(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】
(45)【発行日】
(54)【発明の名称】液体吐出装置、基板処理装置及び物品の製造方法
(51)【国際特許分類】
【ＦＩ】
【請求項の数】
18
(21)【出願番号】
(22)【出願日】
(65)【公開番号】
(43)【公開日】
【審査請求日】
(73)【特許権者】
【識別番号】000001007
【氏名又は名称】キヤノン株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110003281
【氏名又は名称】弁理士法人大塚国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】中山 周吾
(72)【発明者】
【氏名】西川原 朋史
(72)【発明者】
【氏名】飯村 晶子
(72)【発明者】
【氏名】九里 真弘
(72)【発明者】
【氏名】山本 哲也
【審査官】塩治 雅也
(56)【参考文献】
【文献】特開平０１－０１１６６８（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００７－３１３４８１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０２１－０９５５０５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００４－３３５５７１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０２１－１８１０５６（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｂ０５Ｃ １５／００
Ｂ０５Ｃ ５／００
Ｂ０５Ｃ １１／００
Ｂ４１Ｊ ２／０１
Ｂ４１Ｊ ２／１７
(57)【特許請求の範囲】
【請求項】
液体を吐出するヘッドと、前記ヘッドを収容するチャンバと、
前記チャンバの内部の気体を循環させる循環系と、
前記気体を前記チャンバの外部に排出するように作動する排気系と、
前記循環系に設けられ、前記気体に含まれる除去対象物を除去するフィルタと、
前記気体に含まれる、前記除去対象物とは異なる検出対象物を検出することで、前記除去対象物を間接的に検出する検出部と、
前記検出部で検出される前記検出対象物の濃度が閾値以上である場合に、前記排気系を作動させる制御部と、
前記チャンバの外部の気体を、前記チャンバの下部に設けられた給気口を介して前記チャンバの内部に吸入するように作動する給気系と、を有し、
前記排気系は、前記チャンバの内部の気体を、排気口を介して前記チャンバの外部に排出するように作動し、
前記給気系は、前記給気口を介して前記チャンバの内部に吸入する気体を前記チャンバの内部に吹き出す気流発生部を含み、
前記気流発生部は、前記チャンバの底面近傍の気体を前記排気口に向かって押し流す気流を形成することを特徴とする液体吐出装置。
【請求項】
前記除去対象物及び前記検出対象物は、前記ヘッドから前記液体を吐出するときに、当該液体から前記チャンバの内部に飛散することを特徴とする請求項１に記載の液体吐出装置。
【請求項】
前記制御部は、前記排気系によって前記チャンバの外部に排出される気体の流量と、前記給気系によって前記チャンバの内部に吸入される気体の流量とが等しくなるように、前記排気系及び前記給気系を作動させることを特徴とする請求項１に記載の液体吐出装置。
【請求項】
前記制御部は、前記検出部で検出される前記検出対象物の濃度にかかわらず、前記排気系を作動させるためのインタフェースを含むことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出装置。
【請求項】
前記ヘッドから吐出される前記液体が配置される基板を保持するステージと、前記ステージの位置を計測する干渉計と、
前記検出部で検出される前記検出対象物の濃度に基づいて、前記干渉計で計測される前記ステージの位置を補正する補正部と、
を更に有することを特徴とする請求項１に記載の液体吐出装置。
【請求項】
前記補正部は、前記検出部で検出される前記検出対象物の濃度に対応する、前記干渉計で計測される前記ステージの位置の変化量を推定し、前記変化量を用いて前記干渉計で計測される前記ステージの位置を補正することを特徴とする請求項５に記載の液体吐出装置。
【請求項】
前記制御部は、前記検出部で検出される前記検出対象物の濃度が高くなるにつれて、前記循環系によって循環される気体の流量が増加するように、前記循環系を制御することを特徴とする請求項１に記載の液体吐出装置。
【請求項】
前記フィルタは、前記循環系によって循環される気体の流路において、前記検出部よりも前段に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の液体吐出装置。
【請求項】
前記検出部は、前記チャンバの内部の第１箇所における前記検出対象物を検出する第１検出器と、前記第１箇所における前記検出対象物を検出する第２検出器と、を含み、
前記第１検出器及び前記第２検出器を用いて、前記検出対象物の濃度が正しく検出されていることを監視することを特徴とする請求項１に記載の液体吐出装置。
【請求項】
前記制御部は、前記第１検出器で検出される前記検出対象物の濃度と、前記第２検出器で検出される前記検出対象物の濃度とが異なる場合に、前記排気系を作動させることを特徴とする請求項９に記載の液体吐出装置。
【請求項】
前記制御部は、前記排気系によって前記チャンバの外部に排出される気体の流速が１ｍ／ｓｅｃ以下となるように、前記排気系を作動させることを特徴とする請求項１に記載の液体吐出装置。
【請求項】
前記制御部は、前記循環系によって循環される気体の流速が１ｍ／ｓｅｃ以下となるように、前記循環系を制御することを特徴とする請求項１１に記載の液体吐出装置。
【請求項】
前記制御部は、前記検出部で検出される前記検出対象物の濃度が予め定められた濃度以上となる場合に、前記循環系及び前記排気系を除いた前記液体吐出装置の動作を停止させることを特徴とする請求項１に記載の液体吐出装置。
【請求項】
前記検出対象物は、前記液体に含まれる有機成分を含み、前記除去対象物は、前記液体に含まれる量子ドット材料を含むことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出装置。
【請求項】
前記量子ドット材料は、重金属物質を含むことを特徴とする請求項１４に記載の液体吐出装置。
【請求項】
前記量子ドット材料は、カドミウム、インジウム又は鉛を含むことを特徴とする請求項１４に記載の液体吐出装置。
【請求項】
基板を処理する基板処理装置であって、前記基板を保持するステージと、
前記ステージに保持された前記基板に対して液体を吐出する請求項１乃至１６のうちいずれか１項に記載の液体吐出装置と、
を有することを特徴とする基板処理装置。
【請求項】
請求項１７に記載の基板処理装置を用いて基板に液体を吐出する工程と、前記液体が吐出された前記基板を加工する工程と、
加工された前記基板から物品を製造する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【】
本発明は、液体吐出装置、基板処理装置及び物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【】
近年、種々の機能素子を製造する際に、インクジェット装置（液体吐出装置）を用いて機能素子の材料を基板上に付与してパターンを形成すること（パターニング）が試みられている。インクジェット装置を用いたパターニングは、オンデマンドパターニングが可能であるため材料の使用効率が高いこと、非真空プロセスであるため製造装置が比較的小型になること、材料を大面積に高速に付与できることなどのメリットを有している。
