(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2023-07-31
(54)【発明の名称】レーザ波長測定装置及び方法
(51)【国際特許分類】
G01J 9/02 20060101AFI20230724BHJP
【ＦＩ】
G01J9/02
【審査請求】有
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2022560158
(86)(22)【出願日】2020-12-11
(85)【翻訳文提出日】2022-09-29
(86)【国際出願番号】 CN2020135615
(87)【国際公開番号】W WO2021196723
(87)【国際公開日】2021-10-07
(31)【優先権主張番号】202010244216.8
(32)【優先日】2020-03-31
(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】323005533
【氏名又は名称】北京科益虹源光▲電▼技▲術▼有限公司
(74)【代理人】
【識別番号】110002527
【氏名又は名称】弁理士法人北斗特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】▲劉▼ ▲広▼▲義▼
(72)【発明者】
【氏名】江 ▲鋭▼
(72)【発明者】
【氏名】▲韓▼ ▲暁▼泉
(72)【発明者】
【氏名】▲趙▼ 江山
(72)【発明者】
【氏名】沙 ▲鵬▼▲飛▼
(72)【発明者】
【氏名】殷 青青
(72)【発明者】
【氏名】▲張▼ 華
(57)【要約】
レーザ波長測定装置（２）及び方法を開示し、レーザ波長測定装置（２）は、第一光路部品と第二光路部品を含み、第二光路部品が第一光路部品とレーザ光波長測定光路を構成し、第二光路部品は、ＦＰエタロン部品（１１）及び光学分級機（１３）を含み、均一化処理された前記レーザビームがＦＰエタロン部品（１１）を介して干渉縞を生成し、光学分級機（１３）は、レーザ光波長測定光路においてＦＰエタロン部品（１１）の後ろに設置され、ＦＰエタロン部品（１１）を通過したレーザビームに対して偏向処理を行う。ＦＰエタロン部品（１１）により、二つのＦＰエタロン（ＦＰ１、ＦＰ２）が同じ光路を共用して干渉結像を行い、構造がコンパクトで体積が小さく、設計が簡単で、安定性が高い。光学分級機（１３）の協力で、同時にレーザ波長に対する正確な測定を実現し、波長測定範囲が大きく、レーザ光波長のオンライン測定及び対応する閉ループ制御フィードバックに適用する。
【選択図】 図１Ａ
【選択図】 図１Ａ
【特許請求の範囲】
【請求項1】
レーザから出射されたレーザビームに対して均一化処理を行うための第一光路部品と、前記第一光路部品とレーザ光波長測定光路を構成し、前記第一光路部品により均一化処理されたレーザビームを分級結像するための第二光路部品と、を含み、
前記第二光路部品は、
少なくとも二つのＦＰエタロンを含むＦＰエタロン部品であって、均一化処理された前記レーザビームが前記ＦＰエタロン部品を介して干渉縞を生成するＦＰエタロン部品と、
前記レーザ光波長測定光路において前記ＦＰエタロン部品の後ろに設置され、前記ＦＰエタロン部品を通過したレーザビームに対して偏向処理を行うことにより、分級結像を実現する光学分級機と、を含む
レーザ波長測定装置。
【請求項2】
前記第一光路部品は、前記レーザ光波長測定光路に沿って順に設置されたビームスプリッタ及び光均一化部品を含み、前記ビームスプリッタは、前記レーザから出射された一部のレーザビームを前記レーザ光波長測定光路に反射し、
前記光均一化部品は、前記ビームスプリッタにより前記レーザ光波長測定光路に反射されたレーザビームに対して均一化処理を行うために用いられ、前記光均一化部品は、前記レーザ光波長測定光路に沿って順に設置された光学光均一化素子、第一集光レンズ及びミラーを含み、
前記光学光均一化素子は、前記レーザビームを均一化することにより、前記レーザビーム品質の測定精度への影響を減少させるために用いられ、
前記第一集光レンズは、前記光学光均一化素子により均一化処理されたレーザビームを前記第二光路部品に集光するために用いられ、
前記ミラーは、前記第一集光レンズにより集光されたレーザビームを前記第二光路部品に反射するために用いられる
請求項１に記載のレーザ波長測定装置。
【請求項3】
前記第二光路部品は、前記レーザ光波長測定光路に沿って順に設置されたホモジナイザー、視野絞り、コリメートレンズ、第二集光レンズ及び結像デバイスをさらに含み、前記ホモジナイザーは、前記レーザ光波長測定光路において前記第一光路部品の後ろに対応して設置され、前記第一光路部品を通過して前記第二光路部品に入射したレーザビームに対して更なる均一化処理を行うために用いられ、
前記視野絞りは、前記ホモジナイザーにより均一化処理されたレーザビームの前記分級結像における結像範囲を制御することに用いられ、
前記コリメートレンズは、前記レーザ光波長測定光路において前記ＦＰエタロン部品の前に対応して設置され、前記ＦＰエタロン部品に入射するレーザビームのコリメート特性を保証するために用いられ、
前記第二集光レンズは、前記レーザ光波長測定光路において前記光学分級機の後ろに設置され、前記光学分級機を通過したレーザビームを前記結像デバイスに集光するために用いられ、
前記結像デバイスは、前記第二集光レンズを通過したレーザビームを結像するために用いられる
請求項１に記載のレーザ波長測定装置。
【請求項4】
前記第二光路部品は、前記レーザ光波長測定光路において前記ＦＰエタロン部品と前記光学分級機との間に設置され、前記ＦＰエタロン部品を通過した前記レーザビームの向きを制限するための開口絞りをさらに含む
請求項１に記載のレーザ波長測定装置。
【請求項5】
前記ＦＰエタロン部品は、前記ＦＰエタロン部品の封止キャビティを構成するためのハウジングと、
前記封止キャビティ内に設置され、前記分級結像の第一干渉縞を対応して生成するための第一ＦＰエタロンと、
前記第一ＦＰエタロンに対応して前記封止キャビティ内に設置され、前記分級結像の第二干渉縞を対応して生成するための第二ＦＰエタロンと、を含む
請求項１に記載のレーザ波長測定装置。
【請求項6】
前記第一ＦＰエタロン及び前記第二ＦＰエタロンは以下を満たし、【数1】
請求項５に記載のレーザ波長測定装置。
【請求項7】
前記ハウジングは、前記ハウジングの光入射口に対応して設置される第一封止溝と、
