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

ところで、平板状の部材間を接合した後で、平板状をなす形成途中の各ベーパーチャンバーの表面あるいは裏面にＩＤとして作用する光学的識別構造体を形成する場合がある。形成途中のベーパーチャンバー各々に対し、形成された上記光学的識別構造体が有するＩＤ情報は個別に異なっている。ロット管理や、熱輸送を担う流体を注入する際の気圧条件や、該流体の注入量に対する検査結果と関連付けるために、形成途中のベーパーチャンバーの各々を明確に区別する必要があるためである。

【0008】

光学的識別構造体は、形成途中のベーパーチャンバーの表面や裏面にインクジェットによる印字やレーザーによる印字や刻印により形成され、そのように形成された光学的識別構造体は、目視、カメラ、スキャナー、あるいはリーダーなどの光学的な手段で読み取られる場合が多い。

【0009】

図１２（ａ）に上側金属シート９２０の上面９２０ｂに、ＩＤとして作用する光学的識別構造体９０１がＱＲコード（登録商標）として形成された例の上面図を示す。各ベーパーチャンバー９００に対し、光学的識別構造体９０１であるＱＲコードが形成され、各光学的識別構造体９０１（ＱＲコード）が有するＩＤ情報は個別に異なっている。このため各ベーパーチャンバー９００を個別に識別することが可能となっている。

【0010】

光学的識別構造体９０１は、それがＱＲコードである場合には、通常一辺の長さが１ｍｍ以上であることが好ましい。ＱＲコード内部の各セルが一定の大きさ以上であった方が、ＱＲコードを形成する光学的識別構造体９０１の形成具合の変動や、それが形成される上側金属シート９２０の上面９２０ｂ、あるいは下側金属シート９１０の下面９１０ｂの表面状態の影響を受けにくく、より安定した読み取りが可能となるからである。

【0011】

光学的識別構造体９０１を目視、カメラ、スキャナー、あるいはリーダーなどの光学的な手段で正確に読み取ることができれば、光学的識別構造体９０１が有するＩＤ情報により、熱輸送を担う流体を注入する際の気圧条件や、該流体の注入量に対する検査結果、あるいは密封封止後の機能検査結果と各ベーパーチャンバー９００との関連付け、あるいはロット管理が確実かつ容易となる。これにより不良品の流出を抑制することで、安定した品質管理が可能となり、良好な品質のベーパーチャンバー９００を提供することができる。そのようなベーパーチャンバー９００が搭載された電子機器においても、放熱不良が抑制されるため、電子機器の不良を抑制することもできる。また光学的識別構造体９０１の位置により、ベーパーチャンバー９００の表裏や上下の区別が容易となり、工程上の管理が容易となる。

【0012】

ところで、上述の通り、光学的識別構造体９０１を目視、カメラ、スキャナー、あるいはリーダーなどの光学的な手段で読み取る場合、光学的識別構造体９０１と、その背景となる部材の表面との関係で、光学的識別構造体９０１の読み取りが困難になるという問題が生ずる場合がある。そしてその主な原因は、光学的識別構造体９０１が形成される上側金属シート９２０の上面９２０ｂ、あるいは下側金属シート９１０の下面９１０ｂにおいて、内部の密封空間の形状が模様となって、上記光学的な手段での読み取りを阻害することである。

【0013】

上記の通り、光学的識別構造体９０１がＱＲコードである場合は、通常一辺の長さが１ｍｍ以上である。そのため図１２（ａ）のように、光学的識別構造体９０１は、平面視上上側蒸気流路凹部９２２内のみ、あるいは上側流路壁部９２３内のみには収まらず、上側蒸気流路凹部９２２と上側流路壁部９２３の境界、あるいは上側蒸気流路凹部９２２と上側周縁壁９２４の境界、すなわち上側蒸気流路凹部９２２の輪郭を跨ぐか、該輪郭が光学的識別構造体９０１のすぐ近傍に存在することとなる。図１２（ｂ）に、上側金属シート９２０の、ＩＤとして作用する光学的識別構造体９０１が形成された部分における、ベーパーチャンバー９００（上側金属シート９２０）を短手方向に切断した場合の部分断面概念図を示す。図１２（ｂ）は、概念的に断面を示した図であるため、図１２（ａ）の上面図とは光学的識別構造体９０１や上側蒸気流路凹部９２２が存在する位置などが異なっている。図１２（ｂ）に概念的に示す通り、上側蒸気流路凹部９２２が形成されているか否かの影響が上側金属シート９２０の上面９２０ｂにまで及んでいる。光学的識別構造体９０１を読み取る際に、読み取り領域内に上側蒸気流路凹部９２２の輪郭が存在し、その輪郭が上記光学的な手段での読み取りを阻害することとなる。

【0014】

すなわち、上記の通りベーパーチャンバー９００は、対向する平板状の部材間を接合することで形成されるが、その接合には拡散接合が用いられることがある。拡散接合は、上記平板状の部材間を密着させ加圧および加熱するものであるが、拡散接合後の形成途中のベーパーチャンバーにおいては、その表面や裏面において、内部の密封空間の形状が模様となって上記光学的な手段での読み取りを阻害する場合がある。上記平板状の部材には、密封空間すなわち熱輸送を担う流体の流路となる溝が形成されているが、平板状の部材の内側（接合面側、形成途中のベーパーチャンバーにおける表面や裏面とは反対面側）に形成される溝の形状（溝の有無）が、その反対面すなわち形成途中のベーパーチャンバーにおける表面や裏面においても模様となって上記光学的な手段での読み取りを阻害する場合がある。平板状の部材における溝の形状（溝の有無）の影響がその反対面にまで及ぶのは、平板状の部材の板厚が特に溝が形成された部分において非常に薄いため、拡散接合時の加圧による平板状の部材の微細な変形の程度が、溝が形成された部分と形成されていない部分とでわずかに異なるためと推測される。また、接合にはろう付けが使用されることもあるが、温度、圧力は異なるものの同様の問題が発生することがある。

【0015】

上記を鑑み、本発明の目的は、表面や裏面にＩＤとして作用する光学的識別構造体が形成されたベーパーチャンバーにおいて、光学的識別構造体を目視、カメラ、スキャナー、あるいはリーダーなどの光学的な手段で読み取る場合の読み取り性を高めることにより、安定した品質管理を可能とし、もって良好な品質のベーパーチャンバーを提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0016】