【】
そこで、表示装置の製造過程にインクジェット装置を適用することが提案されている（特許文献１参照）。表示装置では、近年、様々な表示方式が提案されており、特に、有機ＥＬ素子を用いた表示装置の開発が進められている。有機ＥＬ素子の材料は高価であるため、材料の使用効率が高く、材料を大面積に高速に付与できるインクジェット装置は、有機ＥＬ素子の製造に好適である。
【】
また、最近では、量子ドット材料を含む色変換部や量子ドットを発光素子として備えた表示装置が注目されており、例えば、インクジェット装置を用いて、量子ドット材料を含む色変換部を製造する技術も提案されている（特許文献２参照）。従来のカラーフィルタを用いた色変換部は、特定の波長以外の波長の光をカットすることで、特定の色を抽出している。従来のカラーフィルタに代えて、量子ドットを色変換部に用いることで、光波長を直接変換することが可能となるため、非常に高い光変換効率を実現することができると期待されている。
【】
量子ドットの主構成物としては、カドミウム、インジウム、鉛などが知られているが、これらの重金属物質は、人体に対して毒性を有する物質（有害物質）であるため、人体への曝露を防ぐ必要がある。ここで、インクジェット装置を用いて量子ドット材料を付与することを考えると、インクジェットの特性上、ミストと呼ばれる量子ドット材料を含む霧状の小液滴が飛散するため、厳重な曝露対策が必要となる。
【】
インクジェット装置における曝露対策としては、インクジェット装置をチャンバと呼ばれる障壁で隔離し（区切り）、チャンバの内部の空気を密閉する技術が提案されている（特許文献３参照）。また、特許文献３には、チャンバの内部を常に清浄に維持するため、チャンバの内部の空気をブロワ（送風機）で循環させるとともに、循環経路にフィルタ（量子ドット材料などを除去するフィルタ）を配置してチャンバの内部の空気を除害することも提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【】
【文献】特開２０２１－１２８１５号公報
【文献】特開２０２０－１９２６９２号公報
【文献】特開２０１８－２０６７７７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【】
しかしながら、フィルタは、一般的に、経年劣化で除去性能が低下するが、それを検出できずに装置運用を継続すると、チャンバの内部にミストが充満し、装置汚染を招いてしまう可能性がある。特に、量子ドット材料の付与にインクジェット装置を用いることを考えた場合、量子ドット材料を検出可能な検出装置が一般的に流通していない。また、量子ドット材料を検出可能な検出装置を独自に製造することも考えられるが、研究開発費などが嵩み、装置コストの増加を招いてしまう。このように、チャンバの内部に飛散する量子ドットを含むミストによる装置汚染を検出することは現実的ではなく、極めて困難である。
【】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、ヘッドから吐出される液体に起因する装置汚染を抑制するのに有利な液体吐出装置を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての液体吐出装置は、液体を吐出するヘッドと、前記ヘッドを収容するチャンバと、前記チャンバの内部の気体を循環させる循環系と、前記気体を前記チャンバの外部に排出するように作動する排気系と、前記循環系に設けられ、前記気体に含まれる除去対象物を除去するフィルタと、前記気体に含まれる、前記除去対象物とは異なる検出対象物を検出することで、前記除去対象物を間接的に検出する検出部と、前記検出部で検出される前記検出対象物の濃度が閾値以上である場合に、前記排気系を作動させる制御部と、前記チャンバの外部の気体を、前記チャンバの下部に設けられた給気口を介して前記チャンバの内部に吸入するように作動する給気系と、を有し、前記排気系は、前記チャンバの内部の気体を、排気口を介して前記チャンバの外部に排出するように作動し、前記給気系は、前記給気口を介して前記チャンバの内部に吸入する気体を前記チャンバの内部に吹き出す気流発生部を含み、前記気流発生部は、前記チャンバの底面近傍の気体を前記排気口に向かって押し流す気流を形成することを特徴とする。
【】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【】
本発明によれば、例えば、ヘッドから吐出される液体に起因する装置汚染を抑制するのに有利な液体吐出装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【】
【図】本発明の一側面としての液体吐出装置の構成を示す概略図である。
【図】液体吐出装置の動作シーケンスを説明するためのフローチャートである。
【図】機能素子の材料が配置された基板を模式的に示す図である。
【図】第１実施形態における液体吐出装置の構成を示す図である。
【図】第２実施形態における液体吐出装置の構成を示す図である。
【図】第３実施形態における液体吐出装置の構成を示す図である。
【図】第４実施形態における液体吐出装置の構成を示す図である。
【図】第６実施形態における液体吐出装置の構成を示す図である。
【図】第７実施形態における液体吐出装置の構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【】
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。更に、添付図面においては、同一もしくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
【】
図１は、本発明の一側面としての液体吐出装置１の構成を示す概略図である。液体吐出装置１は、例えば、インクなどの液体（吐出液）を吐出するインクジェット装置として具現化される。液体吐出装置１は、ディスプレイ用パネルや半導体用の基板を処理する基板処理装置としての機能も有し、本実施形態では、基板に対して液体を吐出して基板上に液体のパターンや膜を形成する。なお、本実施形態において、「インク」とは、基板上にパターンや膜を形成するために用いられる液体を意味する。また、インクの成分については、特に限定されるものではないが、例えば、有機膜を形成するための溶質と溶媒とを含む液体を用いることができる。
【】
本明細書及び添付図面では、液体吐出装置１から吐出液を吐出する吐出方向と平行な方向をＺ軸とし、Ｚ軸に垂直な平面の方向であり、互いに垂直な２つの方向をＸ軸及びＹ軸とするＸＹＺ座標系で方向を示す。また、ＸＹＺ座標系におけるＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸のそれぞれに平行な方向をＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向とし、基板が配置される面と平行な面をＸＹ平面とする。
【】
液体吐出装置１は、ディスプレイ用パネルなどの基板２を保持（固定）して駆動する基板ステージ３を有する。基板２は、物品として製造する対象製品に応じて、ガラス基板やプラスチック基板などから適宜選択される。基板２は、典型的には、板状の部材であるが、基板として機能するものであれば、特定の形態に限定されるものではない。例えば、基板２は、変形可能なフィルムであってもよいし、円形状の基板であってもよい。基板２は、液体吐出装置１からインク４が供給されて多数の機能素子（表示画素）を形成（配列）するための素子エリア２０１と、液体吐出装置１から吐出されるインク４の状態を評価するためにインク４が試験的に吐出される評価エリア２０２と、を含む。