前記第一封止溝にマッチングして前記光入射口に設置される第一封止リングと、
前記第一封止リングにマッチングして前記第一封止溝内に設置される第一窓部材と、
前記ハウジングの光出射口に対応して設置される第二封止溝と、
前記第二封止溝にマッチングして前記光出射口に設置される第二封止リングと、
前記第二封止リングにマッチングして前記第二封止溝内に設置される第二窓部材と、を含み、
ここで、前記第一窓部材及び前記第二窓部材にいずれも反射低減膜を有し、又は
前記第一窓部材の光入射面の法線及び／又は出射面の法線と前記レーザビームの入射方向は第一角度を呈し、及び／又は
前記第二窓部材の光入射面の法線及び／又は出射面の法線と前記レーザビームの入射方向は第二角度を呈し、
前記第一角度又は第二角度は５度－１０度である
請求項５に記載のレーザ波長測定装置。
【請求項8】
前記光学分級機は、第一楔角を有し、第一ＦＰエタロンを通過したレーザビームに対して偏向処理を行うための第一偏向部材と、
第二楔角を有し、前記第二楔角により前記第一偏向部材の第一楔角に対応して設置され、第二ＦＰエタロンを通過したレーザビームに対して偏向処理を行うための第二偏向部材と、を含む
請求項１に記載のレーザ波長測定装置。
【請求項9】
前記光学分級機は、第三楔角を有し、第一ＦＰエタロンを通過したレーザビームに対して偏向処理を行うか、又は第二ＦＰエタロンを通過したレーザビームに対して偏向処理を行うための第三偏向部材、
又は
第四偏向部材、を含み、
前記第四偏向部材は、
レーザビームの入射方向と平行で前記第四偏向部材に穿設される光透過孔を含み、
前記第四偏向部材が前記第一ＦＰエタロンを通過した前記レーザビームに対して偏向処理を行う場合、前記光透過孔は、前記第二ＦＰエタロンを通過した前記レーザビームに前記光透過孔を通じさせるために用いられ、
前記第四偏向部材が前記第二ＦＰエタロンを通過した前記レーザビームに対して偏向処理を行う場合、前記光透過孔は、前記第一ＦＰエタロンを通過した前記レーザビームに前記光透過孔を通じさせるために用いられる
請求項１に記載のレーザ波長測定装置。
【請求項10】
請求項１～９のいずれか一項に記載のレーザ波長測定装置に適用され、前記レーザに生成されたレーザ光波長に対する測定を実現するレーザ波長測定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、レーザスペクトル測定の技術分野に関し、具体的には、レーザ波長測定装置及び方法に関する。
【背景技術】
【0002】
レーザは、現代工業において重要な光源装置であり、照明、レーザ加工、投影表示、光通信、物質分析、テスト計量、半導体加工などの分野に用いることができ、ここでいくつかのハイサイド領域（例えばテスト計量及び半導体加工などの分野）において、レーザ光は、より高い波長安定性を有することが要求される。したがって、レーザに対応するレーザ波長測定装置を設計する必要があり、測定結果に基づいてレーザの波長に対して閉ループ制御フィードバックを実現することにより、レーザの安定した波長出力を確保する。
【0003】
半導体加工技術分野において、エキシマレーザは、半導体リソグラフィプロセスに応用される主要光源である。例えば、ＡｒＦエキシマレーザの中心波長は１９３．４ｎｍであり、ＫｒＦエキシマレーザの中心波長は２４８．３ｎｍである。レーザ中心波長の変化はリソグラフィーの露出焦点面の変化に直接的に影響し、露光ラインが広くなり、チップの良品率が低下することを引き起こす。また、１１０ｎｍプロセスノードに対して、レーザの中心波長安定性が０．０５ｐｍより高いことを要求し、２８ｎｍプロセスノードに対して、レーザの中心波長安定性が０．０３ｐｍより高いことを要求する。
【0004】
したがって、レーザの波長測定に対してｐｍレベルを有する波長測定装置を設計する必要がある。波長測定装置によりレーザの波長をリアルタイムに測定し、かつ閉ループ制御を行い、それによりレーザ波長の安定性出力を実現する。
【0005】
レーザのレーザ光波長の測定方法は多く、例えば分散法及び干渉法であり、分散法はプリズム分散及びグレイティング分散を含み、干渉法はフーリエ変換法及びＦａｂｒｙ－Ｐｅｒｏｔエタロン（以下ＦＰエタロンと略称する）法を含む。
【0006】
プリズム分散と低次ブレーズグレイティングに基づく方法は波長を測定する精度が低く、高精度の波長測定を実現することができない。また、フーリエ変換法に基づく波長測定は、素子の機械的運動を必要とし、安定性が低く、高速波長測定を実現することができない。
【0007】
従来の高速、高精度のレーザ波長測定方法は主に、中階段グレイティング法及びＦＰエタロン法を含む。中階段グレイティングを用いてレーザ中心波長を測定し、中階段グレイティングの回折次数が高く、高精度の中心波長測定を実現することができる。しかしながら、中階段グレイティングの波長計は体積が膨大であり、レーザ波長のオンライン測定に適しておらず、一般的にオフライン測定に用いられる。ＦＰエタロン法は、体積が比較的小さく、スペクトル分解能が高いため、レーザのオンライン測定波長の理想的な選択である。ＦＰエタロン法により、レーザ光はＦＰエタロンを通過した後、干渉縞を生成し、干渉縞のピークの位置に基づいて、入射レーザの波長を取得する。
【0008】
しかしながら、従来のＦＰエタロンは測定波長の範囲が比較的小さく、一般的に一つのＦＰエタロンを介して広範囲及び高精度の波長測定を実現することができない。例えば、ＦＰエタロン及びグレイティングの協力方式によって波長を測定し、入射レーザ光を二つのビームに分け、それぞれグレイティングとＦＰエタロンに照射し、ここでグレイティングは波長の粗測定に用いられ、ＦＰエタロンは波長の精密測定に用いられ、それによりレーザの波長の正確値を取得する。
【0009】
また、二つのＦＰエタロンを採用してレーザ波長を測定することができ、そのうちの一つのＦＰエタロンは測定範囲が比較的大きく、中心波長の粗測定に用いられ、もう一つのＦＰエタロンは測定範囲が比較的小さく、中心波長の精密測定に用いられる。ビームスプリッタを用いてレーザのレーザビームを二つのビームに分け、それぞれ二つのＦＰエタロンに照射し、次に二つのＦＰエタロンの干渉縞を算出し、波長粗測定及び精密測定結果を得て、それによりレーザ波長の正確値を取得する。
【0010】
それ以外に、二つの直列接続されたＦＰエタロンを用いて波長を測定することができ、一つのＦＰエタロンは波長偏差を大まかに決定し、もう一つのＦＰエタロンは波長偏差を正確に決定し、二つのＦＰエタロンの後の干渉信号の強度を比較することにより、レーザの波長偏差を取得し、それによりレーザ波長の安定を維持する。
