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特表2020-507675(P2020-507675A)
IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版
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特表
2020-507675
堆積、注入、及び処理のための、複数の反応ガス、高バイアス電力、並びに高電力インパルス源によるＰＶＤチャンバの拡張
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