本発明は、熱輸送を担う流体の流路を内部に有する平板状のベーパーチャンバーであって、平面視上、流路が形成されている流路領域と、該流路領域を囲む周縁領域と、を有し、ＩＤとして作用する光学的識別構造体が、周縁領域に形成されているベーパーチャンバーである。

【0017】

上記発明において、ＩＤとして作用する光学的識別構造体が、下地層を介して形成されていてもよい。

【0018】

本発明は、熱輸送を担う流体の流路を内部に有する平板状のベーパーチャンバーであって、ＩＤとして作用する光学的識別構造体が、下地層を介して形成されているベーパーチャンバーである。

【0019】

本発明は、熱輸送を担う流体の流路を内部に有する平板状のベーパーチャンバーであって、ＩＤとして作用する光学的識別構造体が、最大高さ粗さＲｚが１μｍ以下の平滑面上に形成されているベーパーチャンバーである。

【0020】

本発明は、熱輸送を担う流体の流路を内部に有する平板状のベーパーチャンバーであって、ＩＤとして作用する光学的識別構造体が、内部空間がある部分と、内部空間がない部分の高低差が３０μｍ以下の平滑面上に形成されているベーパーチャンバーである。

【0021】

本発明は、熱輸送を担う流体の流路を内部に有し、ＩＤとして作用する光学的識別構造体が形成されている平板状のベーパーチャンバーの製造方法であって、ＩＤとして作用する光学的識別構造体を形成する部位を研磨する工程と、研磨した前記部位に前記ＩＤとして作用する光学的識別構造体を形成する工程と、を順に備える、ベーパーチャンバーの製造方法である。

【0022】

上記発明において、ＩＤとして作用する光学的識別構造体を形成する部位を研磨する工程が、最大高さ粗さＲｚが１μｍ以下となるように研磨する工程である、ベーパーチャンバーの製造方法であることがより好ましい。

【0023】

上記発明において、ＩＤとして作用する光学的識別構造体を形成する部位を研磨する工程が、内部空間がある部分と、内部空間がない部分の高低差が３０μｍ以下となるように研磨する工程である、ベーパーチャンバーの製造方法であることがより好ましい。

【発明の効果】

【0024】

本発明によれば、表面や裏面にＩＤとして作用する光学的識別構造体が形成されたベーパーチャンバーにおいて、光学的識別構造体を目視、カメラ、スキャナー、あるいはリーダーなどの光学的な手段で読み取る場合の読み取り性を高めることにより、安定した管理を可能とし、もって良好な品質のベーパーチャンバーを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0025】

【図1】本発明の第１実施形態によるベーパーチャンバーを示す（ａ）上面図、および（ｂ）部分断面概念図。

【図2】図１に示すベーパーチャンバーの内部構造を説明するための上面図。

【図3】図２のベーパーチャンバーのＡ－Ａ線断面図。

【図4】図２の下側金属シートの上面図。

【図5】図２の上側金属シートの下面図。

【図6】本発明の第２実施形態によるベーパーチャンバーを示す（ａ）上面図、および（ｂ）部分断面概念図。

【図7】本発明の第２実施形態の別の例によるベーパーチャンバーを示す上面図。

【図8】本発明の第３実施形態によるベーパーチャンバーを示す（ａ）上面図、および（ｂ）部分断面概念図。

【図9】本発明の第４実施形態によるベーパーチャンバーを示す（ａ）上面図、および（ｂ）部分断面概念図。

【図10】本発明の第４実施形態の別の例によるベーパーチャンバーを示す上面図。

【図11】本発明の第４実施形態によるベーパーチャンバーの製造方法を示す部分断面概念図。

【図12】従来のベーパーチャンバーを示す（ａ）上面図、および（ｂ）部分断面概念図。

【発明を実施するための形態】

【0026】

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。なお、図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺及び縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。

【0027】

（第１実施形態）
図１（ａ）に本発明の第１実施形態におけるベーパーチャンバー１００の上側（表面）から見た平面図（上面図）を示す。図１（ａ）のベーパーチャンバー１００においては、上側金属シート１２０の上面１２０ｂにＩＤとして作用する光学的識別構造体１０１が形成されている。ベーパーチャンバー１００は平面視上、流路すなわち上側蒸気流路凹部１２２（下側蒸気流路凹部１１２）が形成されている流路領域と、その流路領域を囲む周縁領域すなわち上側周縁壁１２４（下側周縁壁１１４）が存在する領域と、を有し、第１実施形態においては、光学的識別構造体１０１が、周縁領域（上側周縁壁１２４が存在する領域）に形成されている。

【0028】

図１（ａ）に示す第１実施形態のおける光学的識別構造体１０１の形成位置であれば、光学的識別構造体１０１のすべてが上側周縁壁１２４の存在する領域（周縁領域）内に収まっている。図１（ｂ）に、上側金属シート１２０の、ＩＤとして作用する光学的識別構造体１０１が形成された部分における、ベーパーチャンバー１００（上側金属シート１２０）を短手方向に切断した場合の部分断面概念図を示す。図１（ｂ）は、概念的に断面を示した図であるため、図１（ａ）の上面図とは光学的識別構造体１０１や上側蒸気流路凹部１２２が存在する位置などが異なっている。光学的識別構造体１０１のすべてが上側周縁壁１２４の存在する領域（周縁領域、すなわち上側蒸気流路凹部１２２が形成されていない領域）内に収まっているため、図１（ｂ）に概念的に示す通り、上側蒸気流路凹部１２２が形成されている影響が上側金属シート１２０の上面１２０ｂにまで及ぶことによる影響をほとんど受けることがない。

【0029】

すなわち、上側蒸気流路凹部１２２の輪郭形状が背景の模様として光学的識別構造体１０１の読み取りに悪影響を及ぼすという従来の上記問題を大幅に抑制することができる。そのため、光学的識別構造体１０１の読み取り性が向上し、確実に不良品のベーパーチャンバー１００を特定することができる。これにより不良品の流出を抑制することで、安定した品質管理が可能となり、良好な品質のベーパーチャンバー１００を提供することができる。そのため本発明のベーパーチャンバー１００が搭載された電子機器においても、放熱不良が抑制されるため、電子機器の不良を抑制することもできる。また光学的識別構造体１０１の位置により、ベーパーチャンバー１００の表裏や上下の区別が容易となり、工程上の管理が容易となる。

