特許7770108塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明の名称　塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

出願人　住友化学株式会社　（識別番号 2093）

　　　　特許公開件数ランキング 37 位（584件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 58 位（398件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7770108

公報発行日　2025年11月14

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7770108

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