【】
液体吐出装置１は、インク４（の液滴）を基板２の所定位置に向けて吐出する吐出ヘッド５と、吐出ヘッド５にインク４を供給するインク供給系６と、インク４を貯蔵するインクタンク７と、を有する。また、液体吐出装置１は、吐出ヘッド５（のノズル）に対してクリーニング処理などを施して吐出ヘッド５の吐出特性を回復させる回復ユニット８と、制御部１１と、を有する。
【】
吐出ヘッド５は、インク４（の液滴）を吐出するための複数のノズル（吐出素子）を含む。吐出ヘッド５は、例えば、Ｘ方向及びＹ方向のそれぞれに複数配列されている。吐出ヘッド５のそれぞれについて、インク４の吐出を個別に制御することで、基板上の素子エリア２０１に目標分布でインク４を配置（塗布）することができる。
【】
基板２が基板ステージ３に保持される際には、基板２の置き誤差（基板ステージ３に対する基板２の位置ずれ）が発生する可能性がある。また、基板２が様々な製造プロセスを経ることで、基板２には、Ｘ方向やＹ方向に歪みが発生している可能性がある。そこで、液体吐出装置１は、基板２の位置、及び、基板２の歪みを計測するためのアライメントスコープ９を有する。
【】
また、基板ステージ３に保持される基板２には、製造上、厚さのばらつきがある。従って、基板ステージ３をＹ方向に駆動（走査）しながら吐出ヘッド５からインク４を吐出すると、基板２の厚さのばらつきに起因して、基板２に対するインク４（の液滴）の着弾位置にばらつきが発生する。そこで、液体吐出装置１は、基板２のＺ方向の位置（高さ）を計測する高さセンサ１０を有する。
【】
制御部１１は、例えば、ＣＰＵやメモリなどを含むコンピュータ（情報処理装置）で構成され、メモリに格納されたプログラムに従って液体吐出装置１の各部を統括的に制御して液体吐出装置１を動作させる。
【】
図２を参照して、液体吐出装置１の動作シーケンスを説明する。かかる動作は、上述したように、制御部１１が液体吐出装置１の各部を統括的に制御することで行われる。
【】
Ｓ２０２において、制御部１１は、基板搬送機構（不図示）を介して、液体吐出装置１に基板２を搬入する。液体吐出装置１に搬入された基板２は、基板ステージ３に保持される。
【】
Ｓ２０４において、制御部１１は、吐出ヘッド５の吐出特性を回復させる必要があるかどうかを判定する、即ち、吐出ヘッド５の回復判定を行う。吐出ヘッド５の回復判定は、基本的には、吐出ヘッド５からインク４を吐出する前に行われる。吐出ヘッド５の吐出特性を回復させる必要があると判定された場合（ＹＥＳ）には、Ｓ２０６に移行し、吐出ヘッド５の吐出特性を回復させる必要がないと判定された場合（ＮＯ）には、Ｓ２０８に移行する。
【】
Ｓ２０６において、制御部１１は、回復ユニット８を介して、吐出ヘッド５の吐出特性を回復させる回復処理（例えば、吐出ヘッド５に対するクリーニング処理など）を行う。
【】
Ｓ２０８において、制御部１１は、基板ステージ３及びアライメントスコープ９を介して、基板２のアライメント計測を行う。Ｓ２１０において、制御部１１は、基板ステージ３及び高さセンサ１０を介して、基板２の高さ計測を行う。Ｓ２０８のアライメント計測やＳ２１０の高さ計測で得られた基板２の位置、歪み及び高さに関する基板情報は、例えば、制御部１１（のメモリ）に格納される。制御部１１は、Ｓ２０８のアライメント計測やＳ２１０の高さ計測で得られた基板情報と、基板２に形成される素子配列や素子の大きさなどの情報を含む素子データとに基づいて、吐出ヘッド５（インク４の吐出）を制御するための吐出制御情報を生成する。吐出制御情報には、基板２の素子エリア２０１や評価エリア２０２におけるインク４の目標分布を示す情報が含まれる。
【】
なお、Ｓ２０８のアライメント計測、及び、Ｓ２１０の高さ計測の順序は、逆であってもよい。また、Ｓ２０８のアライメント計測やＳ２１０の高さ計測は、Ｓ２０６の回復処理と並行して行うことが可能である。本実施形態では、アライメント計測や高さ計測において、アライメントスコープ９や高さセンサ１０に対して基板ステージ３をＸＹ平面内で駆動することを想定している。但し、基板ステージ３を固定して、アライメントスコープ９や高さセンサ１０をＸＹ平面内で駆動してもよい。
【】
Ｓ２１２において、制御部１１は、吐出ヘッド５の吐出特性を回復させる必要があるかどうかを判定する、即ち、吐出ヘッド５の回復判定を行う。吐出ヘッド５の吐出特性を回復させる必要があると判定された場合（ＹＥＳ）には、Ｓ２１４に移行し、吐出ヘッド５の吐出特性を回復させる必要がないと判定された場合（ＮＯ）には、Ｓ２１６に移行する。
【】
Ｓ２１４において、制御部１１は、Ｓ２０６と同様に、回復ユニット８を介して、吐出ヘッド５の吐出特性を回復させる回復処理（例えば、吐出ヘッド５に対するクリーニング処理など）を行う。
【】
Ｓ２１６において、制御部１１は、吐出ヘッド５の吐出制御を行う。具体的には、制御部１１は、基板ステージ３と吐出ヘッド５とを同期して駆動させながら、吐出制御情報に基づいて、吐出ヘッド５からのインク４（の液滴）の吐出を制御する。本実施形態では、吐出ヘッド５の吐出制御において、吐出ヘッド５に対して基板ステージ３をＸＹ平面内で駆動することを想定しているが、基板ステージ３を固定して、吐出ヘッド５をＸＹ平面内で駆動してもよい。
【】
本実施形態では、基板上に多数の機能素子を形成するために、基板２と吐出ヘッド５とを相対的に走査するとともに、吐出ヘッド５からインク４として機能素子の材料を吐出して、基板２の素子エリア２０１に機能素子の材料を配置（塗布）する。図３は、機能素子の材料が配置された基板２を模式的に示す図である。図３において、基板表面１０１は、基板２の表面のうち、機能素子１０２が形成される素子エリア２０１の表面である。矢印１０３、１０４、１０５及び１０６は、それぞれ、基板２と吐出ヘッド５との相対的な走査方向を示す。図３では、基板上に７個×５個の機能素子１０２が形成されているが、実際には、非常に多数の機能素子が形成されることになる。
【】
Ｓ２１８において、制御部１１は、吐出ヘッド５の吐出制御が完了しているかどうかを判定する。吐出ヘッド５の吐出制御が完了していないと判定された場合（ＮＯ）には、Ｓ２１２に移行し、吐出ヘッド５の吐出制御が完了していると判定された場合（ＹＥＳ）には、Ｓ２２０に移行する。
【】
Ｓ２２０において、制御部１１は、基板搬送機構（不図示）を介して、液体吐出装置１から基板２を搬出する。
【】
ここで、基板上に形成される機能素子１０２が量子ドット材料を含む色変換部である場合を考えると、吐出ヘッド５が吐出するインク４には、量子ドット材料が含まれる。量子ドット材料は、カドミウム、インジウム又は鉛などの重金属物質を含んでいるため、人体への曝露を防ぐ必要がある。液体吐出装置１では、吐出ヘッド５からインク４を吐出する際に、インク４からミストと呼ばれる量子ドット材料を含む霧状の少液滴が飛散するため、以下の各実施形態で説明するように、厳重な曝露対策を設けている。
【】
＜第１実施形態＞
図４は、第１実施形態における液体吐出装置１の構成を示す図である。本実施形態において、液体吐出装置１は、図４に示すように、基板ステージ３、吐出ヘッド５、インク供給系６、インクタンク７、回復ユニット８、アライメントスコープ９及び高さセンサ１０を含む本体部ＤＢを収容するチャンバ４０１を有する。チャンバ４０１は、本体部ＤＢ（少なくとも吐出ヘッド５の近傍）を隔離するための障壁であって、その内部の気体（空気）を密閉して、インク４から飛散するミストに含まれる量子ドット材料がチャンバ４０１の外部に漏洩することを防止する。以下では、インク４から飛散するミストに含まれる量子ドット材料を、除去対象物と称する。
