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NIKON CORPORATION商標データ

2024年11月22日更新

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商標ランキング2016年 81位(29件)  前年 87位(23件)
総区分数55区分1商標あたりの平均区分数1.9区分
類似群コード最頻出10B01... (出現率55%)区分組み合わせ最頻出区分組み合せマップ41類 & 35類 (出現率14%)
指定商品・指定役務総数10801商標あたりの平均数37
称呼パターン 称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭2音 組み合わせ 1位ニコ (出現率14%)
1位フト (出現率14%)
2位アイ (出現率7%)
2位イン (出現率7%) 他
称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭末尾音 組み合せ 1位エイ (出現率14%)
1位ニン (出現率14%)
1位フー (出現率14%)
2位エス (出現率7%)
2位フジ (出現率7%)
2位メー (出現率7%)

商標登録第5843536号

登録番号 5843536
標準文字
商標タイプ 標準文字商標
称呼 フユーメシル フユメシル ヒューメシル ヒュメシル
区分
指定商品
指定役務
第1類
化学品
半導体製造に用いる化学品
研磨用補助液
半導体用研磨用補助液
製造工程用洗浄剤
半導体製造工程において使用する基板洗浄剤
半導体製造工程において使用する半導体層洗浄剤
のり及び接着剤(事務用又は家庭用のものを除く。)
陶磁器用釉薬
塗装用パテ
写真材料
工業用粉類
第3類
歯磨き
化粧品
研磨紙
研磨布
研磨用砂
人造軽石
つや出し紙
つや出し布
研磨剤(研磨用補助液及び歯科用のものを除く。)
研磨用砥粒
研磨用スラリー
半導体用研磨剤
半導体ウェーハ研磨材
第7類
ガラス器製造機械
塗装機械器具
半導体製造装置
半導体製造装置用砥粒
類似群コード

第1類

01A01 01A02 03B02 03C01 04A01 10E01 33A03

第3類

04B01 04C01 13B03

第7類

09A63 09A64 09A68
権利者

識別番号000004112

株式会社ニコン 株式会社ニコン 株式会社ニコン 株式会社ニコン NIKON CORPORATION
出願日 2015年11月4日
登録日 2016年4月22日
代理人 村山 靖彦真島 竜一郎

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