【0030】

［ベーパーチャンバーの構成］
ここで図２乃至図５を用いて、図１（ａ）に示すベーパーチャンバーの内部構造および、ベーパーチャンバーを構成するベーパーチャンバー用金属シートの内部構造ついて説明する。簡単のため、構造の説明においては、本発明に係るＩＤとして作用する光学的識別構造体は省略している。ベーパーチャンバー８００は、作動液８０７が封入された密封空間８０８を流路として有しており、密封空間８０８内の作動液８０７が相変化を繰り返すことにより、携帯端末やタブレット端末といったモバイル端末等で使用される中央演算処理装置（ＣＰＵ）等の発熱を伴うデバイスＤ（被冷却装置）を冷却するための機器である。ベーパーチャンバー８００は、概略的に薄い平板状の形態を有する。

【0031】

図２および図３に示すように、ベーパーチャンバー８００は平板状の形態を有しており、上面８１０ａを有する平板状の形態を有する下側金属シート８１０と、下側金属シート８１０上に設けられた平板状の形態を有する上側金属シート８２０と、を備えている。下側金属シート８１０および上側金属シート８２０は、いずれもベーパーチャンバー用金属シートに相当する。上側金属シート８２０は、下側金属シート８１０の上面８１０ａ（上側金属シート８２０の側の面）に重ね合わされた下面８２０ａ（下側金属シート８１０の側の面）を有している。下側金属シート８１０の下面８１０ｂ（とりわけ、後述する蒸発部８１１の下面）に、図２に示す例においては冷却対象物であるデバイスＤが取り付けられる。

【0032】

下側金属シート８１０と上側金属シート８２０との間には、作動液８０７が封入された密封空間８０８が形成されている。作動液８０７の例としては、純水、エタノール、メタノール、アセトン等が挙げられる。

【0033】

下側金属シート８１０と上側金属シート８２０とは、後述する拡散接合あるいはろう付けによって接合されている。図２および図３に示す形態では、下側金属シート８１０および上側金属シート８２０は、平面視でいずれも矩形状に形成されている例が示されているが、これに限られることはない。

【0034】

ここで平面視とは、ベーパーチャンバー８００がデバイスＤから熱を受ける面（下側金属シート８１０の下面８１０ｂ）、および受けた熱を放出する面（上側金属シート８２０の上面８２０ｂ）に直交する方向から見た状態であって、例えば、ベーパーチャンバー８００を上方から見た状態（図２参照）、または下方から見た状態に相当している。

【0035】

なお、ベーパーチャンバー８００がモバイル端末内に設置される場合、モバイル端末の姿勢によっては、下側金属シート８１０と上側金属シート８２０との上下関係が崩れる場合もある。しかしながら、本発明においては、デバイスＤから熱を受ける金属シートを下側金属シート８１０と称し、受けた熱を放出する金属シートを上側金属シート８２０と称して、下側金属シート８１０が下側に配置され、上側金属シート８２０が上側に配置された状態で説明する。また、表面、裏面については、平板状であるベーパーチャンバー８００の表裏面のうち、上側金属シート８２０の上面８２０ｂあるいは下側金属シート８１０の下面８１０ｂのいずれか一方を表面と称し、他方を裏面と称する。

【0036】

図４に示すように、下側金属シート８１０は、作動液８０７が蒸発して蒸気を生成する蒸発部８１１と、上面８１０ａに設けられ、平面視で矩形状に形成された下側蒸気流路凹部８１２と、を有している。このうち下側蒸気流路凹部８１２は、上述した密封空間８０８の一部を構成しており、主として、蒸発部８１１で生成された蒸気が通るように構成されている。

【0037】

蒸発部８１１は、この下側蒸気流路凹部８１２内に配置されており、下側蒸気流路凹部８１２内の蒸気は、蒸発部８１１から離れる方向に拡散して、蒸気の多くは、比較的温度の低い周縁部に輸送される。なお、蒸発部８１１は、下側金属シート８１０の下面８１０ｂに取り付けられるデバイスＤから熱を受けて、密封空間８０８内の作動液８０７が蒸発する部分である。このため、蒸発部８１１という用語は、デバイスＤに重なっている部分に限られる概念ではなく、デバイスＤに重なっていなくても作動液８０７が蒸発可能な部分をも含む概念として用いている。

【0038】

図３および図４に示すように、下側金属シート８１０の下側蒸気流路凹部８１２内に、下側蒸気流路凹部８１２の底面８１２ａ（後述）から上方（底面８１２ａに垂直な方向）に突出する複数の下側流路壁部８１３が設けられている。本例においては、下側流路壁部８１３は、ベーパーチャンバー８００の長手方向（図４における左右方向）に沿って細長状に延びている例が示されており、後述する上側流路壁部８２３の下面８２３ａに当接する上面８１３ａを含んでいる。また、各下側流路壁部８１３は等間隔に離間して、互いに平行に配置されている。このようにして、各下側流路壁部８１３の周囲を作動液８０７の蒸気が流れて、下側蒸気流路凹部８１２の周縁部に蒸気が輸送されるように構成されており、蒸気の流れが妨げられることを抑制している。また、下側流路壁部８１３は、上側金属シート８２０の対応する上側流路壁部８２３（後述）に平面視で重なるように配置されており、ベーパーチャンバー８００の機械的強度の向上を図っている。下側流路壁部８１３の幅は、例えば、１００μｍ～１５００μｍであり、互いに隣り合う下側流路壁部８１３同士の間隔は、１００μｍ～２０００μｍであることが好適である。ここで、下側流路壁部８１３の幅とは、下側流路壁部８１３の長手方向に直交する方向における下側流路壁部８１３の寸法を意味しており、例えば、図４における上下方向の寸法に相当する。また、下側流路壁部８１３の高さ（言い換えると、下側蒸気流路凹部８１２の深さ）ｈ０（図３参照）は、１００μｍ～３００μｍであることが好適である。

【0039】

図３および図４に示すように、下側金属シート８１０の周縁部には、下側周縁壁８１４が設けられている。下側周縁壁８１４は、密封空間８０８、とりわけ下側蒸気流路凹部８１２を囲むように形成されており、密封空間８０８を画定している。また、平面視で下側周縁壁８１４の四隅に、下側金属シート８１０と上側金属シート８２０との位置合わせをするための下側アライメント孔８１５がそれぞれ設けられている。

