特許7772806半導体用の膜を形成するための組成物、積層体及び基板積層体

発明の名称　半導体用の膜を形成するための組成物、積層体及び基板積層体

出願人　三井化学株式会社　（識別番号 5887）

　　　　特許公開件数ランキング 87 位（332件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 108 位（246件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7772806

公報発行日　2025年11月18

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7772806

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