図４は、第１実施形態における液体吐出装置１の構成を示す図である。本実施形態において、液体吐出装置１は、図４に示すように、基板ステージ３、吐出ヘッド５、インク供給系６、インクタンク７、回復ユニット８、アライメントスコープ９及び高さセンサ１０を含む本体部ＤＢを収容するチャンバ４０１を有する。チャンバ４０１は、本体部ＤＢ（少なくとも吐出ヘッド５の近傍）を隔離するための障壁であって、その内部の気体（空気）を密閉して、インク４から飛散するミストに含まれる量子ドット材料がチャンバ４０１の外部に漏洩することを防止する。以下では、インク４から飛散するミストに含まれる量子ドット材料を、除去対象物と称する。
【】
液体吐出装置１は、図４に示すように、チャンバ４０１の内部の気体を循環させる循環系４０２を有する。循環系４０２は、例えば、ブロワ（送風機）４０３と、整流部４０５と、を含む。また、循環系４０２には、チャンバ４０１の内部に飛散したインク４のミスト、特に、チャンバ４０１の内部の気体に含まれる除去対象物を除去するフィルタ４０４が設けられている。
【】
チャンバ４０１の内部の気体は、ブロワ４０３によって、チャンバ４０１に設けられた排気口４２１を介して循環系４０２に引き込まれ、フィルタ４０４を通過する。フィルタ４０４を通過することで除去対象物が除去された気体は、整流部４０５で整流され、チャンバ４０１の内部に戻される。チャンバ４０１の内部に気体を戻す整流部４０５は、チャンバ４０１の上部に設けることが好ましい。これは、量子ドット材料などを含む除去対象物は、一般的に、チャンバ４０１の内部の気体である空気よりも比重が重いからである。従って、チャンバ４０１の内部の気体を上方から下方に流れるようにすることで、除去対象物の除去効率を向上させることができる。また、同様の理由から、チャンバ４０１の内部の空気を循環系４０２に引き込むための排気口４２１は、チャンバ４０１の下部に設けることが好ましい。
【】
このように、チャンバ４０１の内部の気体を、フィルタ４０４が設けられた循環系４０２を介して循環させることで、吐出ヘッド５から吐出されるインク４から飛散するミストに起因して、かかる気体に含まれる除去対象物をフィルタ４０４で除去することができる。従って、チャンバ４０１の内部の気体を清浄な状態に維持することができる。
【】
一方、チャンバ４０１の内部の気体を清浄な状態に維持するためには、液体吐出装置１が動作している間において、チャンバ４０１の内部の気体（循環系４０２で循環させている気体）の状態を監視する必要がある。例えば、フィルタ４０４は、経年劣化などで除去対象物の除去性能が低下するが、それにもかかわらず、装置運用を継続すると、チャンバ４０１の内部にインク４から飛散するミスト、即ち、除去対象物が充満し、装置汚染を招いてしまう可能性がある。但し、インク４から飛散するミストに含まれる除去対象物を検出することができる検出装置（センサ）は一般的に流通していないため、チャンバ４０１の内部の気体に含まれる除去対象物を直接的に検出することは困難である。
【】
そこで、液体吐出装置１は、図４に示すように、チャンバ４０１の内部の気体に含まれる有機成分（除去対象物とは異なる検出対象物）を検出することが可能な検出部４０６を有している。吐出ヘッド５から吐出されるインク４から飛散するミストには、除去対象物とともに、有機成分も含まれている。換言すれば、有機成分は、吐出ヘッド５からインク４を吐出するときに、インク４からチャンバ４０１の内部に飛散する除去対象物とともに（相関して）チャンバ４０１の内部に飛散する。このため、フィルタ４０４の経年劣化などに起因して、チャンバ４０１の内部にミストが充満すると、チャンバ４０１の内部の気体に含まれる除去対象物の濃度に連動して有機成分の濃度も上昇する。従って、検出部４０６によって、チャンバ４０１の内部の気体に含まれる有機成分の濃度を検出することで、チャンバ４０１の内部の気体に含まれる除去対象物の濃度を間接的に検出することができる。このように、検出部４０６は、チャンバ４０１の内部の気体に含まれる除去対象物の濃度を直接的に検出することはできないが、除去対象物の濃度を擬似的に検出しているとみなすことができる。
【】
また、液体吐出装置１は、チャンバ４０１の内部の気体をチャンバ４０１の外部に排出するように作動する排気系４３０として、第１切替弁４０７、第２切替弁４０８及び排気設備４０９を有する。本実施形態では、制御部１１は、検出部４０６で検出される有機成分の濃度が閾値以上である場合に、排気系４３０を作動させる。具体的には、制御部１１は、検出部４０６で検出される有機成分の濃度が閾値となると、第１切替弁４０７を開くとともに、第２切替弁４０８を閉じることで、チャンバ４０１の内部の空気を排気設備４０９に排出する。なお、図４に示すように、排気設備４０９の前段に、インク４のミスト、特に、除去対象物を除去するフィルタ４１０を設けて、排気設備４０９に排出される気体に含まれる除去対象物を除去することが好ましい。
【】
また、液体吐出装置１は、チャンバ４０１の外部の気体（空気）を、チャンバ４０１の下部に設けられた給気口４１１を介してチャンバ４０１の内部に吸入するように作動する給気系４４０を有する。給気系４４０は、本実施形態では、給気口４１１を介してチャンバ４０１の内部に吸入する気体によって、チャンバ４０１の内部の気体を排気口４２１に向かって押し流す気流を形成する。
【】
制御部１１は、排気系４３０を作動させる際に、給気系４４０も作動させる。例えば、制御部１１は、排気系４３０によってチャンバ４０１の外部に排出される気体の流量（排気量）と、給気系４４０によってチャンバ４０１の内部に吸入される気体の流量（吸気量）とが等しくなるように、排気系４３０及び給気系４４０を作動させる。これにより、チャンバ４０１の内部の圧力（内圧）を一定に維持することができる。
【】
なお、本実施形態では、チャンバ４０１の内部の気体をチャンバ４０１の外部に排出する際に、第１切替弁４０７を開くとともに、第２切替弁４０８を閉じている。これにより、循環系４０２によって循環させている気体の全てが排出され、排気系４３０による排気効果（チャンバ４０１の内部の気体の清浄化効率）を最大にすることができる。但し、チャンバ４０１の内部の気体をチャンバ４０１の外部に排出する際に、第１切替弁４０７及び第２切替弁４０８の両方を開いて、循環系４０２によって循環させている気体の一部を排出することでも一定の効果を得ることができる。
【】
本実施形態において、図１に示すブロワ４０３、フィルタ４０４、整流部４０５、検出部４０６、第１切替弁４０７及び第２切替弁４０８の配置位置は一例であって、上述した効果が得られる範囲で配置位置を変更することが可能である。また、フィルタ４０４及び４１０は、フィルタの種類を限定するものではないが、一般的には、有機フィルタ、無機フィルタ、ＨＥＰＡフィルタなどを含む。
【】
このように、本実施形態によれば、チャンバ４０１の内部の気体に含まれる有機成分の濃度に応じて、排気系４３０を作動させることで、吐出ヘッド５から吐出されるインク４に起因する装置汚染を抑制するのに有利である。特に、インク４のミストに含まれる量子ドット材料などの除去対象物がチャンバ４０１の内部に充満することを抑制し、人体への曝露を防ぐのに極めて有用である。
【】
＜第２実施形態＞
図５は、第２実施形態における液体吐出装置１の構成を示す図である。本実施形態において、液体吐出装置１は、図５に示すように、給気口４１１を介して吸入される気体（チャンバ４０１の外部の気体）をチャンバ４０１の内部に吹き出す複数の気流発生部５０１、５０２、５０３及び５０４（複数のノズル）を有する。気流発生部５０１乃至５０４は、それぞれ、給気口４１１から分岐され、給気口４１１を介してチャンバ４０１の内部に吸入する気体（の流れ）を利用して気流を発生させる機能を有する。本実施形態では、気流発生部５０１乃至５０４は、給気口４１１を介してチャンバ４０１の内部に吸入する気体によって、チャンバ４０１の内部の気体を排気口４２１に向かって押し流す気流を形成する。気流発生部５０１乃至５０４のそれぞれは、気流を発生させる機構として、例えば、エアブローノズルを含む。また、より積極的な気流を発生させるために、気流発生部５０１乃至５０４のそれぞれは、チャンバ４０１の内部に吹き出す気体の流速を速めるためのブロワを更に含んでもよい。