【0040】

上側金属シート８２０は、後述する下側液流路凹部８１８が設けられていない点を除けば、下側金属シート８１０と略同一の構造を有している。以下に、上側金属シート８２０の構成についてより詳細に説明する。

【0041】

図３および図５に示すように、上側金属シート８２０は、下面８２０ａに設けられた上側蒸気流路凹部８２２を有している。この上側蒸気流路凹部８２２は、密封空間８０８の一部を構成しており、主として、蒸発部８１１で生成された蒸気が通り、当該蒸気を冷却するように構成されている。より具体的には、上側蒸気流路凹部８２２内の蒸気は、蒸発部８１１から離れる方向に拡散して、蒸気の多くは、比較的温度の低い周縁部に輸送される。また、図３に示すように、上側金属シート８２０の上面８２０ｂには、モバイル端末等のハウジングの一部を構成するハウジング部材Ｈが配置される。このことにより、上側蒸気流路凹部８２２内の蒸気は、上側金属シート８２０およびハウジング部材Ｈを介して外気によって冷却される。

【0042】

図２および図５に示すように、上側金属シート８２０の上側流路壁部８２３、上側周縁壁８２４、および上側アライメント孔８２５は、下側金属シート８１０の対応する下側流路壁部８１３、下側周縁壁８１４、および下側アライメント孔８１５にそれぞれ平面視で重なるように配置されており、ベーパーチャンバー８００の機械的強度の向上を図っている。なお、上側流路壁部８２３の幅、高さは、上述した下側流路壁部８１３の幅、高さｈ０と同一であることが好適である。

【0043】

このような下側金属シート８１０と上側金属シート８２０とは、好適には拡散接合で、互いに恒久的に接合されている。より具体的には、下側周縁壁８１４と上側周縁壁８２４とが互いに接合されている。このことにより、下側金属シート８１０と上側金属シート８２０との間に、作動液８０７を密封した密封空間８０８が形成されている。また、各下側流路壁部８１３と対応する上側流路壁部８２３とが互いに接合されている。このことにより、ベーパーチャンバー８００の機械的強度を向上させている。

【0044】

また、図２に示すように、ベーパーチャンバー８００は、長手方向における一対の端部のうちの一方の端部に、密封空間８０８に作動液８０７を注入する注入部８０９を更に備えている。この注入部８０９は、下側金属シート８１０の端面から突出する下側注入突出部８１６と、上側金属シート８２０の端面から突出する上側注入突出部８２６と、を有している。このうち下側注入突出部８１６の上面に下側注入流路凹部８１７が形成され、上側注入突出部８２６の下面に上側注入流路凹部８２７が形成されている。下側注入流路凹部８１７は、下側蒸気流路凹部８１２に連通しており、上側注入流路凹部８２７は、上側蒸気流路凹部８２２に連通している。下側注入流路凹部８１７および上側注入流路凹部８２７は、下側金属シート８１０と上側金属シート８２０とが接合された際、作動液８０７の注入流路を形成する。

【0045】

図４に示すように、各下側流路壁部８１３の上面８１３ａに、液状の作動液８０７が通る下側液流路凹部８１８が設けられている。下側液流路凹部８１８は、上述した密封空間８０８の一部を構成しており、上述した下側蒸気流路凹部８１２および上側蒸気流路凹部８２２に連通している。下側液流路凹部８１８は、主として、蒸発部８１１で生成された蒸気から凝縮した作動液８０７を蒸発部８１１に輸送するように構成されている。本例においては、下側液流路凹部８１８は、下側流路壁部８１３の長手方向（図３における左右方向）に沿って、細長状に延びている例が示されており、下側流路壁部８１３の長手方向における一端から他端まで延びている。このようにして、下側蒸気流路凹部８１２の周縁部および上側蒸気流路凹部８２２の周縁部において凝縮した液状の作動液８０７を、毛細管作用によって蒸発部８１１に輸送するようになっている。１つの下側流路壁部８１３の上面８１３ａには、複数の下側液流路凹部８１８が形成されており、各下側液流路凹部８１８は、等間隔に離間して、互いに平行に配置されている。なお、図示しないが、各下側液流路凹部８１８は、蒸発部８１１においても、下側蒸気流路凹部８１２に連通している。

【0046】

下側金属シート８１０および上側金属シート８２０に用いる材料は、熱伝導率が良好な材料であれば特に限られることはないが、例えば、下側金属シート８１０および上側金属シート８２０は、銅または銅合金により形成されていることが好適である。このことにより、下側金属シート８１０および上側金属シート８２０の熱伝導率を高めることができる。このため、ベーパーチャンバー８００の熱輸送効率を高めることができる。しかし上記に限らず、例えばクラッド材（ＳＵＳ／Ｃｕ圧延積層材）やめっき材（ＳＵＳ／Ｃｕめっき、Ｎｉめっき／圧延銅）などのように、異なる金属が積層された金属材料であっても良い。これらの場合には、銅または銅合金から形成される場合に比べ、強度が高いものとすることができる。また、下側金属シート８１０と上側金属シート８２０の材質が異なっていても良い。さらにベーパーチャンバー８００の厚さＴ０は、０．１ｍｍ～１．０ｍｍである。下側金属シート８１０の厚さＴ１および上側金属シート８２０の厚さＴ２が等しい場合を示しているが、これに限られることはなく、下側金属シート８１０の厚さＴ１と上側金属シート８２０の厚さＴ２は、等しくなくてもよい。

【0047】

（第２実施形態）
ところで、光学的識別構造体１０１が、周縁領域（上側周縁壁１２４が存在する領域）に形成されている第１実施形態においても、光学的識別構造体１０１の読み取りが困難な場合がある。その原因は、ベーパーチャンバー１００の表面（上側金属シート１２０の上面１２０ｂ、あるいは下側金属シート１１０の下面１１０ｂ）を構成する金属材料の結晶粒の境界（結晶粒界）が、光学的識別構造体１０１の読み取りを阻害するためと考えられる。拡散接合時の加熱により結晶粒が大きくなることに伴い、結晶粒界も明確となり、表層では粒界による微細な凹凸が読み取りを阻害するものと考えられる。

