【図1】本開示の一実施形態による１つの合成されたままの状態の生成物のＸＲＤパターンを示す図である。

【図2】本開示の一実施形態による１つの焼成済み生成物のＸＲＤパターンを示す図である。

【図3】本開示の一実施形態による他の一の合成されたままの状態の生成物のＸＲＤパターンを示す図である。

【図4】本開示の一実施形態による他の一の焼成済み生成物のＸＲＤパターンを示す図である。

【図5】本開示の実施形態によるいくつかの生成物の流し時間（ｔｉｍｅ ｏｎ ｓｔｒｅａｍ）の関数としての分解速度を示す図である。

【図6】本開示の実施形態によるいくつかの生成物の流し時間の関数としての束縛指数（ｃｏｎｓｔｒａｉｎｔ ｉｎｄｅｘ）を示す図である。

【図7】本開示の一実施形態による追加の合成されたままの状態の生成物のＸＲＤパターンの追加の実例を示す図である。

【図8】本開示の一実施形態による追加の合成されたままの状態の生成物（ＳＳＺ−２５（上）、Ａｌ−ＳＳＺ−７０（Ｆ）（中）及びＡｌ−ＳＳＺ−７０（ＯＨ）（下））のＸＲＤパターンを示す図である。

【図9】本開示の一実施形態による追加の合成されたままの状態の生成物（ＳＳＺ−２５（上）、Ａｌ−ＳＳＺ−７０（Ｆ）（中）及びＡｌ−ＳＳＺ−７０（ＯＨ）（下））のＸＲＤパターンを示す図である。

【図10】本開示の一実施形態による追加の焼成済み生成物（Ｓｉ−ＳＳＺ−７０（Ｆ）（上）、Ａｌ−ＳＳＺ−７０（Ｆ）（中）及びＢ−ＳＳＺ−７０（Ｆ）（下））のＸＲＤパターンを示す図である。

【図11】本開示の一実施形態により得られた生成物Ｓｉ−ＳＳＺ−７０の固体状態２９ＳｉＮＭＲスペクトルを示す図である。上から下へ：Ｓｉ−ＳＳＺ−７０（ＯＨ）ＣＰ−ＭＡＳ、Ｓｉ−ＳＳＺ−７０（ＯＨ）ＢＤ−ＭＡＳ、Ｓｉ−ＳＳＺ−７０（Ｆ）ＣＰＭＡＳ及びＳｉ−ＳＳＺ−７０（Ｆ）ＢＤ−ＭＡＳ。

【図12】本開示の一実施形態により得られた焼成済み生成物Ｓｉ−ＳＳＺ−７０（Ｆ）の固体状態２９ＳｉＢＤ−ＭＡＳ ＮＭＲを示す図である。

【図13】本開示の実施形態により得られた合成されたままの状態のＳｉ−ＳＳＺ−７０（Ｆ）（左）及び焼成済みＡｌ−ＳＳＺ−７０（ＯＨ）（右）の走査型電子顕微鏡写真である。スケールバーは、左右の画像に対してそれぞれ１０及び１マイクロメートルを表す。

【図14】本開示の一実施形態による１つの合成されたままの状態の生成物の透過型電子顕微鏡写真である。

【図15】本開示の一実施形態により合成されたＳＳＺ−７０固体の^１３ＣＣＰ−ＭＡＳを示す図である。上から下へ：ＤＭＳＯ−ｄ_６中親ＳＤＡ（^＊は溶媒を示す）、Ｂ−ＳＳＺ−７０（ＯＨ）、Ｂ−ＳＳＺ−７０（Ｆ）、Ａｌ−ＳＳＺ−７０（Ｆ）及びＡｌ−ＳＳＺ−７０（ＯＨ）。

【図16】本開示の実施形態により得られた合成されたままの状態の生成物Ｓｉ−ＳＳＺ−７０（Ｆ）のＴＧＡを示す図である。

【図17】合成後処理の前後における、本開示の実施形態により得られたＡｌ−ＳＳＺ−７０（ＯＨ）のＴＧＡを示す図である。

【図18】合成後処理の前後における、本開示の一実施形態により合成されたＡｌ−ＳＳＺ−７０（ＯＨ）のＸＲＤパターンを示す図である。下から上へ：親物質、ＤＭＦ抽出済み及び３５０℃処理済み。

【図19】本開示の実施形態により得られたＳＳＺ−７０及びＳＳＺ−２５物質の炭化水素吸着対時間を示す図である。３−ＭＰは、３−メチルペンタンであり、２，２−ＤＭＢは、２，２−ジメチルブタンである。

【図20】本開示の実施形態により得られたＡｌ−ＳＳＺ−７０物質のＣＩ試験分解速度対流し時間を示す図である。

【図21】本開示の実施形態により得られたＡｌ−ＳＳＺ−７０物質の束縛指数対流し時間を示す図である。Ａｌ−ＳＳＺ−７０（ＯＨ−１）＝ＳＤＡ１を用いて合成されたＡｌ−ＳＳＺ−７０（ＯＨ）であり、Ａｌ−ＳＳＺ−７０（ＯＨ−２）＝ＳＤＡ２を用いて合成されたＡｌ−ＳＳＺ−７０（ＯＨ）である。