【0011】
又は、二つの並行するＦＰエタロン及び一つのグレイティングを干渉型フィルタとして採用して入射レーザの強度を検出し、各フィルタは波長測定精度が異なり、レーザの波長を段階的に測定し、レーザ波長の正確値を取得する。
【0012】
上記レーザ波長測定の方法に基づいて、少なくとも二セットの波長測定装置を採用し、一つ（又は複数）は波長粗測定に用いられ、一つはＦＰエタロン法を用いて波長精密測定に用いられ、入射レーザ光を分岐する必要があり、二セットの波長測定装置は、完全な共通光路を実現することができず、装置は複雑である。最終的な波長測定結果は一つのＦＰエタロンの正確な測定結果のみに依存し、外部環境の影響を受けやすく、波長測定精度及び安定性が低い。
【発明の概要】
【0013】
本開示の一態様はレーザ波長測定装置を開示し、第一光路部品及び第二光路部品を含み、第一光路部品は、レーザから出射されたレーザビームに対して均一化処理を行うために用いられ、第二光路部品は、第一光路部品とレーザ光波長測定光路を構成し、第一光路部品により均一化処理されたレーザビームを分級結像するために用いられ、第二光路部品は、ＦＰエタロン部品及び光学分級機（Optical classifier）を含み、均一化処理された前記レーザビームがＦＰエタロン部品を介して干渉縞を生成し、光学分級機は、レーザ光波長測定光路においてＦＰエタロン部品の後ろに設置され、ＦＰエタロン部品を通過したレーザビームに対して偏向処理を行うことにより、分級結像を実現する。
【0014】
本開示の実施例によれば、第一光路部品は、レーザ光波長測定光路に沿って順に設置されたビームスプリッタ及び光均一化部品を含み、ビームスプリッタは、レーザから出射された一部のレーザビームをレーザ光波長測定光路に反射し、光均一化部品は、ビームスプリッタにより前記レーザ光波長測定光路に反射されたレーザビームに対して均一化処理を行うために用いられる。
【0015】
本開示の実施例によれば、光均一化部品は、レーザ光波長測定光路に沿って順に設置された光学光均一化素子、第一集光レンズ及びミラーを含み、光学光均一化素子は、レーザビームを均一化することにより、レーザビーム品質の測定精度への影響を減少させるために用いられ、第一集光レンズは、光学光均一化素子により均一化処理されたレーザビームを第二光路部品に集光するために用いられ、ミラーは、第一集光レンズにより集光されたレーザビームを第二光路部品に反射するために用いられる。
【0016】
本開示の実施例によれば、前記第二光路部品は、レーザ光波長測定光路に沿って順に設置されたホモジナイザー（ｈｏｍｏｇｅｎｉｚｅｒ）、視野絞り及びコリメートレンズをさらに含み、ホモジナイザーは、レーザ光波長測定光路において第一光路部品の後ろに対応して設置され、第一光路部品を介して第二光路部品に入射したレーザビームに対して更なる均一化処理を行うために用いられ、視野絞りは、ホモジナイザーにより均一化処理されたレーザビームの分級結像における結像範囲を制御することに用いられ、前記コリメートレンズは、レーザ光波長測定光路においてＦＰエタロン部品の前に対応して設置され、ＦＰエタロン部品に入射するレーザビームのコリメート特性を保証するために用いられる。
【0017】
本開示の実施例によれば、第二光路部品は、レーザ光波長測定光路においてＦＰエタロン部品と光学分級機との間に設置され、ＦＰエタロン部品を通過したレーザビームの向きを制限するための開口絞りをさらに含む。
【0018】
本開示の実施例によれば、第二光路部品は、レーザ光波長測定光路に沿って順に設置された第二集光レンズ及び結像デバイスをさらに含み、前記第二集光レンズは、レーザ光波長測定光路において前記光学分級機の後ろに設置され、光学分級機を通過したレーザビームを結像デバイスに集光するために用いられ、結像デバイスは、第二集光レンズを通過したレーザビームを結像するために用いられる。
【0019】
本開示の実施例によれば、前記ＦＰエタロン部品は、ハウジング、第一ＦＰエタロン及び第二ＦＰエタロンを含み、ハウジングは、ＦＰエタロン部品の封止キャビティを構成するために用いられ、第一ＦＰエタロンは、封止キャビティ内に設置され、分級結像の第一干渉縞を対応して生成するために用いられ、第二ＦＰエタロンは、第一ＦＰエタロンに対応して封止キャビティ内に設置され、分級結像の第二干渉縞を対応して生成するために用いられる。
【0020】
本開示の実施例によれば、前記第一ＦＰエタロン及び前記第二ＦＰエタロンは以下を満たす。
【0021】
【数1】
【0022】
ここで、ｋ＜０．２であり、ＦＳＲ１は、第一ＦＰエタロンの自由スペクトル範囲であり、ＦＳＲ２は、第二ＦＰエタロンの自由スペクトル範囲である。
【0023】
本開示の実施例によれば、ハウジングは、第一封止溝、第一封止リング及び第一窓部材、第二封止溝、第二封止リング及び第二窓部材を含み、第一封止溝は、ハウジングの光入射口に対応して設置され、第一封止リングは、第一封止溝にマッチングして光入射口に設置され、第一窓部材は、第一封止リングにマッチングして第一封止溝内に設置され、第二封止溝は、ハウジングの光出射口に対応して設置され、第二封止リングは、第二封止溝にマッチングして光出射口に設置され、第二窓部材は、第二封止リングにマッチングして第二封止溝内に設置され、ここで、第一窓部材及び第二窓部材にいずれも反射低減膜を有し、又は第一窓部材の光入射面の法線及び／又は出射面の法線とレーザビームの入射方向は第一角度を呈し、及び／又は第二窓部材の光入射面の法線及び／又は出射面の法線とレーザビームの入射方向は第二角度を呈し、第一角度又は第二角度は５度－１０度である。
【0024】
本開示の実施例によれば、光学分級機は、第一偏向部材及び第二偏向部材を含み、第一偏向部材は、第一楔角を有し、第一ＦＰエタロンを通過したレーザビームに対して偏向処理を行うために用いられ、第二偏向部材は、第二楔角を有し、第二楔角により第一偏向部材の第一楔角に対応して設置され、第二ＦＰエタロンを通過したレーザビームに対して偏向処理を行うために用いられる。
【0025】
本開示の実施例によれば、光学分級機は、第三楔角を有し、第一ＦＰエタロンを通過したレーザビームに対して偏向処理を行うか、又は第二ＦＰエタロンを通過したレーザビームに対して偏向処理を行うための第三偏向部材を含む。
【0026】