【0048】

上記、結晶粒界を原因とする、ＩＤとして作用する光学的識別構造体２０１の読み取りが困難になる問題に対応するものが第２実施形態である。図６および図７を用いて、本発明の第２実施形態について説明する。第２実施形態においては、光学的識別構造体２０１が下地層２０４を介して上側金属シート２２０の上面２２０ｂ（あるいは下側金属シート２１０の下面２１０ｂ）に形成されている。図６（ａ）の上面図および図７に示す通り、下地層２０４は下地層形成領域２０３に形成されている。下地層形成領域２０３は平面視上、光学的識別構造体２０１が存在する領域と一致する領域、あるいは該一致する領域にその周囲の領域を加えた領域である。下地層形成領域２０３は、最小の場合は光学的識別構造体２０１が存在する領域と一致し、最大の場合は図７に示すようにベーパーチャンバー２００の表面（上側金属シート２２０の上面２２０ｂ、あるいは下側金属シート２１０の下面２１０ｂ）全体である。すなわち下地層形成領域２０３は平面視上、光学的識別構造体２０１が存在する領域と一致する領域を含んでいればよく、光学的識別構造体２０１の読み取り性や、下地層２０４を形成する負荷（工程時間、材料費用）等を鑑み適宜定めればよい。

【0049】

図６（ｂ）に、上側金属シート２２０の、ＩＤとして作用する光学的識別構造体２０１が形成された部分における、ベーパーチャンバー２００（上側金属シート２２０）を短手方向に切断した場合の部分断面概念図を示す。図６（ｂ）は、概念的に断面を示した図であるため、図６（ａ）の上面図とは光学的識別構造体２０１や上側蒸気流路凹部２２２が存在する位置などが異なっている。図６（ｂ）に概念的に示される通り、上側金属シート２２０の上面２２０ｂを構成する金属材料の結晶粒の境界（結晶粒界）に起因する微細な凹凸を覆うように下地層２０４が形成されているため、光学的識別構造体２０１が形成される下地層２０４の表面（図６（ｂ）における下地層２０４の上面）においては、上記微細な凹凸の影響はほとんどなくなっている。

【0050】

上記下地層２０４としては、光学的識別構造体２０１の読み取りの際に、上記結晶粒界が読み取りを阻害する問題を軽減する機能を有するものであれば特に限定されるものではないが、読み取りにおいて光学的識別構造体２０１との差異が大きい方が好ましい。換言すれば読み取りの際に、結晶粒界を認識しにくくなる機能を有するものであればよく、光学的識別構造体２０１との差異が大きいことが好ましい。下地層２０４の一例としては、光学的識別構造体２０１に対し明暗差の大きな単色の印刷インキを下地層形成領域２０３に一様に形成したものを挙げることができる。この場合、印刷インキによりベーパーチャンバー２００の表面が覆われるため、結晶粒界が読み取りにくくなり、すなわち結晶粒界による読み取りの阻害要因が軽減され、また印刷インキと光学的識別構造体２０１との明暗差が大きいことから、印刷インキ上に形成された光学的識別構造体２０１の読み取り性が向上する。また印刷インキは絵柄模様なく一様に（いわゆるベタ状に）形成されていることで、印刷インキが光学的識別構造体２０１の読み取り性を阻害することを防止できる。

【0051】

上記印刷インキによる下地層２０４の形成方法は、上側金属シート２２０の表面（上面２２０ｂ）あるいは下側金属シート２１０の表面（下面２１０ｂ）に形成可能な方法であれば特に限定されないが、例えばインクジェット法による印刷である。インクジェット法であれば、上側金属シート２２０あるいは下側金属シート２１０が個片化された後においても容易に印刷することができる。個片化される前のロール状態やシート状態であれば、オフセット印刷やグラビア印刷、スクリーン印刷なども可能である。上記では下地層２０４が印刷インキの場合について説明したが、これに限らない。下地層２０４として何が適切かは、光学的識別構造体２０１の読み取り方法に大きく依存する。下地層２０４を昇華転写や蒸着による方法、あるいはスパッタ法などで形成しても良く、またそれ以外の方法で形成しても良い。

【0052】

本実施例においては、光学的識別構造体２０１が下地層２０４を介してベーパーチャンバー２００の表面に形成されている。そのため光学的識別構造体２０１を読み取る際に、上記結晶粒界が読み取りを阻害する問題を軽減することができ、読み取り性が向上する。そのため、より確実に不良品のベーパーチャンバー２００を特定することができる。これにより不良品の流出を抑制することで、安定した品質管理が可能となり、良好な品質のベーパーチャンバー２００を提供することができる。そのため本発明のベーパーチャンバー２００が搭載された電子機器においても、放熱不良が抑制されるため、電子機器の不良を抑制することもできる。また光学的識別構造体２０１の位置により、ベーパーチャンバー２００の表裏や上下の区別が容易となり、工程上の管理が容易となる。

【0053】

（第３実施形態）
次に第３実施形態について説明する。上記第２実施形態で説明した下地層２０４を形成した形態においては、光学的識別構造体２０１が前記周縁領域（上側周縁壁２２４が存在する領域）に形成されることを要しない場合も多い。これは、下地層２０４により、上側蒸気流路凹部２２２の輪郭形状が背景の模様として光学的識別構造体２０１の読み取りに悪影響を及ぼすという従来の上記問題も同時に改善する場合も多いからと考えられる。

【0054】

図８（ａ）および（ｂ）に示す通り、第３実施形態においては、ＩＤとして作用する光学的識別構造体３０１が下地層３０４を介して形成されていれば、周縁領域に形成されていなくても構わない。図８（ａ）は上面図であり、図８（ｂ）は上側金属シート３２０の、ＩＤとして作用する光学的識別構造体３０１が形成された部分における、ベーパーチャンバー３００（上側金属シート３２０）を短手方向に切断した場合の部分断面概念図である。図８（ｂ）は、概念的に断面を示した図であるため、図８（ａ）の上面図とは光学的識別構造体３０１や上側蒸気流路凹部３２２が存在する位置などが異なっている。図８（ｂ）に概念的に示される通り、特に下地層３０４の層厚が厚い場合には、ベーパーチャンバー３００の表面（上側金属シート３２０の上面３２０ｂ、あるいは下側金属シート３１０の下面３１０ｂ）において上側蒸気流路凹部３２２（下側蒸気流路凹部３１２）の輪郭形状の凹凸がある場合であっても、下地層３０４の表面（下地層３０４がベーパーチャンバー３００の表面（上側金属シート３２０の上面３２０ｂ）と接する面とは反対側の面）においては上記上側蒸気流路凹部３２２（下側蒸気流路凹部３１２）の輪郭形状の凹凸がほとんど現れなくなる。すなわち第３実施形態においては、下地層３０４が、光学的識別構造体３０１が形成される対象表面を平坦化する作用も有している。

