総区分数 | 55区分 | 1商標あたりの平均区分数 | 1.9区分 |
---|---|---|---|
類似群コード最頻出 | 10B01... (出現率55%) | 区分組み合わせ最頻出 | 41類 & 35類 (出現率14%) |
指定商品・指定役務 | 総数 | 1080 | 1商標あたりの平均数 | 37 |
---|
称呼パターン | 先頭2音 組み合わせ |
1位ニコ (出現率14%)
1位フト (出現率14%) |
2位アイ (出現率7%)
2位イン (出現率7%) 他 |
---|---|---|---|
先頭末尾音 組み合せ |
1位エイ (出現率14%)
1位ニン (出現率14%) 1位フー (出現率14%) |
2位エス (出現率7%)
2位フジ (出現率7%) 2位メー (出現率7%) |
登録番号 | 5843536 |
---|---|
標準文字 | |
商標タイプ | 標準文字商標 |
称呼 | フユーメシル フユメシル ヒューメシル ヒュメシル |
区分 指定商品 指定役務 |
第1類
化学品
第3類
半導体製造に用いる化学品 研磨用補助液 半導体用研磨用補助液 製造工程用洗浄剤 半導体製造工程において使用する基板洗浄剤 半導体製造工程において使用する半導体層洗浄剤 のり及び接着剤(事務用又は家庭用のものを除く。) 陶磁器用釉薬 塗装用パテ 写真材料 工業用粉類 歯磨き
第7類
化粧品 研磨紙 研磨布 研磨用砂 人造軽石 つや出し紙 つや出し布 研磨剤(研磨用補助液及び歯科用のものを除く。) 研磨用砥粒 研磨用スラリー 半導体用研磨剤 半導体ウェーハ研磨材 ガラス器製造機械
塗装機械器具 半導体製造装置 半導体製造装置用砥粒 |
類似群コード |
第1類 01A01 01A02 03B02 03C01 04A01 10E01 33A03第3類 04B01 04C01 13B03第7類 09A63 09A64 09A68 |
権利者 |
識別番号000004112 株式会社ニコン 株式会社ニコン 株式会社ニコン 株式会社ニコン NIKON CORPORATION |
出願日 | 2015年11月4日 |
登録日 | 2016年4月22日 |
代理人 | 村山 靖彦真島 竜一郎 |