図５は、第２実施形態における液体吐出装置１の構成を示す図である。本実施形態において、液体吐出装置１は、図５に示すように、給気口４１１を介して吸入される気体（チャンバ４０１の外部の気体）をチャンバ４０１の内部に吹き出す複数の気流発生部５０１、５０２、５０３及び５０４（複数のノズル）を有する。気流発生部５０１乃至５０４は、それぞれ、給気口４１１から分岐され、給気口４１１を介してチャンバ４０１の内部に吸入する気体（の流れ）を利用して気流を発生させる機能を有する。本実施形態では、気流発生部５０１乃至５０４は、給気口４１１を介してチャンバ４０１の内部に吸入する気体によって、チャンバ４０１の内部の気体を排気口４２１に向かって押し流す気流を形成する。気流発生部５０１乃至５０４のそれぞれは、気流を発生させる機構として、例えば、エアブローノズルを含む。また、より積極的な気流を発生させるために、気流発生部５０１乃至５０４のそれぞれは、チャンバ４０１の内部に吹き出す気体の流速を速めるためのブロワを更に含んでもよい。
【】
気流発生部５０１は、チャンバ４０１の底面近傍の気体を押し流し、循環系４０２及び排気系４３０に連通する排気口４２１に向かう気流を発生させるように設けられている。これは、上述したように、量子ドット材料などを含む除去対象物は、一般的に、チャンバ４０１の内部の気体である空気よりも比重が重く、重力方向に滞留する特性があるからである。従って、チャンバ４０１の底面に滞留している除去対象物を、気流発生部５０１で発生させた気流によって排気口４２１に向かって押し流すことで、除去対象物の除去効率を向上させることができる。
【】
本実施形態において、吐出ヘッド５が吐出するインク４からチャンバ４０１の内部に飛散するミスト（量子ドット材料などの除去対象物）による装置汚染のリスクが高いのは、吐出ヘッド５と基板ステージ３との間の空間である。そこで、吐出ヘッド５と基板ステージ３との間の空間に向けて、気流を発生させる気流発生部５０２が設けられている。また、気流発生部５０２は、気流発生部５０２で発生させた気流が、吐出ヘッド５と基板ステージ３との間の空間を通り、循環系４０２及び排気系４３０に連通する排気口４２１に向かって流れるように、設けられている。
【】
また、インクタンク７には、インク４（量子ドット材料などの除去対象物を含む液体）が大量に貯蔵されている。従って、インクタンク７に異常が発生した場合には、急激な装置汚染が発生するリスクが高い。そこで、気流発生部５０３は、インクタンク７の周辺領域の気体を押し流し、循環系４０２及び排気系４３０に連通する排気口４２１に向かう気流を発生させるように設けられている。これにより、インクタンク７に異常が発生した場合であっても、インクタンク７の近傍での急激な装置汚染の発生を抑制することができる。
【】
また、回復ユニット８には、インクタンク７と同様に、吐出ヘッド５の吐出特定を回復する際に吐出ヘッド５から回収したインク４（量子ドット材料などの除去対象物を含む液体）が大量に貯蔵されている。従って、回復ユニット８に異常が発生した場合には、急激な装置汚染が発生するリスクが高い。そこで、気流発生部５０４は、回復ユニット８の周辺領域の気体を押し流し、循環系４０２及び排気系４３０に連通する排気口４２１に向かう気流を発生させるように設けられている。これにより、回復ユニット８に異常が発生した場合であっても、回復ユニット８の近傍での急激な装置汚染の発生を抑制することができる。
【】
本実施形態では、インク４のミスト（量子ドット材料などの除去対象物）に起因する装置汚染のリスクが高い箇所に着目して、気流発生部５０１乃至５０４について説明した。但し、気流発生部５０１乃至５０４を配置する位置や気流発生部５０１乃至５０４で発生させる気流の流れは限定されるものではない。例えば、チャンバ４０１の壁面全体から循環系４０２及び排気系４３０に連通する排気口４２１に向かう気流を発生させるようにしてもよい。
【】
＜第３実施形態＞
図６は、第３実施形態における液体吐出装置１の構成を示す図である。本実施形態において、液体吐出装置１は、図６に示すように、インタフェース６０１を有する。インタフェース６０１は、表示デバイスや入力デバイスなどを含み、液体吐出装置１からユーザに、或いは、ユーザから液体吐出装置１に情報や指示を伝えるためのユーザインタフェースである。インタフェース６０１は、液体吐出装置１の全般的なオペレーションを含む集中制御装置としての機能を集約するために、制御部１１に設けられている。インタフェース６０１は、排気系４３０による排気動作の起動や停止を手動で行うことを可能にし、ユーザの指令に応じて、検出部４０６で検出される有機成分（検出対象物）の濃度にかかわらず、排気系４３０を強制的に作動させる。
図６は、第３実施形態における液体吐出装置１の構成を示す図である。本実施形態において、液体吐出装置１は、図６に示すように、インタフェース６０１を有する。インタフェース６０１は、表示デバイスや入力デバイスなどを含み、液体吐出装置１からユーザに、或いは、ユーザから液体吐出装置１に情報や指示を伝えるためのユーザインタフェースである。インタフェース６０１は、液体吐出装置１の全般的なオペレーションを含む集中制御装置としての機能を集約するために、制御部１１に設けられている。インタフェース６０１は、排気系４３０による排気動作の起動や停止を手動で行うことを可能にし、ユーザの指令に応じて、検出部４０６で検出される有機成分（検出対象物）の濃度にかかわらず、排気系４３０を強制的に作動させる。
【】
このように、検出部４０６で検出される有機成分の濃度にかかわらず、排気系４３０を強制的に作動させることを可能にすることで、任意のタイミングにおいて、装置内（チャンバ４０１の内部）を清浄な状態にすることができる。例えば、装置メンテナンスやトラブル復旧などでユーザが装置内に入らなければならない場合、ユーザが装置内に入る前に、排気系４３０を強制的に作動させることで、装置内の安全を保障することができる。
【】
＜第４実施形態＞
図７は、第４実施形態における液体吐出装置１の構成を示す図である。液体吐出装置１は、図７に示すように、一般的に、基板ステージ３の位置をリアルタイムで計測する干渉計７０１を有する。干渉計７０１は、基板ステージ３に設けられた反射部材７０２に向けて光を照射し、反射部材７０２で反射された光（反射光）を検出して、その位相差から基板ステージ３の位置（現在位置）を高精度に取得することができる。
図７は、第４実施形態における液体吐出装置１の構成を示す図である。液体吐出装置１は、図７に示すように、一般的に、基板ステージ３の位置をリアルタイムで計測する干渉計７０１を有する。干渉計７０１は、基板ステージ３に設けられた反射部材７０２に向けて光を照射し、反射部材７０２で反射された光（反射光）を検出して、その位相差から基板ステージ３の位置（現在位置）を高精度に取得することができる。
【】
干渉計７０１においては、反射部材７０２で反射された光の位相差を検出するという特性上、干渉計７０１の光路領域（空間）７０３に、量子ドット材料などの除去対象物を含むインク４のミストや有機ガス（有機成分）を滞留させないことが好ましい。これは、インク４のミストや有機ガスが光路領域７０３に滞留すると、光路領域７０３での屈折率が変化し、干渉計７０１による基板ステージ３の位置の計測精度が低下するからである。
【】