本開示の実施例によれば、光学分級機は、第四偏向部材を含み、前記第四偏向部材は、レーザビームの入射方向と平行で第四偏向部材に穿設される光透過孔を含み、第四偏向部材が第一ＦＰエタロンを通過したレーザビームに対して偏向処理を行う場合、光透過孔は、第二ＦＰエタロンを通過したレーザビームに光透過孔を通じさせるために用いられ、第四偏向部材が第二ＦＰエタロンを通過したレーザビームに対して偏向処理を行う場合、光透過孔は、第一ＦＰエタロンを通過したレーザビームに光透過孔を通じさせるために用いられる。
【0027】
本開示の別の態様はレーザ波長測定システムを開示し、上記レーザ波長測定装置及びレーザを含み、レーザは、レーザ波長測定装置に入射するレーザビームを生成するために用いられる。
【0028】
本開示のさらに別の態様は、レーザ波長測定方法を開示し、上記レーザ波長測定装置に適用され、レーザのレーザ光波長に対する測定を実現する。
【図面の簡単な説明】
【0029】
【発明を実施するための形態】
【0030】
本開示の目的、技術的解決手段及び利点をより明らかにするために、以下に具体的な実施例を組み合わせるとともに図面を参照し、本開示をさらに詳細に説明する。
【0031】
従来技術におけるレーザ波長測定装置が完全な共通光路を実現することができず、装置が複雑であり、波長測定結果が外部の影響を受けやすく、波長測定精度及び安定性が低いという技術的問題を解決するために、本開示は、レーザ波長測定装置及び方法を開示している。
【0032】
本開示の一態様は、レーザ波長測定装置を開示し、図１Ａ、図１Ｂに示すように、レーザ波長測定装置２は第一光路部品及び第二光路部品を含み、第一光路部品は、レーザ１から出射されたレーザビームに対して均一化処理を行う。第二光路部品は、第一光路部品に対応して設置され、第一光路部品とレーザ光波長測定光路を構成し、第二光路部品は、第一光路部品により均一化処理されたレーザビームを分級結像する。レーザ１により生成された測定すべきレーザビームは第一光路部品に入射した後、上記レーザ光波長測定光路に沿って第一光路部品を通過して第二光路部品に入射し、かつ第二光路部品において分級結像を行い、測定結果を取得し、例えばレーザビームに対応する干渉縞を取得する。
【0033】
本開示の実施例によれば、第二光路部品は、ＦＰエタロン部品１１及び光学分級機１３を含み、ＦＰエタロン部品１１は、レーザビームに対応して干渉縞を生成し、具体的には、ＦＰエタロン部品１１を通過したレーザビームが結像デバイス１５に照射された後、結像デバイス１５により検出され、これに基づいてそれに対応する干渉縞を取得し、即ち均一化処理された前記レーザビームがＦＰエタロン部品を通過した後に干渉縞を生成する。ここで、ＦＰエタロン部品１１は、複数のＦＰエタロンを含むことができ、例えば二つのＦＰエタロンがＦＰエタロン部品の同一キャビティに封止されることができ、これにより、少なくとも二つのＦＰエタロンが同一の光路を共有して干渉結像を行うことを実現し、光路構造がコンパクトであり、安定性がより高い。そして、少なくとも二つのＦＰエタロンのＦＰエタロン部品という設計において、ＦＰエタロンの間の自由スペクトル範囲ＦＳＲが比較的近いため、いずれもレーザビームの波長に対する正確な測定を実現することができる。波長測定結果は少なくとも二つのＦＰエタロンの測定結果の平均値であってもよく、波長測定精度をさらに向上させ、そして、波長測定範囲は少なくとも二つのＦＰエタロンの自由スペクトル範囲ＦＳＲの積であってもよく、波長の測定範囲をさらに向上させる。
【0034】
また、光学分級機１３は、レーザ光波長測定光路においてＦＰエタロン部品１１の後ろに対応して設置され、ＦＰエタロン部品１１を通過したレーザビームに対して偏向処理を行うことにより、分級結像を実現する。レーザビームは、上記レーザ光波長測定光路に沿ってＦＰエタロン部品１１を通過して光学分級機１３に入射し、光学分級機１３は、レーザビームを二つのビームに偏向することにより、レーザビームに対応する干渉縞が結像デバイス１５に分離して結像し、それにより二つの干渉縞の強度位置を計算することにより、入射レーザビームの波長を取得することに役立つ。
【0035】
したがって、本開示のＦＰエタロン部品１１により、少なくとも二つのＦＰエタロンが同一の光路を共有して干渉結像を行い、構造がコンパクトで体積が小さく、設計が簡単で、安定性が高い。光学分級機１３の協力で、レーザのレーザ光波長に対する正確な測定を同時に実現することができ、波長測定範囲が大きく、レーザ光波長のオンライン測定及び対応的な閉ループ制御フィードバックに適用する。
【0036】
本開示の実施例によれば、ここで、図１Ａ、図１Ｂに示すように、第一光路部品は、レーザ光波長測定光路に沿って順に設置されたビームスプリッタ３及び光均一化部品４を含み、ここで、レーザ１は、測定すべきレーザビームを生成し、レーザ波長測定装置２に入射する。具体的には、測定すべきレーザビームが第一光路部品に入射する。第一光路部品において、測定すべきレーザビームはビームスプリッタ３に照射され、ビームスプリッタ３は平板ガラス又は楔角付きのガラスであり、大部分の光を該ビームスプリッタ３に透過させるために用いられ、同時に該レーザから出射された一部のレーザビームをレーザ光波長測定光路に反射するために用いられ、すなわち、一部の測定すべきレーザビームを反射して第一光路部品における光均一化部品に入射する。光均一化部品４は、レーザ光波長測定光路においてビームスプリッタ３の後ろに対応して設置され、ビームスプリッタ３により前記レーザ光波長測定光路に反射されたレーザビームを均一化処理するために用いられる。
【0037】
本開示の実施例によれば、ここで、図１Ａ、図１Ｂに示すように、光均一化部品４は、レーザ光波長測定光路に沿って順に設置された光学光均一化素子５、第一集光レンズ６及びミラー７を含み、ここで、光学光均一化素子５は、レーザビームを均一化し、レーザビーム品質による測定精度への影響を減少させ、該光学光均一化素子５は、マイクロレンズアレイ、光学積分ロッド又は回折光学素子（ＤＯＥ）などの部品であってもよい。第一集光レンズ６は、光学光均一化素子５により均一化処理されたレーザビームを第二光路部品に集光する。ここで、第二光路部品と第一集光レンズ６との間にミラー７をさらに設置してもよく、該ミラー７は、第一集光レンズ６により集光されたレーザビームを第二光路部品に反射するために用いられ、該ミラー７は、反射面に一層の高反射膜をめっきすることができ、レーザビームを反射する能力を向上させるために用いられる。ミラー７により、レーザ光波長測定光路の経路を変更することができ、それによりレーザ波長測定装置２の構造がよりコンパクトになり、該レーザ波長測定装置２の体積を縮小することを実現する。