【0055】

第３実施形態においても第２実施形態と同様に、下地層形成領域３０３は平面視上、光学的識別構造体３０１が存在する領域と一致する領域を含んでいればよく、図７に示すようにベーパーチャンバー３００の表面（上側金属シート３２０の上面３２０ｂ、あるいは下側金属シート３１０の下面３１０ｂ）全体に形成しても構わない。また下地層３０４の形成方法についても第２実施形態において例示したものと同様である。

【0056】

第３実施形態においても第２実施形態で説明した上記各効果を有するものである。加えて第３実施形態においては、光学的識別構造体３０１が周縁領域に形成されることを要しないため、光学的識別構造体３０１の形成位置の自由度が向上する。そのため、光学的識別構造体３０１を形成する装置や、それを読み取る装置について、設置位置等の制約を少なくすることができ、すなわちそれらの装置の選定や設置が容易となるという効果も奏する。

【0057】

（第４実施形態）
図９および図１０を用いて、本発明の第４実施形態について説明する。第４実施形態においては、ＩＤとして作用する光学的識別構造体４０１がベーパーチャンバー４００の表面（上側金属シート４２０の上面４２０ｂ、あるいは下側金属シート４１０の下面４１０ｂ）における内部空間がある部分と、内部空間がない部分の高低差が３０μｍ以下の平滑面上に形成されている。図９（ａ）の上面図および図１０に示す通り、平滑面は平滑面形成領域４０５に形成されている。平滑面形成領域４０５は平面視上、光学的識別構造体４０１が存在する領域と一致する領域、あるいは該一致する領域にその周囲の領域を加えた領域である。平滑面形成領域４０５は、最小の場合は光学的識別構造体４０１が存在する領域と一致し、また最大の場合は図１０に示すようにベーパーチャンバー４００の表面（上側金属シート４２０の上面４２０ｂ、あるいは下側金属シート４１０の下面４１０ｂ）全体である。すなわち平滑面形成領域４０５は平面視上、光学的識別構造体４０１が存在する領域と一致する領域を含んでいればよく、光学的識別構造体４０１の読み取り性や、平滑面を形成する負荷（工程時間）等を鑑み適宜定めればよい。このとき、最大高さ粗さＲｚが１μｍ以下であることが望ましい。

【0058】

図９（ｂ）に、上側金属シート４２０の、ＩＤとして作用する光学的識別構造体４０１が形成された部分における、ベーパーチャンバー４００（上側金属シート４２０）を短手方向に切断した場合の部分断面概念図を示す。図９（ｂ）は、概念的に断面を示した図であるため、図９（ａ）の上面図とは光学的識別構造体４０１や上側蒸気流路凹部４２２が存在する位置などが異なっている。図９（ｂ）に概念的に示される通り、上側金属シート４２０の上面４２０ｂを構成する金属材料の結晶粒の境界（結晶粒界）に起因する微細な凹凸、および上側蒸気流路凹部４２２が形成されている影響が上側金属シート４２０の上面４２０ｂにまで及ぶことによる影響、は平滑面の形成により大幅に軽減されている。すなわち平滑面が形成されることにより、最大高さ粗さＲｚが１μｍ以下となっており、また内部空間がある部分と、内部空間がない部分の高低差が３０μｍ以下となっている。

【0059】

平滑面形成領域４０５に形成された上記のような平滑面は例えば、上側金属シート４２０の表面（上面４２０ｂ）あるいは下側金属シート４１０の表面（下面４１０ｂ）を研磨することにより形成することができる。研磨の方法としては、化学研磨、電解研磨、機械研磨のいずれも適用することができる。研磨しない領域をレジストなどでマスクし、化学研磨あるいは電解研磨を適用することで平滑面形成領域４０５のみを研磨することが可能である。また機械研磨においては、エミリーペーパーで研磨後、アルミナ砥粒等によるバフ研磨で砥粒の粒径を変化させて仕上げていってもよい。各研磨の方法において、最大高さ粗さＲｚが１μｍ以下となり、また内部空間がある部分と、内部空間がない部分の高低差が３０μｍ以下となるように研磨条件を適宜定めれば良い。

【0060】

内部空間がある部分と、内部空間がない部分の高低差については、次のようにして確認することができる。レーザー顕微鏡（株式会社キーエンス、ＶＫ－Ｘ２５０）を用い、対物レンズ２０倍としてプロファイルを得て、内部空間のない前記周縁領域等と内部空間がある部分との高低差を計測する。

【0061】

また、平滑面形成領域４０５の最大高さ粗さＲｚは「ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１」に基づき測定することができる。上側金属シート４２０の表面（上面４２０ｂ）に平滑面形成領域４０５を形成した場合における測定の一例を以下に示す。レーザー顕微鏡（株式会社キーエンス、ＶＫ－Ｘ２５０）を用い、測定方向は、平面視上ベーパーチャンバー４００の長手方向（図９における左右方向）に沿って細長状に延びている上側蒸気流路凹部４２２および上側流路壁部４２３と直交する方向（平面視上ベーパーチャンバー４００の短手方向（図９における上下方向））とすることが好ましい。レーザー波長４０８ｎｍ、対物レンズ１００倍あるいは１５０倍とし、その他のパラメーターについても適切に設定し、平滑面形成領域４０５の最大高さ粗さＲｚを測定することができる。

【0062】

第４実施形態においては、光学的識別構造体４０１がベーパーチャンバー４００の表面（上側金属シート４２０の上面４２０ｂ、あるいは下側金属シート４１０の下面４１０ｂ）における内部空間がある部分と、内部空間がない部分の高低差が３０μｍ以下の平滑面上に形成されているため、上側蒸気流路凹部４２２の輪郭形状が背景の模様として光学的識別構造体４０１の読み取りに悪影響を及ぼすという上記問題を大幅に抑制することができる。そのため第１実施形態のように光学的識別構造体４０１を、周縁領域（上側周縁壁４２４が存在する領域）に形成する必要はなく、第３実施形態と同様に任意の位置に形成することができる。