液体吐出装置１では、チャンバ４０１の内部の気体に含まれる有機成分の濃度は、検出部４０６で常に検出されている。従って、干渉計７０１の光路領域７０３に存在する有機成分の濃度を推定することができる。そこで、本実施形態では、検出部４０６で検出される有機成分の濃度に基づいて、干渉計７０１で計測される基板ステージ３の位置を補正する補正部としての機能を、例えば、制御部１１が有している。具体的には、検出部４０６で検出される有機成分の濃度に対応する、干渉計７０１で計測される基板ステージ３の位置の変化量を推定し、かかる変化量を用いて干渉計７０１で計測される基板ステージ３の位置を補正する。これにより、基板ステージ３の位置制御を高精度に行うことが可能となる。なお、検出部４０６で検出される有機成分の濃度と、干渉計７０１で計測される基板ステージ３の位置の変化量との関係は事前に取得し、制御部１１（のメモリ）に補正テーブルとして格納しておくことが好ましい。
【】
＜第５実施形態＞
本実施形態では、検出部４０６で検出される有機成分の濃度が排気系４３０を動作させる閾値以上となる前に、チャンバ４０１の内部の気体に含まれる有機成分の濃度の上昇を検知して、量子ドット材料などの除去対象物に起因する装置汚染を抑制する。例えば、制御部１１において、検出部４０６で検出される有機成分の濃度が高くなるにつれて、循環系４０２によって循環される気体の流量が増加するように、循環系４０２を制御する。具体的には、ブロワ４０３の風量を上昇させることで、循環系４０２によって循環される気体の流量を増加させる。これにより、時間あたりにフィルタ４０４を通過する気体の流量が増加し、フィルタ４０４での量子ドット材料などの除去対象物の除去量を増加させることができる。従って、チャンバ４０１の内部において、量子ドット材料などの除去対象物を含むミストの充満速度が抑制され、量子ドット材料などの除去対象物に起因する装置汚染を抑制することができる。
本実施形態では、検出部４０６で検出される有機成分の濃度が排気系４３０を動作させる閾値以上となる前に、チャンバ４０１の内部の気体に含まれる有機成分の濃度の上昇を検知して、量子ドット材料などの除去対象物に起因する装置汚染を抑制する。例えば、制御部１１において、検出部４０６で検出される有機成分の濃度が高くなるにつれて、循環系４０２によって循環される気体の流量が増加するように、循環系４０２を制御する。具体的には、ブロワ４０３の風量を上昇させることで、循環系４０２によって循環される気体の流量を増加させる。これにより、時間あたりにフィルタ４０４を通過する気体の流量が増加し、フィルタ４０４での量子ドット材料などの除去対象物の除去量を増加させることができる。従って、チャンバ４０１の内部において、量子ドット材料などの除去対象物を含むミストの充満速度が抑制され、量子ドット材料などの除去対象物に起因する装置汚染を抑制することができる。
【】
循環系４０２によって循環される気体の流量を増加させる基準となる有機成分の濃度は、排気系４３０を動作させる閾値よりも小さい値であれば、任意に設定することが可能である。また、循環系４０２によって循環される気体の流量は、検出部４０６で検出される有機成分の濃度に応じて段階的に増加させてもよいし、有機成分の時間あたりの濃度の変化量が一定以上になった場合に増加させてもよい。
【】
なお、第４実施形態で説明したように、装置汚染が進み、インク４のミストや有機ガスが干渉計７０１の光路領域７０３に滞留すると、基板ステージ３の位置を計測する干渉計７０１に計測誤差が発生する。但し、本実施形態のように、検出部４０６で検出される有機成分の濃度が高くなるにつれて、循環系４０２によって循環される気体の流量を増加させることで、上述したような要因による干渉計７０１の計測誤差を抑制する効果を得ることができる。
【】
＜第６実施形態＞
図８は、第６実施形態における液体吐出装置１の構成を示す図である。本実施形態において、液体吐出装置１は、図８に示すように、循環系４０２によって循環される気体の流路において、検出部４０６の前段に設けられたフィルタ８０１を有する。フィルタ８０１は、フィルタ４０４及び４１０と同様に、インク４のミスト、特に、除去対象物を除去する機能を有する。
図８は、第６実施形態における液体吐出装置１の構成を示す図である。本実施形態において、液体吐出装置１は、図８に示すように、循環系４０２によって循環される気体の流路において、検出部４０６の前段に設けられたフィルタ８０１を有する。フィルタ８０１は、フィルタ４０４及び４１０と同様に、インク４のミスト、特に、除去対象物を除去する機能を有する。
【】
液体吐出装置１において、有機成分の濃度を検出する検出部４０６には、定期校正やメンテナンスが必要となる。但し、量子ドット材料などの除去対象物で汚染された検出部４０６を定期校正したり、メンテナンスしたりすることは、ユーザ（作業者）の安全確保の観点から難しい。そこで、本実施形態のように、検出部４０６の前段にフィルタ８０１を設けることで、検出部４０６が量子ドット材料などの除去対象物で汚染されることを抑制することが好ましい。なお、本実施形態では、検出部４０６の前段に新たなフィルタ８０１を設けているが、新たなフィルタ８０１を設けるのではなく、循環系４０２に設けられるフィルタ４０４を検出部４０６の前段に配置してもよい。
【】
＜第７実施形態＞
図９は、第７実施形態における液体吐出装置１の構成を示す図である。本実施形態において、液体吐出装置１は、検出部４０６として、チャンバ４０１の内部の同一箇所における有機成分を検出する２つの検出器、第１検出器９０１及び第２検出器９０２を有する。第１検出器９０１及び第２検出器９０２は、それぞれ、チャンバ４０１の内部の第１箇所（任意の箇所）における有機成分を検出する。
図９は、第７実施形態における液体吐出装置１の構成を示す図である。本実施形態において、液体吐出装置１は、検出部４０６として、チャンバ４０１の内部の同一箇所における有機成分を検出する２つの検出器、第１検出器９０１及び第２検出器９０２を有する。第１検出器９０１及び第２検出器９０２は、それぞれ、チャンバ４０１の内部の第１箇所（任意の箇所）における有機成分を検出する。
【】
本実施形態では、第１検出器９０１及び第２検出器９０２を用いて、有機成分の濃度が正しく検出されていることを監視（相互監視）することが可能である。例えば、第１検出器９０１で検出される有機成分の濃度と、第２検出器９０２で検出される有機成分の濃度とが異なる場合には、第１検出器９０１又は第２検出器９０２に異常（故障）が発生している可能性が高いと考えられる。このような場合には、排気系４３０を強制的に動作させることで、量子ドット材料などの除去対象物に起因する装置汚染を抑制することができる。
【】
＜第８実施形態＞
本実施形態では、チャンバ４０１の内部で発生する気流の流速が１ｍ／ｓｅｃ以下となるように、循環系４０２や排気系４３０を動作させる。具体的には、循環系４０２からチャンバ４０１の内部に戻る気体の流速（循環系４０２によって循環される気体の流速）が１ｍ／ｓｅｃ以下となるように、循環系４０２を制御する。また、排気系４３０によって排気設備４０９（チャンバ４０１の外部）に排出される気体の流速が１ｍ／ｓｅｃ以下となるように、排気系４３０を制御する。
本実施形態では、チャンバ４０１の内部で発生する気流の流速が１ｍ／ｓｅｃ以下となるように、循環系４０２や排気系４３０を動作させる。具体的には、循環系４０２からチャンバ４０１の内部に戻る気体の流速（循環系４０２によって循環される気体の流速）が１ｍ／ｓｅｃ以下となるように、循環系４０２を制御する。また、排気系４３０によって排気設備４０９（チャンバ４０１の外部）に排出される気体の流速が１ｍ／ｓｅｃ以下となるように、排気系４３０を制御する。
【】