【0038】
本開示の実施例によれば、ここで、図１Ａ、図１Ｂに示すように、第二光路部品は、レーザ光波長測定光路に沿って順に設置されたホモジナイザー８、視野絞り９及びコリメートレンズ１０をさらに含み、ここで、第一集光レンズ６により集光された後、第一光路部品のミラー７により反射されたレーザビームが第二光路部品におけるホモジナイザー８に反射され、ホモジナイザー８は、レーザ光波長測定光路において第一光路部品のミラー７の後ろに対応して設置され、第一光路部品を通過して第二光路部品に入射したレーザビームに対して更なる均一化処理を行うために用いられ、該ホモジナイザー８は、すりガラス又はホモジナイジング（Homogenizing）効果を有する他の素子であってもよい。視野絞り９は、ホモジナイザー８により更なる均一化処理が行なわれたレーザビームの分級結像における結像範囲を制御し、即ち干渉縞の結像デバイス１５の結像面における結像範囲を制御する。コリメートレンズ１０は、レーザ光波長測定光路においてＦＰエタロン部品１１の前に対応して設置され、ＦＰエタロン部品１１に入射するレーザビームのコリメート特性を保証するために用いられ、かつホモジナイザー８、視野絞り９を順に通過したレーザビームを、コリメートレンズ１０を通過してＦＰエタロン部品１１に入射させる。
【0039】
本開示の実施例によれば、ここで、図１Ａ、図１Ｂに示すように、第二光路部品は、開口絞り１２をさらに含み、レーザ光波長測定光路においてＦＰエタロン部品１１と光学分級機１３との間に設置され、ＦＰエタロン部品１１を通過したレーザビームの向きを制限する。本開示の実施例のＦＰエタロン部品１１において、少なくとも二つのＦＰエタロン（ＦＰ１及びＦＰ２）が存在してもよく、二つのＦＰエタロンを通過したレーザビームは開口絞り１２を通過し、二本のレーザビームの交差を防止することができる。
【0040】
当業者であれば理解すべきことは、ＦＰエタロン部品１１における該少なくとも二つのＦＰエタロンは、３つのＦＰエタロン、又はより多くのＦＰエタロンを含むことができ。具体的には、図１Ｂに示すように、ＦＰエタロン部品１１は、３つのＦＰエタロン（ＦＰ１、ＦＰ２及びＦＰ３）を含む。
【0041】
本開示の実施例によれば、ここで、図１Ａ、図１Ｂに示すように、第二光路部品は、レーザ光波長測定光路に沿って順に設置された第二集光レンズ１４及び結像デバイス１５をさらに含み、ここで、第二集光レンズ１４はレーザ光波長測定光路において光学分級機１３の後ろに設置され、光学分級機１３を通過したレーザビームを結像デバイス１５に集光する。結像デバイス１５は、第二集光レンズ１４を通過したレーザビームを結像し、結像デバイス１５はＣＣＤ結像カメラであってもよい。具体的には、レーザビームは、開口絞り１２を通過した後に光学分級機１３に入射し、光学分級機１３は、異なる入射位置に対応するビームを異なる出射角度に偏向し、次に第二集光レンズ１４に入射し、最後に第二集光レンズ１４の集光作用を通過して、二本のレーザビームは互いに影響しない状況で結像デバイス１５に入射して結像を完了する。光学分級機１３の存在により、ＦＰエタロンＦＰ１及びＦＰエタロンＦＰ２を通過した光を異なる角度に偏向するため、ＦＰエタロンＦＰ１及びＦＰエタロンＦＰ２の干渉縞は結像デバイス１５の異なる位置に結像することができ、適切な偏向角度を選択することにより、結像デバイス１５で異なる干渉縞を得ることができる。図５に示すように、ＣＣＤ結像カメラで得られたＦＰエタロンＦＰ１及びＦＰエタロンＦＰ２の干渉縞であり、ここで、左側がＦＰ１の干渉縞であり、右側がＦＰ２の干渉縞である。
【0042】
本開示の実施例によれば、ここで、図１Ａ、図１Ｂ、図２に示すように、ＦＰエタロン部品１１は、ハウジング１６、第一ＦＰエタロンＦＰ１及び第二ＦＰエタロンＦＰ２を含み、すなわち本開示の実施例において、レーザ波長測定装置２のＦＰエタロン部品は、二つのＦＰエタロンに設計されることができる。
【0043】
当業者であれば理解すべきことは、図１Ｂに示すように、ＦＰエタロン部品１１は、第三ＦＰエタロンＦＰ３をさらに含んでもよく、第一ＦＰエタロンＦＰ１と第二ＦＰエタロンＦＰ２との間に設置される。
【0044】
ハウジング１６は、ＦＰエタロン部品１１の封止キャビティを構成するために用いられ、封止キャビティは、その中に内蔵された第一ＦＰエタロンＦＰ１及び第二ＦＰエタロンＦＰ２を封止するために用いられる。第一ＦＰエタロンＦＰ１は、封止キャビティ内に設置され、結像デバイス１５で分級結像を生成する第一干渉縞に対応し、第二ＦＰエタロンＦＰ２は、第一ＦＰエタロンＦＰ１に対応して封止キャビティ内に設置され、分級結像を生成する第二干渉縞に対応する。図２に示すように、第一ＦＰエタロンＦＰ１は、封止キャビティの上方に設けられ、第二ＦＰエタロンＦＰ２は、第一ＦＰエタロンＦＰ１の下方に対応して設けられ、第一ＦＰエタロンＦＰ１及び第二ＦＰエタロンＦＰ２は、以下を満たすことができる。
【0045】
【数2】
【0046】
ここで、ｋ＜０．２であり、ＦＳＲ１は第一ＦＰエタロンＦＰ１の自由スペクトル範囲であり、ＦＳＲ２は第二ＦＰエタロンＦＰ２の自由スペクトル範囲である。換言すれば、第一ＦＰエタロンＦＰ１の自由スペクトル範囲ＦＳＲ１と第二ＦＰエタロンＦＰ２の自由スペクトル範囲ＦＳＲ２は近い。本開示の実施例において、半導体加工技術分野において、フォトリソグラフィプロセスに応用されるエキシマレーザ波長変化範囲は一般的に数百ｐｍであり、レーザ波長測定の測定精度及び測定範囲を保証するために、ＦＳＲ１=２０ｐｍであり、ＦＳＲ２=２０．５ｐｍであることができる。当業者であれば理解すべきことは、上記関連パラメータＦＳＲ１及びＦＳＲ２の数値は本開示の実施例の具体的な実施データだけであり、該パラメータデータの具体的な制限ではない。一方、図６に示すように、レーザの波長が変化する場合、ＦＰエタロンに対応するレーザにより生成されたレーザビームの干渉縞の分布も相応的に変化し、これにより、そのうちの一つのＦＰエタロン（例えば第一ＦＰエタロンＦＰ１）が自由スペクトル範囲ＦＳＲ１に達した後、第二ＦＰエタロンＦＰ２の自由スペクトル範囲ＦＳＲ２が第一ＦＰエタロンＦＰ１の自由スペクトル範囲ＦＳＲ１とわずかに異なるため、両者に対応して生成された干渉縞が重複しない。これにより、本開示のレーザ波長測定装置２の波長測定範囲を拡大し、波長測定範囲は少なくとも４１０ｐｍ（すなわち両者の積であるＦＳＲ１×ＦＳＲ２）を実現することができ、それによりエキシマレーザ波長測定要求を満たすことができる。そして、二つのＦＰエタロンにより、レーザ波長測定装置２が高いスペクトル分解能も有するようにする。