【0063】

またレーザー印字方式で印字領域の一辺が１ｍｍ以上３ｍｍ以下の場合は、最大高さ粗さＲｚが１μｍ以下の平滑面にすることができる。この研磨により、研磨前の表面に比べ結晶粒界による微細な凹みを小さくすることができ、結晶粒界が背景の模様として光学的識別構造体４０１の読み取りに悪影響を及ぼすという上記問題を大幅に抑制することができる。

【0064】

上記効果により、第４実施形態においても、確実に不良品のベーパーチャンバー４００を特定することができる。これにより不良品の流出を抑制することで、安定した品質管理が可能となり、良好な品質のベーパーチャンバー４００を提供することができる。そのため本発明のベーパーチャンバー４００が搭載された電子機器においても、放熱不良が抑制されるため、電子機器の不良を抑制することもできる。また光学的識別構造体４０１の位置により、ベーパーチャンバー４００の表裏や上下の区別が容易となり、工程上の管理が容易となる。

【0065】

第４実施形態における平滑面においては、内部空間がある部分と、内部空間がない部分の高低差が３０μｍ以下であることと、最大高さ粗さＲｚが１μｍ以下であることが、共に満たされることが好ましい。しかし、いずれか一方のみを満たすだけでも構わない。すなわち、内部空間がある部分と、内部空間がない部分の高低差が３０μｍ以下であれば、上側蒸気流路凹部４２２の輪郭形状による悪影響を大幅に抑制できるという上記効果を得ることができ、また最大高さ粗さＲｚが１μｍ以下であれば、結晶粒界による悪影響を大幅に抑制できるという上記効果を得ることができる。

【0066】

次に、第４実施形態におけるベーパーチャンバー４００の製造方法の一例について概略を説明する。第４実施形態におけるベーパーチャンバー４００の製造方法は、ＩＤとして作用する光学的識別構造体４０１を形成する部位を研磨する工程と、研磨した部位にＩＤとして作用する光学的識別構造体４０１を形成する工程とを少なくともこの順に備えるものである。図１１に、第４実施形態におけるベーパーチャンバー４００の製造方法の一例のうち、第４実施形態において特徴的な工程について部分断面概念図を示す。図１１は、上側金属シート４２０の、ＩＤとして作用する光学的識別構造体４０１が形成された部分における、ベーパーチャンバー４００（上側金属シート４２０）を短手方向に切断した場合の部分断面概念図であり、実際には下側金属シート４１０と接合されているが、上側金属シート４２０のみを示している。

【0067】

一例として、まず下側蒸気流路凹部４１２および下側液流路凹部４１８が形成された下側金属シート４１０、および上側蒸気流路凹部４２２が形成された上側金属シート４２０を準備する。

【0068】

この場合、まず、金属材料シートＭの上面に、レジスト膜Ｒが形成される。レジスト膜Ｒには、電界によって付着可能な電着レジスト材料を好適に使用することができるが、金属材料シートＭにレジスト膜Ｒを形成することができれば、液状のレジスト材料など他の材料を用いてもよい。

【0069】

続いて、レジスト膜Ｒがパターン化される。下側金属シート４１０の場合には、レジスト膜Ｒに、フォトリソグラフィー技術によって、下側蒸気流路凹部４１２に対応するレジスト開口と、下側液流路凹部４１８に対応するレジスト開口とが形成される。

【0070】

続いてハーフエッチング工程として、レジスト膜Ｒの開口部分がハーフエッチングされて、下側蒸気流路凹部４１２、下側流路壁部４１３および下側周縁壁４１４が形成される。この際、下側流路壁部４１３の上面４１３ａに下側液流路凹部４１８が形成される。また、図２および図４に示す下側注入流路凹部４１７も同時に形成され、また、図２に示すような外形輪郭形状を有するように金属材料シートＭが上面および下面からエッチングされて、所定の外形輪郭形状が得られる。なお、ハーフエッチングとは、材料を貫通しないような凹部を形成するためのエッチングを意味している。このため、ハーフエッチングにより形成される凹部の深さは、下側金属シート４１０の厚さの半分であることには限られない。エッチング液には、例えば、塩化第二鉄水溶液等の塩化鉄系エッチング液、または塩化銅水溶液等の塩化銅系エッチング液を用いることができる。

【0071】

その後、レジスト膜Ｒが除去され、下側蒸気流路凹部４１２、下側流路壁部４１３、下側周縁壁４１４および下側液流路凹部４１８が形成された下側金属シート４１０が得られる。

【0072】

一方、下側金属シート４１０と同様にして、上側金属シート４２０が下面４２０ａからハーフエッチングされて、上側蒸気流路凹部４２２、上側流路壁部４２３および上側周縁壁４２４が形成される。このようにして、上述した上側金属シート４２０が得られる。

【0073】

次に下側金属シート４１０と上側金属シート４２０を接合する。この際、下側アライメント孔４１５と上側アライメント孔４２５とを位置合わせを行った上で仮止めし、その状態で加圧および加熱することで拡散接合によって恒久的に接合される。

【0074】

この場合、まず、下側金属シート４１０の下側アライメント孔４１５（図２および図４参照）と上側金属シート４２０の上側アライメント孔４２５（図２および図５参照）とを利用して、下側金属シート４１０と上側金属シート４２０とが位置合わせされる。続いて、下側金属シート４１０と上側金属シート４２０とが仮止めされる。仮止めの方法としては、特に限られることはないが、例えば、下側金属シート４１０と上側金属シート４２０とに対して抵抗溶接を行うことによって下側金属シート４１０と上側金属シート４２０とを仮止めしてもよい。このようにして、下側金属シート４１０と上側金属シート４２０とが、位置合わせされた状態で仮止めされる。

【0075】

仮止めの後、下側金属シート４１０と上側金属シート４２０とが、拡散接合によって恒久的に接合される（図１１（ａ））。拡散接合とは、接合する下側金属シート４１０と上側金属シート４２０とを密着させ、真空や不活性ガス中などの制御された雰囲気中で、各金属シート４１０、４２０を密着させる方向に加圧するとともに加熱して、接合面に生じる原子の拡散を利用して接合する方法である。拡散接合は、下側金属シート４１０および上側金属シート４２０の材料を融点に近い温度まで加熱するが、融点よりは低いため、各金属シート４１０、４２０が溶融して変形することを回避できる。