チャンバ４０１の内部は、排気系４３０が動作しない限り、密閉された空間であるため、チャンバ４０１の内部で気体が循環する構成となっている。従って、フィルタ４０４の経年劣化や異常などで除去性能が低下し、チャンバ４０１の内部（の気体）の有機成分の濃度が高くなると、各部が備えるモータ類やチャンバ４０１の内部の気流による静電気によって、燃焼や爆発を招く可能性がある。
【】
そこで、本実施形態では、検出部４０６で検出される有機成分の濃度が予め定められた濃度以上となる場合に、液体吐出装置１の動作を停止させるとともに、排気系４３０を動作させる。その際、チャンバ４０１の内部の気流によって静電気が発生することを抑えるために、チャンバ４０１の内部で発生する気流の流速が１ｍ／ｓｅｃ以下となるように、循環系４０２や排気系４３０を動作させる。なお、チャンバ４０１の内部で発生する気流の流速を１ｍ／ｓｅｃ以下とする理由は、可燃性流体を搬送する際に静電気の発生を抑えて安全に搬送可能な流速が１ｍ／ｓｅｃであるからである。
【】
＜第９実施形態＞
本実施形態では、検出部４０６で検出される有機成分の濃度が予め定められた濃度以上となる場合に、循環系４０２及び排気系４３０を除いた液体吐出装置１の動作を停止させる。例えば、予め定められた濃度は、チャンバ４０１の内部の有機成分の濃度が燃焼や爆発の可能性のある濃度以下に設定される。また、予め定められた濃度は、インク４のミストや有機ガスに起因する干渉計７０１の計測誤差が許容範囲に収めることが可能な有機成分の濃度以下に設定されてもよい。なお、第８実施形態と同様に、液体吐出装置１の動作を停止させるとともに、排気系４３０を動作させるとよい。
本実施形態では、検出部４０６で検出される有機成分の濃度が予め定められた濃度以上となる場合に、循環系４０２及び排気系４３０を除いた液体吐出装置１の動作を停止させる。例えば、予め定められた濃度は、チャンバ４０１の内部の有機成分の濃度が燃焼や爆発の可能性のある濃度以下に設定される。また、予め定められた濃度は、インク４のミストや有機ガスに起因する干渉計７０１の計測誤差が許容範囲に収めることが可能な有機成分の濃度以下に設定されてもよい。なお、第８実施形態と同様に、液体吐出装置１の動作を停止させるとともに、排気系４３０を動作させるとよい。
【】
＜第１０実施形態＞
本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、有機ＥＬ等のディスプレイ用パネルや半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、液体吐出装置１（を有する基板処理装置）を用いて基板に液体を吐出して液膜を形成する工程と、かかる工程で液膜が形成された基板を加工、具体的には、乾燥させ、乾燥膜が形成された基板を得る工程と、を有する。また、本実施形態の物品の製造方法は、乾燥膜が形成された基板から物品を製造する工程を更に有する。更に、かかる物品の製造方法は、他の周知の工程（焼成、冷却、洗浄、酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、有機ＥＬ等のディスプレイ用パネルや半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、液体吐出装置１（を有する基板処理装置）を用いて基板に液体を吐出して液膜を形成する工程と、かかる工程で液膜が形成された基板を加工、具体的には、乾燥させ、乾燥膜が形成された基板を得る工程と、を有する。また、本実施形態の物品の製造方法は、乾燥膜が形成された基板から物品を製造する工程を更に有する。更に、かかる物品の製造方法は、他の周知の工程（焼成、冷却、洗浄、酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【】
本明細書の開示は、以下の液体吐出装置、基板処理装置及び物品の製造方法を含む。
【】
（項目１）
液体を吐出するヘッドと、
前記ヘッドを収容するチャンバと、
前記チャンバの内部の気体を循環させる循環系と、
前記気体を前記チャンバの外部に排出するように作動する排気系と、
前記循環系に設けられ、前記気体に含まれる除去対象物を除去するフィルタと、
前記気体に含まれる、前記除去対象物とは異なる検出対象物を検出することで、前記除去対象物を間接的に検出する検出部と、
前記検出部で検出される前記検出対象物の濃度が閾値以上である場合に、前記排気系を作動させる制御部と、
を有することを特徴とする液体吐出装置。
液体を吐出するヘッドと、
前記ヘッドを収容するチャンバと、
前記チャンバの内部の気体を循環させる循環系と、
前記気体を前記チャンバの外部に排出するように作動する排気系と、
前記循環系に設けられ、前記気体に含まれる除去対象物を除去するフィルタと、
前記気体に含まれる、前記除去対象物とは異なる検出対象物を検出することで、前記除去対象物を間接的に検出する検出部と、
前記検出部で検出される前記検出対象物の濃度が閾値以上である場合に、前記排気系を作動させる制御部と、
を有することを特徴とする液体吐出装置。
【】
（項目２）
前記除去対象物及び前記検出対象物は、前記ヘッドから前記液体を吐出するときに、当該液体から前記チャンバの内部に飛散することを特徴とする項目１に記載の液体吐出装置。
前記除去対象物及び前記検出対象物は、前記ヘッドから前記液体を吐出するときに、当該液体から前記チャンバの内部に飛散することを特徴とする項目１に記載の液体吐出装置。
【】
（項目３）
前記チャンバの外部の気体を、給気口を介して前記チャンバの内部に吸入するように作動する給気系を更に有し、
前記排気系は、前記チャンバの内部の気体を、排気口を介して前記チャンバの外部に排出するように作動し、
前記給気系は、前記給気口を介して前記チャンバの内部に吸入する気体によって、前記チャンバの内部の気体を前記排気口に向かって押し流す気流を形成することを特徴とする項目１又は２に記載の液体吐出装置。
前記チャンバの外部の気体を、給気口を介して前記チャンバの内部に吸入するように作動する給気系を更に有し、
前記排気系は、前記チャンバの内部の気体を、排気口を介して前記チャンバの外部に排出するように作動し、
前記給気系は、前記給気口を介して前記チャンバの内部に吸入する気体によって、前記チャンバの内部の気体を前記排気口に向かって押し流す気流を形成することを特徴とする項目１又は２に記載の液体吐出装置。
【】
（項目４）
前記制御部は、前記排気系によって前記チャンバの外部に排出される気体の流量と、前記給気系によって前記チャンバの内部に吸入される気体の流量とが等しくなるように、前記排気系及び前記給気系を作動させることを特徴とする項目３に記載の液体吐出装置。
前記制御部は、前記排気系によって前記チャンバの外部に排出される気体の流量と、前記給気系によって前記チャンバの内部に吸入される気体の流量とが等しくなるように、前記排気系及び前記給気系を作動させることを特徴とする項目３に記載の液体吐出装置。
【】
（項目５）
前記給気系は、前記給気口を介して吸入される気体を前記チャンバの内部に吹き出す複数のノズルを含み、
前記複数のノズルのそれぞれは、前記チャンバの内部に吹き出す気体によって、前記チャンバの内部の気体を前記排気口に向かって押し流す気流を形成することを特徴とする項目３又は４に記載の液体吐出装置。
前記給気系は、前記給気口を介して吸入される気体を前記チャンバの内部に吹き出す複数のノズルを含み、
前記複数のノズルのそれぞれは、前記チャンバの内部に吹き出す気体によって、前記チャンバの内部の気体を前記排気口に向かって押し流す気流を形成することを特徴とする項目３又は４に記載の液体吐出装置。
【】
（項目６）
前記制御部は、前記検出部で検出される前記検出対象物の濃度にかかわらず、前記排気系を作動させるためのインタフェースを含むことを特徴とする項目１乃至５のうちいずれか１項目に記載の液体吐出装置。