【0047】
ここまで、上記エキシマレーザを例にして、本開示の実施例におけるレーザ波長測定装置２の波長測定をさらに説明し、以下のとおりである。
【0048】
ＦＰエタロンに対して、レーザからレーザ光波長測定光路に入射するレーザビーム波長（すなわち測定すべきレーザの中心波長λ）は以下の式（１）を満たす。
【0049】
【数3】
【0050】
ここで、λはレーザの中心波長であり、ｎはＦＰエタロン内のガスの屈折率であり、ｄはＦＰエタロンのピッチであり、ｍはＦＰエタロン干渉縞の次数であり、θはＦＰエタロンに対応するレーザビームの出射角である。
【0051】
ＦＰエタロン干渉縞の半径をｒとし、第二集光レンズ１４の焦点距離をｆとする時、上記ＦＰエタロンに対応する干渉縞の半径ｒに基づいて該ＦＰエタロンにより測定したレーザの中心波長λが以下の式（２）を満たすことを得ることができる。
【0052】
【数4】
【0053】
相応的には、本開示の実施例において、第一ＦＰエタロンＦＰ１の間隔がｄ１であり、第二ＦＰエタロンＦＰ２の間隔がｄ２である場合、それぞれに対応する干渉縞（図５に示す）の半径がそれぞれｒ１とｒ２である場合、それに対応するレーザの中心波長はそれぞれ以下の式（３）及び（４）を満たす。
【0054】
【数5】
【0055】
【数6】
【0056】
また、第一ＦＰエタロンＦＰ１の間隔ｄ１、第二ＦＰエタロンＦＰ２の間隔ｄ２に基づいて、第一ＦＰエタロンＦＰ１及び第二ＦＰエタロンＦＰ２の自由スペクトル範囲はそれぞれ以下の式（５）及び（６）を満たすことができる。
【0057】
【数7】
【0058】
【数8】
【0059】
第一ＦＰエタロンＦＰ１及び第二ＦＰエタロンＦＰ２の干渉縞をそれぞれ算出し、レーザの中心波長はそれぞれ以下の式（７）及び（８）を満たすことができる。
【0060】
【数9】
【0061】
【数10】
【0062】
ここで、Ｎ及びＭは整数であり、一定の範囲内に異なる整数Ｎ及びＭを選択することができ、λＦＰ１－λＦＰ２を最小にして、この時に得られたレーザの中心波長λｌａｓｅｒは以下のとおりである。
【0063】
【数11】
【0064】
以上から分かるように、レーザの中心波長λｌａｓｅｒは二つのＦＰエタロン（すなわち第一ＦＰエタロンＦＰ１及び第二ＦＰエタロンＦＰ２）のそれぞれの精密測定波長の平均値であり、その安定性は、単一のＦＰエタロンの測定結果より高く、かつ波長測定範囲を実現することができる。
【0065】
注意すべきことは、３つのＦＰエタロンであれば、図１Ｂに示すように、ＦＰエタロン部品１１における３つのＦＰエタロンの自由スペクトル範囲も近いことが必要であり、第三エタロンＦＰ３エタロンが波長を精密に測定するプロセスは、第一ＦＰエタロンＦＰ１、第二ＦＰエタロンＦＰ２と同じであり、この時、レーザの中心波長は、３つのＦＰエタロンのそれぞれの精密測定波長の平均値であり、それによりレーザ中心波長の測定精度をさらに向上させることができる。同じ理由にて、他のＦＰエタロン部品１１においてより多くのＦＰエタロンを有する場合についても適用することができ、ここでは説明を省略する。
【0066】
本開示の実施例によれば、ここで、図１Ａ、図１Ｂ及び図２に示すように、ＦＰエタロン部品１１のハウジング１６は、第一封止溝、第一封止リング１８ａ及び第一窓部材１７ａ、及び第二封止溝、第二封止リング１８ｂ及び第二窓部材１７ｂを含み、該ハウジング１６の封止キャビティに対して良好な封止効果を実現するために用いられる。
【0067】
第一封止溝は、ハウジング１６の光入射口に対応して設置され、図２に示す光路矢印のように、ハウジング１６の左側は第一窓部材１７ａの光透過口に対応し、入光口であり、第一封止溝は、該入光口の縁部に囲まれてハウジング１６に内凹して設計された環状閉鎖封止溝構造であってもよい。ここで、図２に示すように、第一封止リングは、第一固定溝及び第一本体溝を含み、それぞれ第一封止リング１８ａ及び第一窓部材１７ａを対応して設置するために用いられる。
【0068】
第一封止リング１８ａは、第一封止溝にマッチングして光入射口に設置され、具体的には、第一封止リング１８ａは第一固定溝に内蔵され、第一封止リング１８ａは、該入光口の縁部に囲まれて設計された環状閉鎖実体構造であり、その形状及び寸法は上記第一固定溝の形状及び寸法とマッチングして設計され、第一封止リング１８ａを第一固定溝内にぴったりと取り付けるために用いられる。
【0069】
第一窓部材１７ａは、第一封止リング１８ａとマッチングして第一封止溝内に設置され、具体的には、第一窓部材１７ａは第一本体溝に内蔵され、第一窓部材１７ａは第一本体溝の寸法、形状とマッチングして設計され、それにより第一窓部材１７ａはぴったりと第一本体溝内に取り付けられ、それにより第一封止リング１８ａと協力して光入射口を封止する。
【0070】
第二封止溝は、ハウジング１６の光出射口に対応して設置され、図２に示す光路矢印のように、ハウジング１６の右側は第二窓部材１７ｂの光透過口に対応して光出射口であり、第二封止溝は、該光出射口の縁部に囲まれてハウジング１６に内凹して設計された環状閉鎖封止溝構造であってもよい。ここで、図２に示すように、第二封止リングは第二固定溝及び第二本体溝を含み、それぞれ第二封止リング１８ｂ及び第一窓部材１７ｂを対応して設置するために用いられる。
【0071】
第二封止リング１８ｂは、第二封止溝にマッチングして光出射口に設置され、具体的には、第二封止リング１８ｂは第二固定溝に内蔵され、第二封止リング１８ｂは該光出射口の縁部に囲まれて設計された環状閉実体構造であり、その形状及び寸法は上記第二固定溝の形状及び寸法とマッチングして設計され、第二封止リング１８ｂを第二固定溝内にぴったりと取り付けるために用いられる。
【0072】
第二窓部材１７ｂは、第二封止リング１８ｂとマッチングして第二封止溝に設置され、具体的には、第二窓部材１７ｂは第二本体溝に内蔵され、第二窓部材１７ｂは第二本体溝の寸法、形状とマッチングして設計され、それにより第二窓部材１７ｂはぴったりと第二本体溝内に取り付けられ、それにより第二封止リング１８ｂと協力して光出射口を封止する。
【0073】