【0076】

次に、光学的識別構造体４０１を形成する部位を研磨する。すなわち、上側金属シート４２０の上面４２０ｂ、下側金属シート４１０の下面４１０ｂのいずれか一面あるいは両面の全面について、その内部空間がある部分と、内部空間がない部分の高低差が３０μｍ以下、最大高さ粗さＲｚが１μｍ以下となるように化学研磨を行う。全面について化学研磨を行った例を図１１（ｂ）に示すが、平滑面形成領域４０５が全面ではない場合には、平滑面形成領域４０５ではない領域をレジストなどでマスクした上で化学研磨を行えばよい。化学研磨液は、硝酸－硫酸－塩酸系研磨液（通称キリンス液）、過酸化水素－硫酸系研磨液、およびリン酸系研磨液などから適宜選択すれば良い。また内部空間がある部分と、内部空間がない部分の高低差が３０μｍ以下、最大高さ粗さＲｚが１μｍ以下となるように処理時間や液温を適切に設定する。

【0077】

次に、研磨した上記部位に光学的識別構造体４０１を形成する。すなわち、光学的識別構造体４０１を平滑面形成領域４０５の一部に形成する（図１１（ｃ））。本発明における光学的識別構造体４０１は、数字、文字、記号、ＱＲコードのような二次元コード、あるいはバーコードを、光学的に読み取ることができる構造体として形成したものであって、カメラ、スキャナー、あるいはリーダーなどの機器や、目視により光学的に読み取られるものである。光学的識別構造体４０１はインクジェット方式などによる印字やレーザー印字、刻印などにより形成されていることが多いが、光学的に読み取り可能に形成されていれば形成方法はこれらに限らない。一例として、ＱＲコードをインクジェットプリンタで印刷したものである。形成された上記光学的識別構造体４０１が有するＩＤ情報は個別に異なっている。ＩＤ情報は、ロット管理や、熱輸送を担う流体を注入する際の気圧条件や、該流体の注入量に対する検査結果と、形成途中のベーパーチャンバーの各々を関連付けることにより明確に区別するために用いられる。

【0078】

次に密封空間４０８が減圧され、その後に、下側注入流路凹部４１７と上側注入流路凹部４２７とにより形成された注入流路から作動液４０７が密封空間４０８に注入される。作動液４０７は一例として純水である。その後、例えば、注入部４０９にレーザーを照射し、注入部４０９を部分的に溶融させて注入流路を封止する。これによりベーパーチャンバー４００が完成する。

【0079】

上記工程において光学的識別構造体４０１を活用する一例として、上記作動液４０７を注入し、封止する工程において、光学的識別構造体４０１（ＱＲコード）をスキャナーで読み取り、各ベーパーチャンバー４００において変動する恐れのある作動液４０７の注入量や封止時の密封空間４０８の圧力の実測値を、各ベーパーチャンバー４００と関連付けている。上記、スキャナーで光学的識別構造体４０１（ＱＲコード）を読み取る場合において、光学的識別構造体４０１が形成された面は、その全面が研磨され、平滑面となっている。

【0080】

そして平滑面においては、内部空間がある部分と、内部空間がない部分の高低差が３０μｍ以下となっている。そのため上側蒸気流路凹部４２２の輪郭形状が背景の模様として光学的識別構造体４０１の読み取りに悪影響を及ぼすという上記問題を大幅に抑制することができるという効果を奏する。

【0081】

また、平滑面においては、最大高さ粗さＲｚが１μｍ以下となっている。そのため結晶粒界が背景の模様として光学的識別構造体４０１の読み取りに悪影響を及ぼすという上記問題についても大幅に抑制することができるという効果を奏する。

【0082】

上記工程例においても、上記各効果により、確実に不良品のベーパーチャンバー４００を特定することができる。これにより不良品の流出を抑制することで、安定した品質管理が可能となり、良好な品質のベーパーチャンバー４００を提供することができる。そのため本発明のベーパーチャンバー４００が搭載された電子機器においても、放熱不良が抑制されるため、電子機器の不良を抑制することもできる。また光学的識別構造体４０１の位置により、ベーパーチャンバー４００の表裏や上下の区別が容易となり、工程上の管理が容易となる。

【0083】

以上各実施形態を説明してきたが、本発明は上記各実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。

【符号の説明】

【0084】

１００、２００、３００、４００、８００、９００ ベーパーチャンバー
１０１、２０１、３０１、４０１、９０１ 光学的識別構造体
２０３、３０３ 下地層形成領域
２０４、３０４ 下地層
４０５ 平滑面形成領域
４０７、８０７ 作動液
４０８、８０８ 密封空間
４０９、８０９ 注入部
１１０、２１０、３１０、４１０、８１０、９１０ 下側金属シート
８１０ａ 上面
１１０ｂ、２１０ｂ、３１０ｂ、４１０ｂ、８１０ｂ、９１０ｂ 下面
８１１ 蒸発部
１１２、３１２、４１２、８１２ 下側蒸気流路凹部
８１２ａ 底面
４１３、８１３ 下側流路壁部
４１３ａ、８１３ａ 上面
１１４、４１４、８１４ 下側周縁壁
４１５、８１５ 下側アライメント孔
８１６ 下側注入突出部
４１７、８１７ 下側注入流路凹部
４１８、８１８ 下側液流路凹部
１２０、２２０、３２０、４２０、８２０、９２０ 上側金属シート
４２０ａ、８２０ａ 下面
１２０ｂ、２２０ｂ、３２０ｂ、４２０ｂ、８２０ｂ、９２０ｂ 上面
１２２、２２２、３２２、４２２、８２２、９２２ 上側蒸気流路凹部
４２３、８２３、９２３ 上側流路壁部
８２３ａ 下面
１２４、２２４、４２４、８２４、９２４ 上側周縁壁
４２５、８２５ 上側アライメント孔
８２６ 上側注入突出部
４２７、８２７ 上側注入流路凹部
Ｄ デバイス
Ｈ ハウジング部材
Ｍ 金属材料シート
Ｒ レジスト膜

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】