前記制御部は、前記検出部で検出される前記検出対象物の濃度にかかわらず、前記排気系を作動させるためのインタフェースを含むことを特徴とする項目１乃至５のうちいずれか１項目に記載の液体吐出装置。
【】
（項目７）
前記ヘッドから吐出される前記液体が配置される基板を保持するステージと、
前記ステージの位置を計測する干渉計と、
前記検出部で検出される前記検出対象物の濃度に基づいて、前記干渉計で計測される前記ステージの位置を補正する補正部と、
を更に有することを特徴とする項目１乃至６のうちいずれか１項目に記載の液体吐出装置。
前記ヘッドから吐出される前記液体が配置される基板を保持するステージと、
前記ステージの位置を計測する干渉計と、
前記検出部で検出される前記検出対象物の濃度に基づいて、前記干渉計で計測される前記ステージの位置を補正する補正部と、
を更に有することを特徴とする項目１乃至６のうちいずれか１項目に記載の液体吐出装置。
【】
（項目８）
前記補正部は、前記検出部で検出される前記検出対象物の濃度に対応する、前記干渉計で計測される前記ステージの位置の変化量を推定し、前記変化量を用いて前記干渉計で計測される前記ステージの位置を補正することを特徴とする項目７に記載の液体吐出装置。
前記補正部は、前記検出部で検出される前記検出対象物の濃度に対応する、前記干渉計で計測される前記ステージの位置の変化量を推定し、前記変化量を用いて前記干渉計で計測される前記ステージの位置を補正することを特徴とする項目７に記載の液体吐出装置。
【】
（項目９）
前記制御部は、前記検出部で検出される前記検出対象物の濃度が高くなるにつれて、前記循環系によって循環される気体の流量が増加するように、前記循環系を制御することを特徴とする項目１乃至８のうちいずれか１項目に記載の液体吐出装置。
前記制御部は、前記検出部で検出される前記検出対象物の濃度が高くなるにつれて、前記循環系によって循環される気体の流量が増加するように、前記循環系を制御することを特徴とする項目１乃至８のうちいずれか１項目に記載の液体吐出装置。
【】
（項目１０）
前記フィルタは、前記循環系によって循環される気体の流路において、前記検出部よりも前段に設けられていることを特徴とする項目１乃至９のうちいずれか１項目に記載の液体吐出装置。
前記フィルタは、前記循環系によって循環される気体の流路において、前記検出部よりも前段に設けられていることを特徴とする項目１乃至９のうちいずれか１項目に記載の液体吐出装置。
【】
（項目１１）
前記検出部は、
前記チャンバの内部の第１箇所における前記検出対象物を検出する第１検出器と、前記第１箇所における前記検出対象物を検出する第２検出器と、を含み、
前記第１検出器及び前記第２検出器を用いて、前記検出対象物の濃度が正しく検出されていることを監視することを特徴とする項目１乃至１０のうちいずれか１項目に記載の液体吐出装置。
前記検出部は、
前記チャンバの内部の第１箇所における前記検出対象物を検出する第１検出器と、前記第１箇所における前記検出対象物を検出する第２検出器と、を含み、
前記第１検出器及び前記第２検出器を用いて、前記検出対象物の濃度が正しく検出されていることを監視することを特徴とする項目１乃至１０のうちいずれか１項目に記載の液体吐出装置。
【】
（項目１２）
前記制御部は、前記第１検出器で検出される前記検出対象物の濃度と、前記第２検出器で検出される前記検出対象物の濃度とが異なる場合に、前記排気系を作動させることを特徴とする項目１１に記載の液体吐出装置。
前記制御部は、前記第１検出器で検出される前記検出対象物の濃度と、前記第２検出器で検出される前記検出対象物の濃度とが異なる場合に、前記排気系を作動させることを特徴とする項目１１に記載の液体吐出装置。
【】
（項目１３）
前記制御部は、前記排気系によって前記チャンバの外部に排出される気体の流速が１ｍ／ｓｅｃ以下となるように、前記排気系を作動させることを特徴とする項目１乃至１２のうちいずれか１項目に記載の液体吐出装置。
前記制御部は、前記排気系によって前記チャンバの外部に排出される気体の流速が１ｍ／ｓｅｃ以下となるように、前記排気系を作動させることを特徴とする項目１乃至１２のうちいずれか１項目に記載の液体吐出装置。
【】
(項目１４)
前記制御部は、前記循環系によって循環される気体の流速が１ｍ／ｓｅｃ以下となるように、前記循環系を制御することを特徴とする項目１３に記載の液体吐出装置。
前記制御部は、前記循環系によって循環される気体の流速が１ｍ／ｓｅｃ以下となるように、前記循環系を制御することを特徴とする項目１３に記載の液体吐出装置。
【】
（項目１５）
前記制御部は、前記検出部で検出される前記検出対象物の濃度が予め定められた濃度以上となる場合に、前記循環系及び前記排気系を除いた前記液体吐出装置の動作を停止させることを特徴とする項目１乃至１４のうちいずれか１項目に記載の液体吐出装置。
前記制御部は、前記検出部で検出される前記検出対象物の濃度が予め定められた濃度以上となる場合に、前記循環系及び前記排気系を除いた前記液体吐出装置の動作を停止させることを特徴とする項目１乃至１４のうちいずれか１項目に記載の液体吐出装置。
【】
（項目１６）
前記検出対象物は、前記液体に含まれる有機成分を含み、
前記除去対象物は、前記液体に含まれる量子ドット材料を含むことを特徴とする項目１乃至１５のうちいずれか１項目に記載の液体吐出装置。
前記検出対象物は、前記液体に含まれる有機成分を含み、
前記除去対象物は、前記液体に含まれる量子ドット材料を含むことを特徴とする項目１乃至１５のうちいずれか１項目に記載の液体吐出装置。
【】
（項目１７）
前記量子ドット材料は、重金属物質を含むことを特徴とする項目１６に記載の液体吐出装置。
前記量子ドット材料は、重金属物質を含むことを特徴とする項目１６に記載の液体吐出装置。
【】
（項目１８）
前記量子ドット材料は、カドミウム、インジウム又は鉛を含むことを特徴とする項目１６に記載の液体吐出装置。
前記量子ドット材料は、カドミウム、インジウム又は鉛を含むことを特徴とする項目１６に記載の液体吐出装置。
【】
（項目１９）
基板を処理する基板処理装置であって、
前記基板を保持するステージと、
前記ステージに保持された前記基板に対して液体を吐出する項目１乃至１８のうちいずれか１項目に記載の液体吐出装置と、
を有することを特徴とする基板処理装置。
基板を処理する基板処理装置であって、
前記基板を保持するステージと、
前記ステージに保持された前記基板に対して液体を吐出する項目１乃至１８のうちいずれか１項目に記載の液体吐出装置と、
を有することを特徴とする基板処理装置。
【】
（項目２０）
項目１９に記載の基板処理装置を用いて基板に液体を吐出する工程と、
前記液体が吐出された前記基板を加工する工程と、
加工された前記基板から物品を製造する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
項目１９に記載の基板処理装置を用いて基板に液体を吐出する工程と、
前記液体が吐出された前記基板を加工する工程と、
加工された前記基板から物品を製造する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【】
発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。
【符号の説明】
【】
１：液体吐出装置 ２：基板 ３：基板ステージ ４：インク ５：吐出ヘッド １１：制御部 ４０１：チャンバ ４０２：循環系 ４０４：フィルタ ４３０：排気系
【図】
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【図】
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