ここで、第一封止リング１８ａ及び第二封止リング１８ｂはいずれもゴム、シリカゲルなどの弾性変形性能を有する材料を採用することができる。第一窓部材１７ａ及び第二窓部材１７ｂは、いずれもガラス等の透光性を有する材料を採用することができる。また、第一窓部材１７ａと第二窓部材１７ｂにはいずれも反射低減膜を有し、及び／又は第一窓部材１７ａの光入射面の法線及び／又は出射面の法線とレーザビームの入射方向とは第一角度となり、及び／又は第二窓部材１７ｂの光入射面の法線及び／又は出射面の法線とレーザビームの入射方向とは第二角度となり、第一角度又は第二角度は５度－１０度であり、それにより第一窓部材１７ａ及び第二窓部材１７ｂにおける反射光によるレーザ波長測定結果への影響を減少させる。換言すれば、レーザビームは垂直角度で第一窓部材１７ａ及び／又は第二窓部材１７ｂの光入射面及び／又は光出射面に入射することができない。したがって、第一窓部材１７ａ及び／又は第二窓部材１７ｂは楔角を有する構造であってもよく、又は、第一窓部材１７ａは傾斜角度で光入射口に設置されかつそれを密封し、及び／又は第二窓部材１７ｂは一定の傾斜角度で光出射口に設置されかつそれを密封する。
【0074】
当業者であれば理解されるように、光路を測定するＦＰエタロン部品１１に複数のＦＰエタロンを有する場合、図１Ｂに示すように３つのＦＰエタロンであれば、複数のＦＰエタロンの封止方式は二つのＦＰエタロンの封止方式と同じであり、すなわちいずれも同一の封止キャビティ内に封止され、ここで繰り返し説明しない。
【0075】
本開示の一実施例によれば、第一窓部材１７ａ及び第二窓部材１７ｂが楔角を有する構造である場合、レーザビームを入射する入射方向は第一窓部材１７ａの光入射面と光出射面に垂直することができず、第一窓部材１７ａの光入射面の法線又は出射面の法線とレーザビームの入射方向とは第一角度となり、第一角度は５度－１０度であり、同様に、第二窓部材１７ｂの光入射面の法線又は出射面の法線とレーザビームの入射方向とは第二角度となり、第二角度は５度－１０度である。
【0076】
本開示の別の実施例によれば、第一窓部材１７ａは、楔角を有さない構造であってもよく、例えば平板ガラスであってもよく、ハウジング１６の光入射口に斜めに取り付けられ、レーザビームの入射方向と第一窓部材１７ａの光入射面の法線と出射面の法線とはそれぞれ５－１０度の角度となり、すなわち、レーザビームを入射する入射方向と第一窓部材１７ａの光入射面及び／又は光出射面とが垂直することができない。同様に、第二窓部材１７ｂはハウジング１６の光出射口に斜めに取り付けられてもよく、具体的には説明を省略する。ここで、本開示の実施例において、光入射面は光学素子における光線が照射された表面であり、光出射面は光学素子におけるそれから出射された表面であり、一般的には光入射面の裏面であってもよい。
【0077】
これにより、第一ＦＰエタロンＦＰ１と第二ＦＰエタロンＦＰ２が同一の封止環境にあることを確保することができ、それによりレーザ波長測定の安定性及び精度を保証する。
【0078】
本開示の実施例によれば、ここで、図１Ａ、図１Ｂ及び図２に示すように、光学分級機１３は、第一偏向部材１９ａ及び第二偏向部材１９ｂを含み、光学分級機１３を通過したレーザビームに対して偏向処理を行うために用いられる。ここで、第一偏向部材１９ａは第一楔角を有し、第一ＦＰエタロンＦＰ１を通過したレーザビームに対して偏向処理を行うために用いられ、第一偏向部材１９ａの光入射面は、第一ＦＰエタロンＦＰ１を通過したレーザビームの入射方向と垂直であり、第一偏向部材１９ａの光出射面は斜面であり、これにより該第一偏向部材１９ａの光出射面と光入射面との間に第一楔角に対応する角度を有し、該第一楔角は第一偏向部材１９ａの先端に対応して設置されてもよい。
【0079】
それに対応して、第二偏向部材１９ｂは第二楔角を有し、第二楔角により、第一偏向部材１９ａの第一楔角に対応して設置され、第二ＦＰエタロンＦＰ２を通過したレーザビームに対して偏向処理を行うために用いられる。第二偏向部材１９ｂの光入射面は、第二ＦＰエタロンＦＰ２を通過したレーザビームの入射方向と垂直であり、第二偏向部材１９ｂの光出射面は斜面であり、これにより該第二偏向部材１９ｂの光出射面と光入射面との間に第二楔角に対応する角度を有する。ここで、第一楔角は第二楔角に等しくてもよく、該第二楔角は第二偏向部材１９ｂの先端に対応して設置されてもよい。
【0080】
本開示の実施例において、第一偏向部材１９ａにより偏向処理されたレーザビームが、第二偏向部材１９ｂにより偏向処理されたレーザビームと交差しないために、第一偏向部材１９ａと第二偏向部材１９ｂは先端が対向して設置される必要があり、すなわち第一偏向部材１９ａの第一楔角を有する頂端と第二偏向部材１９ｂの第二楔角を有する頂端とが接触し、第一偏向部材１９ａと第二偏向部材１９ｂの光入射面は光入射方向と垂直して平行である。
【0081】
本開示の別の実施例において、第一偏向部材１９ａの光入射面は、第一ＦＰエタロンＦＰ１を通過したレーザビームの入射方向に垂直でなくてもよく、同様に、第二偏向部材１９ｂの光入射面は、第一ＦＰエタロンＦＰ１を通過したレーザビームの入射方向に垂直でなくてもよい。この時、第一偏向部材１９ａと第二偏向部材１９ｂは先端が対向して設置されてもよい。
【0082】
したがって、ＦＰエタロン部品を通過したレーザビームは、開口絞り１２を通過した後、形成された空間位置が変化し、二本のレーザビームに分けられて光学分級機１３に入射し、光学分級機１３は、第一偏向部材１９ａ及び第二偏向部材１９ｂを用いてそれぞれ二本の光ビームを偏向し、それぞれの出射角度を変更し、その出射方向を異ならせ、それにより結像デバイス１５（例えばＣＣＤ結像カメラ）に入射する時に、結像デバイス１５はそれぞれのレーザビームの異なる位置に対応する干渉縞を取得することができる。
【0083】
さらに説明する必要があるものとして、図１Ｂに示すように、ＦＰエタロン部品１１に３つのＦＰエタロンを有する場合、第三ＦＰエタロンＦＰ３が第一ＦＰエタロンＦＰ１と第二ＦＰエタロンＦＰ２との間に設置され、かつ第三ＦＰエタロンＦＰ３の中心光軸線が第二集光レンズ１４の中心光軸線に対応して重なる場合、光学分級機１３における第三ＦＰエタロンＦＰ３に対応する位置に、偏向部材を対応して設置しなくてもよく、すなわち図１Ｂに示すように、第三ＦＰエタロンＦＰ３を通過したビームが第二集光レンズ１４の中心に直接的に垂直に入射することができ、第二集光レンズ１４を通過した後に結像デバイス１５に直接入射する。したがって、当業者であれば理解されるように、ＦＰエタロン部品１１においてより多くのＦＰエタロンを有することに対して、その光路経路及び対応的な偏向部材の数及び設置位置等を相応的に取得することができ、ここでは説明を省略する。
【0084】
本開示の別の実施例によれば、ここで、図１Ａ、図１Ｂ、図３に示すように、光学分級機１３は、第三偏向部材２１をさらに含み、第三楔角を有し、第一ＦＰエタロンＦＰ１を通過したレーザビームＧ１に対して偏向処理を行い、又は第二ＦＰエタロンＦＰ２を通過したレーザビームＧ２に対して偏向処理を行うために用いられる。同様に、第三偏向部材２１の光入射面はレーザビームＧ１（又はレーザビームＧ２）の入射方向に垂直であり、第三偏向部材２１の光出射面は斜面であり、これにより、該第三偏向部材２１の光出射面と光入射面との間に第三楔角に対応する角度を有する。この時、該光学分級機１３には、該第三偏向部材２１に入射するレーザビームＧ１（又はレーザビームＧ２）を偏向させる作用のみを有し、第三偏向部材２１に入射しない別のレーザビームＧ２（又はレーザビームＧ１）に対して、偏向なしに出射し、最後に結像デバイス１５に入射して結像することができる。
【0085】
換言すれば、該光学分級機１３は一つの第三偏向部材２１のみを設計することができ、すなわち入射した二本のレーザビームを偏向させ、その出射方向を異ならせることを実現することができ、それにより結像デバイス１５（例えばＣＣＤ結像カメラ）に入射する時に、結像デバイス１５はそれぞれのレーザビームの異なる位置に対応する干渉縞を取得することができる。ここで、該第三偏向部材２１は元の光学分級機１３の上端部分空間又は下端部分空間のみを占め、体積サイズが小さく、光学分級機１３のサイズの縮小を実現し、本開示のレーザ測定装置のサイズの縮小に役立つ。
【0086】
本開示の別の実施例によれば、ここで、図１Ａ、図１Ｂ、図４に示すように、光学分級機１３は、第四偏向部材２２を含み、第四偏向部材２２は、レーザビームの入光方向と平行で第四偏向部材２２に穿設された光透過孔２３を含み、具体的には、第四偏向部材２２は第四楔角を有し、第一ＦＰエタロンＦＰ１を通過したレーザビームＧ１に対して偏向処理を行うか、又は第二ＦＰエタロンＦＰ２を通過したレーザビームＧ２に対して偏向処理を行うために用いられる。同様に、第四偏向部材２２の光入射面はレーザビームＧ１（又はレーザビームＧ２）の入射方向に垂直であり、第四偏向部材２２の光出射面は斜面であり、これにより該第四偏向部材２２の光出射面と光入射面との間に第四楔角に対応する角度を有する。ここで、第四偏向部材２２における第四楔角が位置する頂端部位に近くに光透過孔２３を穿設することができ、それが第四偏向部材２２の本体部分と一定の距離を置いて、相互の影響を回避することができる。
【0087】
したがって、第四偏向部材２２が通過したレーザビームＧ１を偏向処理する場合、光透過孔２３により、レーザビームＧ２を光透過孔２３に通じさせ、第四偏向部材がレーザビームＧ２を偏向処理する場合、光透過孔により、レーザビームＧ１を光透過孔２３に通じさせる。
【0088】
これから分かるように、該光学分級機１３には第四偏向部材２２のみが設計されることができ、すなわち入射した二本のレーザビームを偏向させ、その出射方向を異ならせることを実現することができ、第三偏向部材２１と類似する技術効果を達成する。ここで、該第四偏向部材２２は、光学分級機１３の大部分の空間を占めることができ、その体積サイズにより加工製造の便宜性を保証することができる。
【0089】
最後に、当業者であれば理解されるように、上記実施例における光学分級機１３に対する解釈は、これを限定するものではない。ここで、図１Ａ、図１Ｂ、図２、図３及び図４に示すように、第一偏向部材１９ａ、第二偏向部材１９ｂ、第三偏向部材２１、第四偏向部材２２等は偏向プリズムであってもよく、ミラー、スイングミラー又は微振動ミラー等のレーザビームの偏向効果を有する素子又は構造であってもよい。
【0090】
本開示の別の態様は、レーザ波長測定システムを開示し、図１Ａ、図１Ｂに示すように、上記レーザ波長測定装置２及びレーザ１を含み、レーザ１は、レーザ波長測定装置２に入射した測定すべきレーザビームを生成し、該レーザ波長測定装置２により、測定すべきレーザビームに対応する中心波長を取得する。ここで、該レーザ１とレーザ波長測定装置２との間にオンライン測定と閉ループ制御フィードバックの設計を有する。
【0091】
本開示のさらに別の態様は、レーザ波長測定方法を開示し、上記レーザ波長測定装置２に応用され、前述のレーザ波長測定演算過程に基づいて、レーザ１のレーザビームの中心波長に対する測定を実現する。
【0092】
本開示は、レーザ波長測定装置及び方法を開示し、該レーザ波長測定装置は、第一光路部品及び第二光路部品を含み、第一光路部品は、レーザから出射されたレーザビームに対して均一化処理を行うために用いられ、第二光路部品は、第一光路部品とレーザ光波長測定光路を構成し、第一光路部品により均一化処理されたレーザビームを分級結像するために用いられ、ここで、第二光路部品は、ＦＰエタロン部品及び光学分級機を含み、均一化処理された前記レーザビームはＦＰエタロン部品を通過して干渉縞を生成し、光学分級機は、レーザ光波長測定光路においてＦＰエタロン部品の後ろに設置され、ＦＰエタロン部品を通過したレーザビームに対して偏向処理を行うことにより、分級結像を実現するために用いられる。本開示のＦＰエタロン部品により、二つのＦＰエタロンが同一の光路を共用して干渉結像を行い、構造がコンパクトで体積が小さく、設計が簡単で、安定性が高く、光学分級機の協力で、レーザ波長に対する正確な測定を同時に実現することができ、波長測定範囲が大きく、レーザ光波長のオンライン測定及び対応的な閉ループ制御フィードバックに適用する。
【0093】
以上に述べた具体的な実施例により、本発明の目的、技術的解決手段及び有益な効果をさらに詳細に説明し、理解すべきものとして、以上の記載は本発明の具体的な実施例に過ぎず、本発明を限定するものではなく、本発明の精神及び原則内で行われたいかなる修正、均等置換、改善などは、いずれも本発明の保護範囲内に含まれるべきである。
【図1A】
【図1B】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【手続補正書】
【提出日】2022-09-29
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１Ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図1B】
【国際調査報告】